2024-10-22
 |
v 光源：375 nm、385 nm、405 nm 激光器
v 線寬：0.5μm、0.6μm、1.0μm、1.5μm
v 光刻效率：3000mm2/min@5μm
v XY行程：55~205mm
v 樣品尺寸：最小3mm*3mm 8 inch
v 應(yīng)用領(lǐng)域：生物芯片、功率芯片光刻、掩膜版制造、3D衍射光學(xué)元件、芯片封裝、光通訊芯片光刻
免責(zé)聲明：以上所展示的信息由企業(yè)自行提供，內(nèi)容的真實(shí)性、準(zhǔn)確性和合法性由發(fā)布企業(yè)負(fù)責(zé)，化工儀器網(wǎng)對(duì)此不承擔(dān)任何保證責(zé)任。
研啟科學(xué)儀器（東莞）有限公司
相關(guān)供應(yīng)
- PALET DDB-701-日本無掩膜光刻機(jī) 小批
- C-25型單面光刻機(jī) 高精度
- C-25XA型 4英寸/6英寸 高精度對(duì)準(zhǔn)光刻
- C-25X型4英寸/6英寸單面光刻機(jī)精密光刻
- C-25XB型 4英寸/6英寸 高精度對(duì)準(zhǔn)光刻
- C-31型 雙面國產(chǎn)光刻機(jī)
- C-33型 4英寸 國產(chǎn)高精度對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)
- C-33型 國產(chǎn)雙面光刻機(jī) 精密光刻設(shè)備
- C-43型多點(diǎn)光源曝光頭高精度國產(chǎn)光刻機(jī)
- C-43型 9英寸-國產(chǎn)光刻機(jī)
- 德國海德堡進(jìn)口科研型3D納米激光直寫光
- ABN-MLM-001-無掩模光刻機(jī)
采購中心