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          C-25XB型 4英寸/6英寸 高精度對準(zhǔn)光刻機

          2024-11-05

          產(chǎn)      地:
          暫無
          所在地區(qū):
          北京北京市
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          C-25XB型 4英寸/6英寸 高精度對準(zhǔn)光刻機主要用途

          本機針對各大專院校、企業(yè)及科研單位。對光刻機使用特性研發(fā)的一種高精度的光刻機,三層減震,組合式,拆卸方便。


           它主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路、電力電子器件的研制和生產(chǎn),適合硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片、寶石片的曝光,而且也適合易碎片如:砷化鉀、磷化銦的曝光以及非圓形基片和小型基片的曝光。



          C-25XB型 4英寸/6英寸 高精度對準(zhǔn)光刻機主要性能指標(biāo):


          1. 多種版夾盤


          l C-25X300型4英寸有四種版夾盤,能真空吸附5"×5"或4"×4"或3"×3"方形掩板。對版的厚度無特殊要求(1~4mm皆可)。


          l C-25X300型6英寸有六種版夾盤,能真空吸附7"×7"或6"×6"或5"×5"或4"×4"或3"×3"或2.5"×2.5"方形掩板。對版的厚度無特殊要求(1~4mm皆可)。



          2. 真空吸附基片的“承片臺”


          l C-25X300型4英寸設(shè)有相對應(yīng)的真空吸附基片的“承片臺”三個,分別適用于φ2、φ3、φ4。對于非標(biāo)準(zhǔn)片或碎片,只要堵塞相應(yīng)的小孔,同樣能真空吸附。


          l C-25X300型6英寸設(shè)有相對應(yīng)的真空吸附基片的“承片臺”五個,分別適用于φ2、φ3、φ4、φ5、φ6。對于非標(biāo)準(zhǔn)片或碎片,只要堵塞相應(yīng)的小孔,同樣能真空吸附。



          3. 照明


          l 曝光面積:100mm*100mm


          l 曝光不均勻性≤3%


          l 曝光強度≥40mW/cm2可調(diào)


          l 紫外光束角≤3°


          l 紫外光中心波長365nm、404nm、435nm可選


          l 紫外光源壽命:≥2萬小時



          4. 采用進(jìn)口時間繼電器(該繼電器可從0.1秒∽999.9秒預(yù)設(shè))控制氣動快門,動作準(zhǔn)確可靠。



          5. 該機為接觸式曝光機,但可實現(xiàn):


          l 硬接觸曝光:用管道真空來獲得高真空接觸。真空≤-0.05MPa。


          l 軟接觸曝光:接觸壓力可將真空降到-0.02MPa ~ -0.05MPa之間。


          l 微力接觸曝光:小于軟接觸。真空≥-0.02MPa。



          6. 分辯率估計


          如果用戶的“版”、“片”精度符合國家規(guī)定,環(huán)境、溫度、濕度、塵埃得到嚴(yán)格控制,采用進(jìn)口正性光刻膠,且勻膠厚度得到嚴(yán)格控制。加之前后工藝優(yōu)良的話,硬接觸曝光的最小分辨度可達(dá)1μm以上



          7. 對準(zhǔn)


          觀察系統(tǒng)為兩個單筒顯微鏡上裝二個CCD攝像頭,通過視屏線連接到顯視屏上。


          a.單筒顯微鏡為0.7X~4.5X連續(xù)變倍顯微鏡(也可為1.6X~10X)。


          b.CCD攝像機靶面對角線尺寸為:1/3,(6mm);


          c.采用19"液晶監(jiān)視器,其數(shù)字放大倍率為19÷1/3=57倍;


          d.觀察系統(tǒng)放大倍數(shù)為:0.7×57≈40倍(最小倍數(shù)),4.5×57≈256倍(最大倍數(shù))或(91倍~570倍)。


          對準(zhǔn)臺:(采用片動,版不動方式)


          X、Y調(diào)整:±5mm。


          θ調(diào)整:轉(zhuǎn)角≤5°


          對準(zhǔn)間隙(分離間隙)0~5mm任意可調(diào)。


          對準(zhǔn)精度:1μm


          套刻精度:1μm


          整個對準(zhǔn)臺相對于顯微鏡可作±20mm掃描運動。


          “接觸、分離”20μm情況下,片相對于版的“漂移量”,可調(diào)到≤±0.5μm。



          8. 設(shè)備所需能源:


          主機電源: 220V±10%   50HZ


          潔凈空氣≥0.4MPα。


          真空:-0.07~-0.08MPα。



          9. 尺寸和重量:


          尺寸:機體720 mm(長)×720 mm(寬)×882mm(高)。


          重量:≤100Kg。


          機體放在專用工作臺上。


          工作臺:1100 mm(長)×750 mm(寬)×645 mm(高)。


          高度可調(diào)范圍0~30mm。


          重量50Kg(工作臺后側(cè)裝有電氣部分)。


          總重量≤200Kg



          10. C-25XB型光刻機的組成


          l 主機


          主機(含機體和工作臺)


          對準(zhǔn)用單筒顯微鏡


          LED曝光頭


          l 附件


          主機附件


          3"□型掩版夾盤


          4"□型掩版夾盤(出廠時安裝到機器上)


          用于2"基片的真空夾持承片臺。


          用于3"基片的真空夾持承片臺(出廠時安裝到機器上)


          (若需特殊的基片承片臺,訂貨時用戶提出)


          顯微鏡組成


          單筒顯微鏡二個


          兩個CCD


          視頻連接線。


          計算機和22"液晶監(jiān)視器。



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