化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專(zhuān)用儀器>熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備>退火爐>AS-ONE100/150 法國(guó)ANNEALSYS快速退火爐(RTP)
Annealsys的RTP快速熱處理、小型MOCVD,Centrotherm的廢氣處理設(shè)備,F(xiàn)lowlink高純特氣閥門(mén)
多用途快速退火爐設(shè)備,適用于硅,化合物半導(dǎo)體,光子學(xué)& MEMS
zui高溫度到1500℃, 升溫速率zui大200℃/s, 高真空性能,快速冷卻選項(xiàng)
應(yīng)用:•注入退火
•合金接觸
•快速熱氧化(RTO)
•快速熱氮化 (RTN)
•從旋涂摻雜物擴(kuò)散
•致密性和結(jié)晶化
硅化等工藝
基片類(lèi)型:硅片、化合物半導(dǎo)體硅片、太陽(yáng)能電池用的多晶硅片、玻璃基片、金屬基片、石墨舟等。
主要特點(diǎn):•配有無(wú)聲風(fēng)扇冷卻的紅外鹵素管燈退火爐
•不銹鋼冷壁腔室技術(shù)
•快速數(shù)字PID溫度控制器
•熱電偶和高溫計(jì)控制
•大氣和真空下工藝性能
•配有針閥的吹掃氣路
•zui多5路工藝氣路配有數(shù)字MFC控制器
配有以太網(wǎng)通訊的PC控制,用于快速數(shù)據(jù)記錄
•可選渦輪分子泵和壓力控制