>>>全譜直讀光譜儀產(chǎn)品簡(jiǎn)介>>>

TY-9000型全譜直讀光譜儀采用標(biāo)準(zhǔn)的設(shè)計(jì)和制造工藝技術(shù)，采用全數(shù)字化技術(shù)，替代龐大的光電倍增管（PMT）模擬技術(shù)，與光譜儀技術(shù)同步，采用真空光學(xué)室設(shè)計(jì)及全數(shù)字化激發(fā)光源、的CCD檢測(cè)器、高速數(shù)據(jù)讀出系統(tǒng)，使儀器具有*的性能、極低的檢出線、*的穩(wěn)定性和重復(fù)性。適用于金屬制造業(yè)、加工業(yè)及金屬冶煉業(yè)用于質(zhì)量監(jiān)控、材料牌號(hào)識(shí)別、材料研究和開發(fā)的主要設(shè)備之一。滿足冶煉、金屬制造和機(jī)械加工的用戶要求，采用全電腦控制全數(shù)字火花光源，運(yùn)用CCD檢測(cè)技術(shù)及*的真空光室，可精確測(cè)定非金屬元素中各種合金元素含量，實(shí)現(xiàn)全譜分析。測(cè)定結(jié)果精準(zhǔn)，重現(xiàn)性及*穩(wěn)定性。

>>>產(chǎn)品特點(diǎn)>>>

1. 可精確測(cè)定各種合金元素含量，測(cè)定結(jié)果精準(zhǔn)，重現(xiàn)性及*穩(wěn)定性；

2. *的真空光學(xué)室結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，使真空室容積更小，抽真空速度不到普通光譜儀的一半。將入射窗與真空室分離使入射窗日常清洗維護(hù)方便快捷；

3. 光學(xué)系統(tǒng)自動(dòng)進(jìn)行譜線掃描，自動(dòng)光路校準(zhǔn)，確保譜線接收的正確性，免除繁瑣的波峰掃描工作；

4. *的激發(fā)臺(tái)及氬氣氣路設(shè)計(jì)，大大降低了氬氣使用量。靈活的樣品夾設(shè)計(jì)，以滿足客戶現(xiàn)場(chǎng)的各種形狀大小的樣品分析；

5. 不增加硬件設(shè)施的情況下，可實(shí)現(xiàn)多基體分析。相比光電倍增管光譜儀可大大降低使用成本及使用范圍；

6. 采用噴射電極技術(shù)。在激發(fā)狀態(tài)下，電極周圍會(huì)形成氬氣噴射氣流，這樣在激發(fā)過程中激發(fā)點(diǎn)周圍不會(huì)與外界空氣接觸，提高激發(fā)精度；

7. 的光譜操作軟件*兼容于windows系統(tǒng)。同時(shí)可以根據(jù)客戶需求配備各種語言版本。軟件操作簡(jiǎn)單即使沒有任何光譜儀知識(shí)及操作經(jīng)驗(yàn)的人員只需經(jīng)過簡(jiǎn)單的培訓(xùn)即可上手使用；

8. 采用高性能FPGA、DSP及ARM處理器，具有超高速數(shù)據(jù)采集分析功能，并能自動(dòng)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)控制光室溫度、真空度、氬氣壓力、激發(fā)光源等模塊的運(yùn)行狀況；

9. 全數(shù)字化等離子激發(fā)光源，超穩(wěn)定能量釋放在氬氣環(huán)境中激發(fā)樣品。全數(shù)字激發(fā)脈沖，確保激發(fā)樣品等離子體能量超高分辨率和高穩(wěn)定輸出。滿足各種不同材料的激發(fā)要求；

10. 樣品激發(fā)臺(tái)采用銅火花臺(tái)底座，鎢材料電極；銅火花臺(tái)底座為激發(fā)臺(tái)提供較好的散熱及堅(jiān)固等特性，同時(shí)鎢電極使用壽命長，耐高溫等特性也提高了激發(fā)的性能；電極自吹掃功能的設(shè)計(jì)，為激發(fā)創(chuàng)造了良好的環(huán)境，也使激發(fā)臺(tái)清潔電極更加容易。

>>>技術(shù)特點(diǎn)>>>

1、光學(xué)系統(tǒng)

1) 分析基體：Fe、Cu、Al、Ni、Ti、Co、Zn、Sn、Mg、Pb等；

2) 光學(xué)結(jié)構(gòu)：帕邢-龍格羅蘭圓全譜真空型光學(xué)系統(tǒng)；

3) 波長范圍：130-800nm；

4) 焦距：400mm；

5) 光柵刻線：3000條；

6) 探測(cè)器：多個(gè)高性能CCD探測(cè)器；

7) 電極：鎢材噴射電極；

8) 分析間隙：樣品臺(tái)分析間隙：3.4mm；

9) 光源類型：全新可調(diào)節(jié)數(shù)字化光源，高能預(yù)燃技術(shù)（HEPS）；

10) 激發(fā)頻率：100-1000Hz；

11) zui大放電電流：400A；

12) 真空系統(tǒng)：真空軟件自動(dòng)控制、監(jiān)測(cè)，真空光室設(shè)計(jì)，保證C、S、P、N都能達(dá)到*性能，一體化光學(xué)室加工成型，耐環(huán)境中的溫度變化；

