品質(zhì)創(chuàng)造價值 矽萬半導體驚艷亮相納博會
【化工儀器網(wǎng) 廠商報道】2024年10月23日，第十四屆中國國際納米技術產(chǎn)業(yè)博覽會(CHInano)在蘇州國際博覽中心盛大開幕。本次博覽會為期三天，聚焦微納制造、第三代半導體、納米應用等多個前沿科技領域，吸引了超過2400家相關企業(yè)參展參會。矽萬(上海)半導體科技有限公司作為半導體行業(yè)的技術型企業(yè)，也應邀參加了此次盛會。
矽萬(上海)半導體科技有限公司(以下簡稱：矽萬半導體)是一家致力于設計、研發(fā)、生產(chǎn)、銷售和服務高精密半導體設備的高新技術中外合資企業(yè)。公司以“品質(zhì)創(chuàng)造價值，服務實現(xiàn)共贏”為經(jīng)營理念，專注于為客戶提供PicoMaster無掩模激光直寫光刻機，包括設備的安裝調(diào)試、工藝改進、軟件開發(fā)、以及可選配的涂膠顯影清洗設備等。
矽萬半導體展臺現(xiàn)場
在本次CHInano博覽會上，矽萬半導體向參展觀眾展示了其最新的半導體技術和產(chǎn)品，包括高精度/高灰度光刻解決方案、超大幅面高精度光刻解決方案等。作為一家專注于半導體技術研發(fā)與生產(chǎn)的公司，矽萬在半導體制造領域積累了豐富的經(jīng)驗和技術實力。此次參展，不僅展示了公司的最新成果，也為業(yè)界提供了一個深入了解矽萬半導體技術和產(chǎn)品的平臺。
高精度/高灰度光刻解決方案
產(chǎn)品名稱：PicoMaster ATE-200
技術規(guī)格：
分辨率300nm
灰度光刻4096階
Energy Compensation Method(ECM)
高精度/高灰度光刻解決方案
應用效果圖
超大幅面高精度光刻解決方案
產(chǎn)品名稱：PICOMASTETR XF ATE-1000
技術規(guī)格：
400nm最小分辨率
400nm, 600nm, 1.5um和2.5um四種分辨率自動切換
最大直寫速度5000m㎡/minute
光源波長355nm
256階灰度光刻
幅面200，500，800，1000和1400
超大幅面高精度光刻解決方案
應用效果圖
在博覽會期間，矽萬半導體與來自全球的同行進行了深入的交流與合作探討，共同探討了半導體技術的發(fā)展趨勢和未來方向。通過此次參展，矽萬半導體不僅擴大了自身的品牌影響力，也進一步了解了市場需求和行業(yè)發(fā)展趨勢，為未來的技術研發(fā)和市場拓展提供了寶貴的經(jīng)驗和信息。相信未來，矽萬半導體將繼續(xù)秉承創(chuàng)新、務實、高效的企業(yè)精神，不斷加強技術研發(fā)和市場拓展，為全球半導體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展做出更大的貢獻。
關注本網(wǎng)官方微信 隨時閱讀專業(yè)資訊
- 關注納米技術產(chǎn)業(yè)發(fā)展 天仁微納攜納米壓印光刻設備亮相納博會 2024-10-25 15:13:58
- 此次納博會吸引了全球納米科技領域的優(yōu)質(zhì)企業(yè)及眾多行業(yè)內(nèi)的精英匯聚一堂，共襄盛舉。青島天仁微納科技有限責任公司(以下簡稱：天仁微納)作為參展企業(yè)之一，攜旗下GL300 Cluster 200/300mm全自動納米壓印光刻生產(chǎn)線、GL8 CLIV Gen2 200mm高精度紫外納米壓印光
- 聚焦第十四屆納博會 雷博科儀攜薄膜制備設備彰顯實力 2024-10-25 11:34:04
- 雷博科儀亮相第十四屆納博會，攜其最新研發(fā)的HP100-SA充氮型程控烤膠機和AC200-SE標準型程控伺服勻膠機驚艷亮相，展現(xiàn)了公司在高性能薄膜制備設備領域的創(chuàng)新實力。
- 納騰儀器閃耀第十四屆納博會，硬實力展現(xiàn)科技魅力 2024-10-25 10:48:24
- 上海納騰儀器有限公司（以下簡稱“納騰儀器”）作為納米科學儀器領域的佼佼者，攜其產(chǎn)品亮相此次納博會，成為展會的一大亮點。
- 預算290萬 北京大學集成電路學院采購場發(fā)射電鏡電子束曝光系統(tǒng) 2024-10-21 10:32:12
- 近日，北京大學集成電路學院就“場發(fā)射電鏡電子束曝光系統(tǒng)采購項目”發(fā)布招標公告，預算金額為290萬元。
版權與免責聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源：化工儀器網(wǎng)”的所有作品，均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權或有權使用的作品，未經(jīng)本網(wǎng)授權不得轉載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權使用作品的，應在授權范圍內(nèi)使用，并注明“來源：化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者，本網(wǎng)將追究其相關法律責任。
- 本網(wǎng)轉載并注明自其它來源（非化工儀器網(wǎng)）的作品，目的在于傳遞更多信息，并不代表本網(wǎng)贊同其觀點或和對其真實性負責，不承擔此類作品侵權行為的直接責任及連帶責任。其他媒體、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉載時，必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源，并自負版權等法律責任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權等問題，請在作品發(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系，否則視為放棄相關權利。
