1化學(xué)鎳自動加藥系統(tǒng)，酸性蝕刻添加系統(tǒng)，鍍金自動添加系統(tǒng)，禾威WALCHEM WCU/WNI/WEC/WPH 控制器，倒置式金相顯微鏡;金相消耗品;手提式涂層測厚儀;長臂板厚測量儀;熒光金屬鍍層測厚儀;測厚儀/標(biāo)準(zhǔn)片;磨拋機(jī);研磨/拋光兩用機(jī);金相切割機(jī);環(huán)氧乙烷滅菌箱;比重-密度天平;電子分析天平;鍍鎳自動添加系統(tǒng);X射線測厚儀;鍍銅蝕銅自動添加控制器;導(dǎo)電率自動添加控制器;凝膠化時間測試儀;水質(zhì)測試包;銅箔抗剝離強(qiáng)度測試儀;
氧化鋁
拋光液
拋光膏
氧化鋁又稱為剛玉，在摩氏硬度表中位列第9級，具有很大的硬度。又因有六角柱體的晶格結(jié)構(gòu)，十分適合再研磨材料。且相對比鉆石更低廉的價錢。所以氧化鋁它成為研磨和拋光的好材料。
氧化鋁拋光液采用納米級的氧化鋁拋光粉調(diào)制而成! 粒度可控，顆粒度分布集中，并具有以下特點(diǎn)：
1、 軟硬度適中、不劃傷被拋物面。
2、 懸浮性好，不易沉淀，使用方便。
3、 分散性好、乳液均一，極大提高了拋光效率和精度。
氧化鋁拋光液適用領(lǐng)域：
適用于金相切片分析，金屬拋光，單晶矽片，線材端子，鋁合金、光學(xué)鏡頭、單芯光纖連接器、微晶玻璃基板、晶體表面、寶石、玻璃制品、金屬制品、半導(dǎo)體材料、塑料、磁帶、打磨帶等各種精密產(chǎn)品的研磨拋光。顆粒均勻!拋光效果好!經(jīng)濟(jì)實惠!
拋光粉
研磨膏
懸浮液
技術(shù)指標(biāo)：
項 目 | 指 標(biāo) |
外觀 | 白色液體 |
主要晶相 | α相 |
平均粒度(D：50nm) | 50-200 |
濃度（wt％） | 20-40 |
納米氧化鋁純度(%) | ≥99.8 |
備注：以上也可根據(jù)用戶需要不同濃度和不同粒度而調(diào)整。
注意事項：
1． 以防少許沉淀，建議使用前先搖勻，直接噴涂在拋光布上即可。
2． 使用時，以不同濃度并據(jù)不同行業(yè)的需要可用過濾清潔水加以稀釋，調(diào)制不同濃度。
儲 存：本品需在0℃以上儲存，防止結(jié)塊，在0℃以下因產(chǎn)生不可再分散結(jié)塊而失效。
包 裝：250ML/瓶、500ML/瓶。
研磨
拋光
剛玉
品級：C級3.0CR*500ml
B級1.0CR*500ml
A級0.3CR*500ml
A級0.05CR*500ml
A級5.0CR*250ml
A級3.0CR*250ml
A級1.0CR*250ml
A級0.5CR*250ml
A級0.3CR*250ml
A級0.05CR*250ml
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