mask aligner半自動光刻機
- 公司名稱 科睿設(shè)備有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時間 2024/8/23 14:21:50
- 訪問次數(shù) 2616
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光刻機,鍍膜機,磁控濺射鍍膜儀,電子束蒸發(fā)鍍膜儀,開爾文探針系統(tǒng)(功函數(shù)測量),氣溶膠設(shè)備,氣溶膠粒徑譜儀,等離子增強氣相沉積系統(tǒng)(PECVD),原子層沉積系統(tǒng)(ALD),快速退火爐,氣溶膠發(fā)生器,稀釋器,濾料測試系統(tǒng)
產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 能源,電子 |
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mask aligner半自動光刻機
半自動光刻機
光刻機又名:掩模對準曝光機,曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng),光刻機,紫外曝光機等;
MIDAS為全球*的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商,多年來致力于掩模對準光刻機和勻膠機研發(fā)與生產(chǎn),并且廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物器件和納米科技領(lǐng)域;該公司是目前世界上較早將光刻機商品化的公司之一,擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力;并且其設(shè)備被眾多著名企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用;以優(yōu)秀的技術(shù)、工藝和良好的服務(wù),贏得了用戶的青睞。
產(chǎn)地:韓國MIDAS公司,一能做到圖形化藍寶石襯底(PSS)光刻機,高性價比
型號:MDA-400M, MDA-60MS
mask aligner半自動光刻機主要特點:
- 光源強度可控;
- 紫外曝光,深紫外曝光(Option);
- 系統(tǒng)控制:手動、半自動和全自動控制;
- 曝光模式:真空接觸模式(接觸力可調(diào)),Proximity接近模式, 投影模式;
- 真空吸盤范圍可調(diào);
- 技術(shù):可雙面對準,可雙面光刻,具有IR和CCD模式
- 雙CCD顯微鏡系統(tǒng),最大放大1000倍,顯示屏直接調(diào)節(jié),比傳統(tǒng)目鏡對準更方便快捷,易于操作。
- 特殊的基底卡盤可定做;
- 具有楔形補償功能;