產(chǎn)品介紹：PS系列圓筒式等離子處理系統(tǒng)、

一款*模塊設(shè)計(jì)的圓筒式等離子處理系統(tǒng)

PS系列圓筒式等離子處理系統(tǒng)重新定義了圓筒式等離子處理工藝。該等離子處理系統(tǒng)基于模塊化設(shè)計(jì)制造，采用一款通用的真空處理艙及機(jī)箱，多款電極模塊方便整體系統(tǒng)的組裝及配置。PS系列圓筒式等離子處理系統(tǒng)帶給用戶方便操作，提供多種等離子處理工藝、方便維護(hù)及性價(jià)比高的系統(tǒng)比業(yè)內(nèi)氣體等離子處理系統(tǒng)更具競爭力。

圓筒式等離子處理系統(tǒng)描述

等離子工藝處理的研發(fā)需要多功能且可靠的設(shè)備。為了滿足等離子研究日新月異的要求，用戶選購的系統(tǒng)設(shè)備滿足zui大范圍的等離子工藝參數(shù)需要，工藝驗(yàn)證需要極其高的可重復(fù)性，必須方便改造用于新的等離子工藝需要。PS是一款滿足等離子去膠，清除浮渣，各向同性和各向同性蝕刻 ，有機(jī)物灰化，混合電路清洗，印刷電路板（PCB）去污，故障分析，表面處理及其塑料件改性，聚合物沉積，等等其他等離子應(yīng)用的研究，工藝開發(fā)及其小批量生產(chǎn)的等離子系統(tǒng)工具，用于zui大八英寸基片的精密等離子刻蝕及沉積。該等離子系統(tǒng)可以容納處理多塊晶圓片。

PS系列圓筒式等離子處理系統(tǒng)提供圓筒式等離子系統(tǒng)的*模塊化設(shè)計(jì)。PS系列圓筒式等離子處理系統(tǒng)可容納處理zui大200mm或是更小的基片（單晶圓片反應(yīng)離子刻蝕（RIE）處理，300mm晶圓片可以處理）。該系統(tǒng)的建造采用高質(zhì)量認(rèn)可的部件、模塊化裝配、多功能真空艙體-電極設(shè)計(jì)、結(jié)構(gòu)緊湊、自動(dòng)化及業(yè)內(nèi)認(rèn)可工藝程序使得PS等離子處理系統(tǒng)成為工藝工程師*干法設(shè)備。

系列圓筒式等離子處理系統(tǒng)應(yīng)用

. PS系列圓筒式等離子處理系統(tǒng)配備的真空機(jī)電極配置使得該系統(tǒng)能夠滿足廣泛的等離子工藝處理要求。這些等離子工藝包括簡單的材料表面清洗到復(fù)雜的亞納米級反應(yīng)離子刻蝕（RIE）蝕刻；基與眾多客戶群的緊密協(xié)作，我們開發(fā)出業(yè)內(nèi)認(rèn)可的工藝程序，保證系統(tǒng)滿足用戶所需。用于生產(chǎn)制造的系統(tǒng)設(shè)備均采用zui高質(zhì)量的部件，保證我們的系統(tǒng)提供zui大可能的正常運(yùn)行時(shí)間、 可靠性、重復(fù)性及耐用性。

