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          真空快速退火爐RTP-材料設(shè)備

          具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
          • 公司名稱 科睿設(shè)備有限公司
          • 品牌 其他品牌
          • 型號(hào)
          • 產(chǎn)地
          • 廠商性質(zhì) 代理商
          • 更新時(shí)間 2024/8/28 7:04:36
          • 訪問(wèn)次數(shù) 1780
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          真空快速退火爐RTP

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          科睿設(shè)備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd )為多家國(guó)外高科技儀器廠家在中國(guó)地區(qū)的代理??祁9疽回灡小赫\(chéng)信』、『品質(zhì)』、『服務(wù)』、『創(chuàng)新』的企業(yè)文化,為廣大中國(guó)用戶提供儀器、設(shè)備,周到的技術(shù)、服務(wù)和*的整體解決方案。在科技日新月異、國(guó)力飛速發(fā)展的中國(guó),納米科學(xué)研究、薄膜材料(包括半導(dǎo)體)生長(zhǎng)和表征、表面材料物性分析、生物藥物開(kāi)發(fā)、有機(jī)高分子合成等等領(lǐng)域,都需要與歐美發(fā)達(dá)國(guó)家*接軌的儀器設(shè)備平臺(tái)來(lái)實(shí)現(xiàn)??祁TO(shè)備有限公司有幸成長(zhǎng)在這個(gè)火熱的年代,我們?cè)敢饣癁橐蛔鶚蛄?,?jiàn)證中國(guó)科技水平的提升,與中國(guó)科技共同飛速成長(zhǎng)。
                科睿設(shè)備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd)總部設(shè)在中國(guó)香港,在中國(guó)上海設(shè)立了分公司,在國(guó)內(nèi)多個(gè)城市設(shè)立了辦事處或維修站,旨在為客戶提供*的產(chǎn)品和服務(wù)。2010年,科睿設(shè)備有限公司在上海設(shè)立備品倉(cāng)庫(kù)及維修中心,同時(shí)提供在大陸的各項(xiàng)技術(shù)服務(wù)和后期的維修保障服務(wù),我們擁有專業(yè)的應(yīng)用維修人員,并且都曾到國(guó)外廠家進(jìn)行了專門的培訓(xùn)。上海配備了多種維修部件,能使我們的服務(wù)更加快捷和方便。我們承諾24小時(shí)電話響應(yīng),72小時(shí)內(nèi)趕到現(xiàn)場(chǎng)維修。以利于更好、更快的為中國(guó)大陸服務(wù)!
                因?yàn)樾湃?所以理解.我們理解用戶的困難和需求。我們已經(jīng)為國(guó)內(nèi)眾多科研院所和大學(xué)根據(jù)用戶的要求配制和提供了上百套系統(tǒng),主要用戶包括:中科院物理所,中科院半導(dǎo)體所,中科院大連化學(xué)物理研究所,國(guó)家納米中心,上海納米中心,北京大學(xué),清華大學(xué),中國(guó)科技大學(xué),南京大學(xué),復(fù)旦大學(xué),上海交通大學(xué),華東理工大學(xué),浙江大學(xué),中山大學(xué),西安交通大學(xué),四川大學(xué),中國(guó)工程物理研究院,香港大學(xué),香港城市大學(xué),香港中文大學(xué),香港科技大學(xué)等。



          光刻機(jī),鍍膜機(jī),磁控濺射鍍膜儀,電子束蒸發(fā)鍍膜儀,開(kāi)爾文探針系統(tǒng)(功函數(shù)測(cè)量),氣溶膠設(shè)備,氣溶膠粒徑譜儀,等離子增強(qiáng)氣相沉積系統(tǒng)(PECVD),原子層沉積系統(tǒng)(ALD),快速退火爐,氣溶膠發(fā)生器,稀釋器,濾料測(cè)試系統(tǒng)

          真空快速退火爐RTP-材料設(shè)備

          3英寸、4英寸、6英寸、8英寸真空快速退火爐系統(tǒng)。


          應(yīng)用:
          RTA(快速熱退火); RTO(快速熱氧化);注入退火;擴(kuò)散;化合物半導(dǎo)體退火;滲氮;滲硅; 結(jié)晶化與致密化;

          真空快速退火爐RTP-材料設(shè)備

          特點(diǎn):
          適用于2英寸~8英寸晶圓,高可靠性和低擁有成本。不銹鋼冷壁腔體技術(shù); 高工藝重復(fù)性,超清潔無(wú)污染環(huán)境、 高冷卻速率低記憶效果。 可實(shí)現(xiàn)高達(dá)10-6 mbar的高真空環(huán)境。 高溫計(jì)和熱電偶控制,高速數(shù)字PID溫度控制器,邊緣高溫計(jì)視點(diǎn)保障了化合物半導(dǎo)體和小樣品的基座的加強(qiáng)溫度控制。


          使用特點(diǎn):
          溫度范圍:RT to 1500°C;
          斜坡速率:最高250°C/s;
          氣體混合功能:使用質(zhì)量流量控制器控制;
          真空范圍:大氣壓~10-6 Torr,可配置分子泵;
          本系統(tǒng)提供全電腦控制,應(yīng)用控制軟件兼容window系統(tǒng)。




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