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          無機(jī)質(zhì)譜概論
          • 主編:
          • 趙墨田、曹永明、陳剛、姜山
          • 出刊日期:
          • 2006/3/1 0:00:00
          • 定價(jià):
          • 39
          • 出版單位:
          • 化工出版社
          • 期刊號(hào):
          • 7-5025-8161-8
          • 推薦指數(shù):
          • 4星
          目錄
          目錄
          第一章無機(jī)質(zhì)譜分析方法發(fā)展的歷史背景1
          第一節(jié)質(zhì)譜儀器1
          一、分析器1
          二、離子源4

          第二節(jié)分析方法9

          一、火花源質(zhì)譜法10

          二、輝光放電質(zhì)譜法11

          三、二次離子質(zhì)譜法12

          四、電感耦合等離子體質(zhì)譜法14

          五、同位素稀釋質(zhì)譜法16

          六、激光電離質(zhì)譜法17

          七、共振電離質(zhì)譜法18

          八、加速器質(zhì)譜法19

          參考文獻(xiàn)19

          第二章輝光放電質(zhì)譜法22

          第一節(jié)引言22

          第二節(jié)輝光放電基本原理23

          一、輝光放電23

          二、輝光放電的濺射和電離24

          三、輝光放電質(zhì)譜26

          第三節(jié)儀器29

          一、離子源29

          二、質(zhì)量分析器32

          三、檢測系統(tǒng)34

          第四節(jié)輝光放電質(zhì)譜分析及特點(diǎn)35

          一、樣品制備與預(yù)處理35

          二、分析參數(shù)的選擇與分析過程36

          三、半定量和定量分析37

          四、分析特點(diǎn)和性能比較40

          第五節(jié)應(yīng)用42

          一、金屬及半導(dǎo)體材料分析42

          二、非導(dǎo)體材料分析47

          三、深度分析49

          參考文獻(xiàn)52

          第三章二次離子質(zhì)譜法54

          第一節(jié)引言54

          第二節(jié)一次離子束64

          一、一次離子源64

          二、一次離子束光路67

          第三節(jié)入射離子與樣品的相互作用(二次離子發(fā)射機(jī)理)72

          一、濺射產(chǎn)額72

          二、二次離子產(chǎn)額80

          第四節(jié)質(zhì)譜儀與離子檢測系統(tǒng)84

          一、質(zhì)譜儀84

          二、離子信號(hào)檢測系統(tǒng)87

          第五節(jié)二次離子質(zhì)譜儀90

          一、二次離子質(zhì)譜儀的分類90

          二、IMS6F型二次離子質(zhì)譜儀93

          三、樣品95

          第六節(jié)二次離子質(zhì)譜法的功能95

          一、深度剖析95

          二、絕緣樣品的分析108

          三、質(zhì)譜分析——質(zhì)量掃描109

          四、線掃描,二次離子質(zhì)譜的橫向線分析110

          五、微區(qū)分析110

          六、三維分析112

          第七節(jié)二次離子質(zhì)譜法的定量分析112

          第八節(jié)二次離子質(zhì)譜法的應(yīng)用118

          一、質(zhì)譜分析——大分子有機(jī)物的鑒別118

          二、深度剖析——IC工藝的探索120

          三、線掃描分析——金屬中雜質(zhì)氫的檢測121

          四、同位素分析——核燃料235U是否給周圍環(huán)境帶來放射性污染的

          檢測122

          五、二次離子圖像分析——馬口鐵組分的三維分布124

          六、絕緣樣品的分析——雜質(zhì)在SOI材料中的分布124

          七、高深度分辨率分析——IC工藝的淺結(jié)剖析125

          八、硅中痕量硼二次離子質(zhì)譜定量分析的異?,F(xiàn)象126

          參考文獻(xiàn)128

          第四章激光微探針質(zhì)譜法130

          第一節(jié)引言130

          第二節(jié)激光束132

          一、激光輻射132

          二、諧振腔133

          三、調(diào)Q(Q開關(guān))技術(shù)134

          四、電光調(diào)制Q135

          五、激光的聚焦136

          六、激光的倍頻137

          第三節(jié)激光與固體的相互作用138

          一、激光等離子體屏蔽概念139

          二、有機(jī)物和無機(jī)物的激光解析140

          第四節(jié)儀器141

          第五節(jié)激光微探針質(zhì)譜法的應(yīng)用146

          一、半導(dǎo)體器件表面及體內(nèi)雜質(zhì)的鑒定147

          二、各種材料微區(qū)沾污物的分析149

          三、在生物、醫(yī)學(xué)領(lǐng)域的應(yīng)用151

          參考文獻(xiàn)152

          第五章加速器質(zhì)譜分析153

          第一節(jié)加速器質(zhì)譜分析原理153

          第二節(jié)加速器質(zhì)譜裝置155

          一、離子源與注入器155

          二、加速器156

          三、高能分析器156

          四、粒子探測器156

          五、其他加

          本書內(nèi)容分為兩部分:第一部分概括性地?cái)⑹隽速|(zhì)譜法,特別是無機(jī)質(zhì)譜法的起源、發(fā)展和完善過程,以及在近代自然科學(xué)發(fā)展歷程中它所扮演的重要角色,使讀者得以簡要了解質(zhì)譜技術(shù),并對(duì)無機(jī)質(zhì)譜有全面概括地了解。第二部分,也是本冊(cè)書的主要部分,分別從實(shí)驗(yàn)和使用角度描述了輝光放電質(zhì)譜、二次離子質(zhì)譜、激光微探針質(zhì)譜、加速器質(zhì)譜和同位素稀釋質(zhì)譜的基本原理、實(shí)驗(yàn)方法和主要應(yīng)用。并在書末列出了國際最新的原子質(zhì)量、原子量與同位素表等。

          本書適宜從事無機(jī)質(zhì)譜分析和借助于無機(jī)質(zhì)譜方法進(jìn)行科學(xué)研究的科技人員學(xué)習(xí)參考,也可作為大專院校相關(guān)專業(yè)師生的參考書。

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