PLD 脈沖激光沉積系統(tǒng)
具體成交價以合同協(xié)議為準
- 公司名稱 北京匯德信科技有限公司
- 品牌
- 型號 PLD
- 產地 荷蘭
- 廠商性質 經銷商
- 更新時間 2016/9/27 15:22:01
- 訪問次數(shù) 556
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脈沖激光沉積 (Pulsed laser deposition),就是將激光聚焦于靶材上一個較小的面積,利用激光的高能量密度將部分靶材料蒸發(fā)甚至電離,使其能夠脫離靶材而向基底運動,進而在基底上沉積,從而形成薄膜的一種方式。 在眾多的薄膜制備方法中,脈沖激光沉積技術的應用較為廣泛,可用來制備金屬、半導體、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各種物質薄膜,甚至還用來制備一些難以合成的材料膜,如金剛石、立方氮化物膜等。
脈沖激光沉積系統(tǒng)(PLD)
TSST配置:
- 生長室,進樣室可選
- 兩種靶材臺可選
- 三種加熱器可選,zui高加熱溫度1200℃
- 高壓RHEED,工作氣壓可達100Pa
- 可預留法蘭,用于LEED,K-Cell等
- 可選項:臭氧發(fā)生器,離子源,掩膜系統(tǒng)等
TSST特點及優(yōu)勢:
- 產品基于荷蘭Twente大學Prof. Blank和Dr. Rijnders研究組的原始設計,在提供產品的同時,更能提供專業(yè)的;
- 始終考慮到客戶的需求,為其定制產品,具有很大的靈活性;
- 靶材臺同時可以安裝5個靶,并且5個靶可以同時更換,節(jié)省換靶時間;
- TSST公司是高壓RHEED的發(fā)明人,其在RHEED結果的分析上造詣很深,可以為用戶提供結果分析建議;
- 用戶可以通過TSST公司與荷蘭Twente大學進行學術交流,包括訪問甚至交換學生等。
更多信息,請查看:http://www.germantech。。com.cn/new/cplook.asp?id=392