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          金剛石MPCVD氫氣發(fā)生器

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          COMPANY PROFILE
          PECULIAR (UK) INSTRUMENT TECHNOLOGY LIMITED 是實(shí)驗(yàn)室前處理設(shè)備(氣體發(fā)生器、降
          噪設(shè)備、純水設(shè)備)的主要供應(yīng)商,歐洲(英國(guó)、德國(guó))和亞洲(北京)地區(qū)三大生產(chǎn)基地,超過十幾年的實(shí)驗(yàn)室前處理產(chǎn)品研發(fā)和制造歷史,不斷追求技術(shù)革新,其產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于制藥、食品、環(huán)保、生物、石化、煙草、出入境檢驗(yàn)檢疫、疾病控制、科研院所等分析實(shí)驗(yàn)室。為現(xiàn)代化的分析實(shí)驗(yàn)室提供理想的前處理系統(tǒng)解決方案。

          氣體發(fā)生器系列

          產(chǎn)地類別 國(guó)產(chǎn) 價(jià)格區(qū)間 面議
          應(yīng)用領(lǐng)域 綜合

          CVD,MOCVD/金剛石MPCVD/半導(dǎo)體專用氫氣發(fā)生器不僅能夠提供高純度、穩(wěn)定壓力的氫氣,還具有多項(xiàng)結(jié)構(gòu)優(yōu)勢(shì)和應(yīng)用功能,是半導(dǎo)體制造過程中重要的設(shè)備。

          CVD,MOCVD/金剛石MPCVD/半導(dǎo)體專用氫氣發(fā)生器通常采用先進(jìn)技術(shù),如固態(tài)聚合物電解質(zhì)(SPE)技術(shù),以確保產(chǎn)生高純度的氫氣,同時(shí)具備穩(wěn)定的壓力輸出,這對(duì)于半導(dǎo)體生產(chǎn)中的清洗、退火、賦活處理以及硅晶片的取向和外延生長(zhǎng)調(diào)控等關(guān)鍵過程至關(guān)重要。

          CVD,MOCVD/金剛石MPCVD/半導(dǎo)體專用氫氣發(fā)生器產(chǎn)品特點(diǎn)

          1.創(chuàng)新技術(shù)應(yīng)用:采用英國(guó)Peculiar的離子膜技術(shù)和分子篩耐用干燥劑,確保產(chǎn)生的氫氣純度高達(dá)99.9999%,為半導(dǎo)體制造提供高品質(zhì)的氣體環(huán)境。

          2.高效純化系統(tǒng):通過先進(jìn)的氫/水分離技術(shù)和除濕處理,有效分離并去除氫氣中的水分,保證輸出氫氣的純凈度。

          3.自動(dòng)水位控制與補(bǔ)水功能:設(shè)備具備自動(dòng)水位監(jiān)控和補(bǔ)水系統(tǒng),當(dāng)水量低于設(shè)定值時(shí)自動(dòng)停機(jī)并補(bǔ)充水源,確保設(shè)備運(yùn)行安全,延長(zhǎng)使用壽命。

          4.微電腦控制:集成微電腦控制系統(tǒng),實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)和調(diào)整壓力與流量,保持氫氣輸出的穩(wěn)定性和可靠性。

          5.環(huán)保與安全設(shè)計(jì):采用無堿液電解技術(shù),直接電解純水,減少環(huán)境污染;同時(shí),所有材料選擇均符合高標(biāo)準(zhǔn)環(huán)保要求,確保操作過程的安全。

          CVD,MOCVD/金剛石MPCVD/半導(dǎo)體專用氫氣發(fā)生器應(yīng)用領(lǐng)域

          1.清洗與退火:氫氣作為清洗氣體,有效去除表面污染物和氧化物,提供清潔的表面,并用于退火過程促進(jìn)晶體再結(jié)晶。

          2.賦活處理:通過將水合氧化物轉(zhuǎn)化為電氧化物,提高雜質(zhì)離子濃度,改善半導(dǎo)體器件性能和穩(wěn)定性。

          3.硅取向和外延生長(zhǎng)調(diào)控:通過精確控制氫氣的流量和溫度,實(shí)現(xiàn)硅晶片特定方向的優(yōu)先生長(zhǎng),獲得所需的硅材料取向。

          4.清除氧污染:在特殊工藝中利用氫氣清除氧氣污染,避免生成影響器件性能的氧化物。

          CVD,MOCVD/金剛石MPCVD/半導(dǎo)體專用氫氣發(fā)生器安全操作要求

          1.正確接線與確認(rèn)參數(shù):在啟動(dòng)半導(dǎo)體專用氫氣發(fā)生器前,應(yīng)確保設(shè)備接線正確,電源輸入電壓、電流及氫氣純度、流量等參數(shù)符合要求。

          2.禁止私自調(diào)整:嚴(yán)禁在設(shè)備運(yùn)行中隨意調(diào)整安全保護(hù)參數(shù),如電流和氫氣流量,并且不應(yīng)在未經(jīng)授權(quán)的情況下進(jìn)行機(jī)內(nèi)部件的更換或調(diào)整。

          3.良好通風(fēng)與禁止危險(xiǎn)操作:確保設(shè)備使用區(qū)域通風(fēng)良好,不得將設(shè)備置于爆炸危險(xiǎn)環(huán)境中,如靠近火源或易燃物旁。


          CVD,MOCVD/金剛石MPCVD/半導(dǎo)體專用氫氣發(fā)生器安全保護(hù)措施

          1.防止氣體泄漏:確保氫氣發(fā)生器輸出口氣管連接正確,防止氫氣泄漏。

          2.避免異常工作:在使用過程中,如發(fā)生器出現(xiàn)異常工作情況,須立即停機(jī)檢查,并由專業(yè)人員進(jìn)行問題排查和解決。

          CVD,MOCVD/金剛石MPCVD/半導(dǎo)體專用氫氣發(fā)生器使用注意事項(xiàng)

          1.檢查輸出口氣管:在供氫前,必須檢查氫氣發(fā)生器輸出口的氣管是否已正確連接。

          2.斷開電源前操作:在關(guān)閉并斷開電源前,應(yīng)先拔掉輸出口氣管,避免殘留氫氣造成的安全隱患。

          CVD,MOCVD/金剛石MPCVD/半導(dǎo)體專用氫氣發(fā)生器保養(yǎng)和檢修

          1.定期維護(hù)清潔:為延長(zhǎng)設(shè)備使用壽命并保持其高效運(yùn)行,必須定期對(duì)氫氣發(fā)生器進(jìn)行維護(hù)保養(yǎng),包括清洗和更換吸附劑等關(guān)鍵部件。

          2.記錄維護(hù)信息:每次維護(hù)檢查后,應(yīng)詳細(xì)記錄設(shè)備狀態(tài)、檢查人員信息及維護(hù)日期,以備后續(xù)查看和故障排查。


          CVD,MOCVD/金剛石MPCVD/半導(dǎo)體專用氫氣發(fā)生器常見問題解決方案

          1.避免氫氣泄漏的措施:定期檢查設(shè)備氣路的密封性,發(fā)現(xiàn)問題及時(shí)修復(fù),并使用符合標(biāo)準(zhǔn)要求的設(shè)備來運(yùn)輸和存儲(chǔ)氫氣。

          2.保持氫氣純度的方法:嚴(yán)格遵守使用規(guī)范,定期更換吸附劑,并使用相同類型和規(guī)格的吸附劑,以確保氫氣的純度。

           

           

           

           


           

           



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