PS系列圓筒式等離子處理系統(tǒng)典型等離子工藝處理包括

· 等離子清除浮渣（Plasma Descuming）

· 光刻膠去膠（Photoresist Stripping）

· 等離子材料表面處理（Surface Treatment）

· 等離子各向同性和各向同性蝕刻（Anisotropic & Isotropic Etching）

· 故障分析應(yīng)用（Failure Analysis Applications）

· 材料改性（Material Modification）

· 封裝清洗（Package Cleaning）

· 鈍化層刻蝕（Passivation Etching）

· 聚酰亞胺刻蝕（Polyimide Etching）

· 促進(jìn)粘合（Adhesion Promotion）

· 生物醫(yī)學(xué)應(yīng)用（Biomedical Applications）

· 等離子聚合反應(yīng)（Polymerizaton）

· 混合清洗（Hybrid Cleaning）

· 預(yù)鍵合清洗（Pre-Bond Cleaning）

PS系列圓筒式等離子處理系統(tǒng)zui大的成功來源于其多功能模塊設(shè)計(jì)。這些特點(diǎn)包括極小占地面積的臺面使用，或是層流安裝和模塊化真空艙室及電極配置，滿足廣泛的等離子工藝處理需要。此外，觸摸屏電腦控制系統(tǒng)提供了簡便操作及多層次程序/菜單控制，系統(tǒng)操作及部件控制。多款真空泵浦系統(tǒng)可選配。

PS系列圓筒式等離子處理系統(tǒng)基本系統(tǒng)

PS系列圓筒式等離子處理系統(tǒng)的通用機(jī)箱配置包括所有必要的電磁閥、真空泵浦、射頻（RF）電源、射頻（RF）匹配器、工藝氣體控制及系統(tǒng)邏輯。這些配置提供了一款全自動(dòng)化等離子處理系統(tǒng)。通用機(jī)柜可容納不同真空處理艙室，電極模塊；方便植入機(jī)柜之中。幾分鐘之內(nèi)，系統(tǒng)可以從一款普通的轉(zhuǎn)筒式等離子處理系統(tǒng)變成一款反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)、平板電極處理系統(tǒng)、或是帶支架的混合等離子清洗系統(tǒng)。

PS系列圓筒式等離子處理系統(tǒng)真空艙/電極

PS系列圓筒式等離子處理系統(tǒng)的模塊化真空艙及電極組件是該款系統(tǒng)的亮點(diǎn)。真空艙采用硬質(zhì)陽極氧化鋁建造。幾款不同的電極設(shè)計(jì)可供選配，其中包括水冷式（溫度控制）平板電極用于反應(yīng)離子刻蝕（RIE）及平板式等離子工藝處理，更換托盤式（tray electrodes）電極用于表面清洗或處理，下游電極（downstream electrodes）用于減少離子損傷，圓筒籠式（cage electrodes）電極用途普通轉(zhuǎn)筒式等離子處理。

PS系列圓筒式等離子處理系統(tǒng) 等離子電源

PS系列圓筒式等離子處理系統(tǒng)采用一款600W@13.56 MHz射頻（RF）電源，配備自動(dòng)匹配器網(wǎng)絡(luò)。

圓筒式等離子工藝處理真空泵浦系統(tǒng)

根據(jù)用戶的真空等離子工藝級別需要，系統(tǒng)配備機(jī)械泵、機(jī)械泵及渦輪分子泵，或是帶魯氏鼓風(fēng)機(jī)的機(jī)械泵。也可根據(jù)所需真空處理級別配備不同尺寸大小的真空泵浦。

真空泵浦填充惰性泵油，用于氧氣或腐蝕性化學(xué)氣體應(yīng)用。兩套質(zhì)量流量控制器（MFC）控制氣源管路標(biāo)配為zui多兩路。下游壓力控制為選配。

PS系列圓筒式等離子處理系統(tǒng) 電腦控制

PS系列圓筒式等離子處理系統(tǒng)觸摸屏控制的電腦提供無線程序/菜單存儲。多步驟工藝簡單易存。工藝條件連續(xù)實(shí)時(shí)顯示。該控制系統(tǒng)編程建議且具有工藝保護(hù)功能。工藝處理可以條形碼形式 （選配）。

PS系列圓筒式等離子處理系統(tǒng)選配

眾多的工藝 處理選配使得PS系列圓筒式等離子處理系統(tǒng)具有更強(qiáng)大的處理能力。

PS系列圓筒式等離子處理系統(tǒng)尺寸

圓筒式等離子處理系統(tǒng)主機(jī)： 89厘米 寬 x 81厘米 深x 53厘米 高
真空處理艙（內(nèi)部） Width 14.75" x Depth 17" x Height 12"

PS系列圓筒式等離子處理系統(tǒng)重量： 70公斤

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