微波等離子去膠機
- 公司名稱 北京匯德信科技有限公司
- 品牌
- 型號
- 產(chǎn)地 德國
- 廠商性質 經(jīng)銷商
- 更新時間 2016/9/27 15:19:17
- 訪問次數(shù) 486
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分子束外延系統(tǒng),脈沖激光沉積系統(tǒng),電子束光刻/聚焦離子束系統(tǒng),紫外光刻機,去膠機,寬頻介電阻抗譜儀,三維表面形貌儀,納米壓印模板,光刻膠等
去膠工藝是微加工實驗中一個非常重要的過程。在電子束曝光、紫外曝光等微納米加工工藝之后,都需要對光刻膠進行去除或打底膜處理。光刻膠去除的是否干凈*、對樣片是否有損傷等問題將直接影響到后續(xù)工藝的順利完成。德國ALPHA PLAMSA擁有多年的去膠經(jīng)驗,致力于給您提供專業(yè)的微波等離子去膠機,并提供專業(yè)的服務。
桌面式微波等離子去膠機 立式
產(chǎn)品優(yōu)勢:
- 去膠快速*
- 對樣片無損傷
- 操作簡單安全
- 設計緊湊美觀
- 產(chǎn)品性價比高
產(chǎn)品用途:
- 高劑量離子注入光刻膠的去除
- 濕法或干法刻蝕前后的去殘膠
- MEMS中犧牲層的去除
- 去除化學殘余物
- 清除浮渣工藝
SU-8膠的去除:
MEMS工藝中經(jīng)常用到SU8光刻膠,然而SU8非常穩(wěn)定,其zui致命的缺點就是去膠困難。為了解決SU-8光刻膠的去膠問題,我們向您*德國Alpha Plasma專業(yè)的SU-8,該設備采用氟基氣體的去膠工藝,利用氟基氣體與SU-8膠的化學反應,實現(xiàn)快速去除SU-8功能。同時設備中還集成了溫控系統(tǒng),去膠過程中對襯底溫度的控制保證了高深寬比金屬結構的完整性,zui終實現(xiàn)高質量MEMS器件的制備。SU-8去膠速率驗收指標為1μm/min,實驗中可達到幾個微米。因此這款專業(yè)的SU8去膠機是MEMS去膠工藝的理想選擇。
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