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          mask aligner半自動光刻機

          具體成交價以合同協(xié)議為準
          • 公司名稱 科睿設(shè)備有限公司
          • 品牌 其他品牌
          • 型號
          • 產(chǎn)地
          • 廠商性質(zhì) 代理商
          • 更新時間 2024/8/23 14:21:50
          • 訪問次數(shù) 2616
          產(chǎn)品標簽

          半自動光刻機mask aligner

          聯(lián)系方式:張垚查看聯(lián)系方式

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          科睿設(shè)備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd )為多家國外高科技儀器廠家在中國地區(qū)的代理。科睿公司一貫秉承『誠信』、『品質(zhì)』、『服務(wù)』、『創(chuàng)新』的企業(yè)文化,為廣大中國用戶提供儀器、設(shè)備,周到的技術(shù)、服務(wù)和*的整體解決方案。在科技日新月異、國力飛速發(fā)展的中國,納米科學(xué)研究、薄膜材料(包括半導(dǎo)體)生長和表征、表面材料物性分析、生物藥物開發(fā)、有機高分子合成等等領(lǐng)域,都需要與歐美發(fā)達國家*接軌的儀器設(shè)備平臺來實現(xiàn)。科睿設(shè)備有限公司有幸成長在這個火熱的年代,我們愿意化為一座橋梁,見證中國科技水平的提升,與中國科技共同飛速成長。
                科睿設(shè)備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd)總部設(shè)在中國香港,在中國上海設(shè)立了分公司,在國內(nèi)多個城市設(shè)立了辦事處或維修站,旨在為客戶提供*的產(chǎn)品和服務(wù)。2010年,科睿設(shè)備有限公司在上海設(shè)立備品倉庫及維修中心,同時提供在大陸的各項技術(shù)服務(wù)和后期的維修保障服務(wù),我們擁有專業(yè)的應(yīng)用維修人員,并且都曾到國外廠家進行了專門的培訓(xùn)。上海配備了多種維修部件,能使我們的服務(wù)更加快捷和方便。我們承諾24小時電話響應(yīng),72小時內(nèi)趕到現(xiàn)場維修。以利于更好、更快的為中國大陸服務(wù)!
                因為信任,所以理解.我們理解用戶的困難和需求。我們已經(jīng)為國內(nèi)眾多科研院所和大學(xué)根據(jù)用戶的要求配制和提供了上百套系統(tǒng),主要用戶包括:中科院物理所,中科院半導(dǎo)體所,中科院大連化學(xué)物理研究所,國家納米中心,上海納米中心,北京大學(xué),清華大學(xué),中國科技大學(xué),南京大學(xué),復(fù)旦大學(xué),上海交通大學(xué),華東理工大學(xué),浙江大學(xué),中山大學(xué),西安交通大學(xué),四川大學(xué),中國工程物理研究院,香港大學(xué),香港城市大學(xué),香港中文大學(xué),香港科技大學(xué)等。



          光刻機,鍍膜機,磁控濺射鍍膜儀,電子束蒸發(fā)鍍膜儀,開爾文探針系統(tǒng)(功函數(shù)測量),氣溶膠設(shè)備,氣溶膠粒徑譜儀,等離子增強氣相沉積系統(tǒng)(PECVD),原子層沉積系統(tǒng)(ALD),快速退火爐,氣溶膠發(fā)生器,稀釋器,濾料測試系統(tǒng)

          產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 應(yīng)用領(lǐng)域 能源,電子

          mask aligner半自動光刻機

          半自動光刻機
          光刻機又名:掩模對準曝光機,曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng),光刻機,紫外曝光機等;
          MIDAS為全球*的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商,多年來致力于掩模對準光刻機和勻膠機研發(fā)與生產(chǎn),并且廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物器件和納米科技領(lǐng)域;該公司是目前世界上較早將光刻機商品化的公司之一,擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力;并且其設(shè)備被眾多著名企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用;以優(yōu)秀的技術(shù)、工藝和良好的服務(wù),贏得了用戶的青睞。

          產(chǎn)地:韓國MIDAS公司,一能做到圖形化藍寶石襯底(PSS)光刻機,高性價比
          型號:MDA-400M, MDA-60MS



          mask aligner半自動光刻機主要特點:
          - 光源強度可控;
          - 紫外曝光,深紫外曝光(Option);
          - 系統(tǒng)控制:手動、半自動和全自動控制;
          - 曝光模式:真空接觸模式(接觸力可調(diào)),Proximity接近模式, 投影模式;
          - 真空吸盤范圍可調(diào);
          - 技術(shù):可雙面對準,可雙面光刻,具有IR和CCD模式
          - 雙CCD顯微鏡系統(tǒng),最大放大1000倍,顯示屏直接調(diào)節(jié),比傳統(tǒng)目鏡對準更方便快捷,易于操作。
          - 特殊的基底卡盤可定做;
          - 具有楔形補償功能;





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