NONSEQUITUR 離子源離子槍 ION GUNS: MODEL 1401 5EV – 5KEV 氣相離子源

Nonsequitur公司的Model 1401離子源離子槍非常適合用于表面化學實驗，例如使用Auger 和ESCA進行樣品制備和深度分析，可以用于惰性氣體。

在工作距離為25毫米，束流大小為20安時,光斑為直徑0.4毫米.相比較于其他的離子槍而言,離子槍型號1401能提供的電流密度是其他離子槍的1-倍。當束流為1 A時,光斑最小可以選擇到50米電子束能量可以在范圍5eV到5keV中選擇,并同時保持樣品的最佳聚焦。束流大小可以調(diào)節(jié),并不受電子束能量的影響,無需外部設備,可以直接從前面板進行調(diào)節(jié)。

通過電子沖擊來生成離子,雙燈絲設計可以延長使用壽命,而無需中斷設備的使用。離子源的真空燈絲處于離軸狀態(tài),以防止燈絲材料沉積到樣品上。
離子源可以直接或通過單獨的渦輪泵差動泵入系統(tǒng)，以提高系統(tǒng)真空。

帶有電源和掃描電子設備的控制器安裝在一個5-1/4英寸高的19英寸機架安裝柜中。離子槍可以從前面板上控制，也可以通過一個靈活的界面來控制，該界面允許控制射束和聚焦電壓、電離電流、氣體、射束開/關(guān)以及光柵。光柵掃描是數(shù)字生成的，用于均勻的蝕刻速率。

NONSEQUITUR 離子源離子槍設計特點:

• 高電流密度15至50 mA/cm2，取決于所選的斑點尺寸。
• 穩(wěn)定發(fā)射的離子源設計。
• 典型燈絲壽命大于500小時的雙鎢絲。氧化釔涂層銥可選。
• 可更換的光束微調(diào)孔，典型壽命> 500小時。
• 制造中使用的所有UHV兼容和抗蝕刻材料。
• 差動泵送使主室氣體負荷最小化。
• 噴槍易于拆卸，便于維護。
• 電氣連接和氣體入口位于一個法蘭上，便于安裝。
• 預設提取和聚光透鏡參數(shù)(三個光斑尺寸設置)，可重復操作。
• 整體束流測量。
• 離子源壓力的直接測量。
• 系統(tǒng)和電纜聯(lián)鎖裝置可防止在真空不良或電纜拆除的情況下激發(fā)高壓。
• 單個5-1/4高19英寸機架安裝外殼中的電源和光柵發(fā)生器。
• 用于均勻蝕刻輪廓的數(shù)字生成光柵選項。
• 計算機控制選項。
• 可選離子源壓力調(diào)節(jié)。