13) 光室恒溫控制：恒溫溫度35℃；直射式光學(xué)技術(shù)及透鏡MgF2材料，保證C、S、P、N紫外波長的*能量。

2、樣品激發(fā)臺(tái)

1) 集成氣路、噴射電極技術(shù)；

2) 優(yōu)化的氬氣氣路設(shè)計(jì)保證激發(fā)臺(tái)的有效冷卻和激發(fā)過程中產(chǎn)生的金屬粉塵有效進(jìn)入過濾器；使樣品激發(fā)更加穩(wěn)定，并大大減少了人體對(duì)金屬粉塵的攝入，有利于保護(hù)操作人員的健康安全；

3) 更小的激發(fā)空間，使氬氣消耗更?。?/span>

4) 便于使用的樣品夾具；

5) 具有電極自吹掃功能，使電極使用壽命更長、清潔電極更加容易；

6) 13mm的激發(fā)孔徑更利于樣品分析；

7) 開放式樣品激發(fā)臺(tái)可適應(yīng)各種大小、更多形狀樣品的分析（含線材）；

8) 單反式透鏡裝置設(shè)計(jì)，一般人員都能方便對(duì)激發(fā)臺(tái)進(jìn)行維護(hù)和透鏡的清洗。

3、激發(fā)光源

1) 全新可調(diào)節(jié)數(shù)字化光源，zui高頻率可達(dá)1000Hz；

2) 高能預(yù)然技術(shù)（HEPS）；

3) 優(yōu)化設(shè)計(jì)的控制和功率電路，完善的激發(fā)安全保護(hù)功能；

4) 為不同分析目標(biāo)提供*火花、電弧或組合激發(fā)波形；

5) 放電電流：zui大400A。

4、數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)

1) 高性能ARM數(shù)據(jù)處理器，具有超高速數(shù)據(jù)采集及控制功能；

2) 高性能CCD固態(tài)檢測(cè)技術(shù)，波段內(nèi)的譜線全譜接收；

3) 外置式計(jì)算機(jī)；

4) FPGA及高速數(shù)據(jù)通訊技術(shù)，數(shù)據(jù)讀入功能強(qiáng)大，檢測(cè)數(shù)據(jù)整體讀入時(shí)間短。

5、分析軟件

1) 基于Windows系統(tǒng)的多國語言的CCD全譜圖形化分析軟件，方便實(shí)用；

2) *管理的控制整個(gè)測(cè)量過程及為用戶提供強(qiáng)大的數(shù)據(jù)處理能力和測(cè)試報(bào)告輸出能力；

3) 儀器可配置多條工廠校正曲線及更多材質(zhì)分析及*解決方案；

4) 軟件實(shí)現(xiàn)全譜檢測(cè)、智能扣干擾、扣暗電流、背景和噪聲的算法，提高儀器的分析能力；

5) 完備的自動(dòng)系統(tǒng)診斷功能；

6) 完善的數(shù)據(jù)庫管理功能，可方便查詢、匯總數(shù)據(jù)；

7) 智能校正算法，保證儀器穩(wěn)定可靠；

8) 完備的譜線信息和干擾扣除算法，保證儀器分析更為精準(zhǔn)；

9) 適應(yīng)的Windows操作系統(tǒng)。

>>>技術(shù)描述>>>

1. 檢測(cè)基體：Fe基、鋁基、銅基；

2. 檢測(cè)時(shí)間：試樣品類型而定，一般25s左右；

3. 光學(xué)系統(tǒng)：帕型－龍格羅蘭圓全譜真空型光學(xué)系統(tǒng)；

4. 波長范圍：130～800nm；

5. 焦距：400mm；

6. 探測(cè)器：高性能CCD陣列；

7. 電極：鎢材噴射電極；

8. 分析間隙：樣品臺(tái)分析間隙：3.4mm；

9. 工作溫度：(10～35)℃；

10. 存儲(chǔ)溫度：(0～45)℃；

11. 工作濕度：20％～80％；

12. 氬氣純度要求：99.999%；

13. 氬氣進(jìn)口壓力：0.5MPa；

14. 氬氣流量：激發(fā)流量約3.5L/min，維持流量約0.4L/min；

15. 激發(fā)zui大功率：400VA；

16. 光源類型：全新可調(diào)節(jié)數(shù)字化光源，高能預(yù)燃技術(shù)（HEPS）；

17. 放電頻率：100-1000Hz；

18. 放電電流：zui大400A；

19. 激發(fā)臺(tái)孔徑：13mm；

20. 真空系統(tǒng)：真空軟件自動(dòng)控制、監(jiān)測(cè)；

21. 工作電源：220V AC，50/60Hz，保護(hù)性接地的單相電源；

22. 儀器尺寸：860*720*500；

23. 儀器重量：約100kg。