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          SPV-100 plasma清洗機(jī)等離子清洗

          具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
          • 公司名稱 東莞市晟鼎精密儀器有限公司
          • 品牌 晟鼎
          • 型號(hào) SPV-100
          • 產(chǎn)地 東莞長(zhǎng)安
          • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
          • 更新時(shí)間 2024/2/4 12:39:59
          • 訪問次數(shù) 1572

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          東莞市晟鼎精密儀器有限公司致力于為用戶提供專業(yè)的表面處理與檢測(cè)整體解決方案,集研發(fā)、設(shè)計(jì)、生產(chǎn)、銷售及產(chǎn)業(yè)鏈服務(wù)為一體的企業(yè)。

          是接觸角國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)(GB/T 30693-2014)參與制定者,擁有行業(yè)內(nèi)等離子實(shí)驗(yàn)室,與華南理工大學(xué)創(chuàng)建等離子技術(shù)聯(lián)合實(shí)驗(yàn)室,并擁有10多位行業(yè)技術(shù)專家。團(tuán)隊(duì)成員以多年從事材料表面、電子電氣、工業(yè)自動(dòng)化等領(lǐng)域研發(fā)的博士、碩士、學(xué)士為主,本科學(xué)歷以上占比50%,涵蓋業(yè)內(nèi)華南理工等各大高校人才,打造業(yè)界的研發(fā)團(tuán)隊(duì)。

          Apple、華為、小米、OPPO、京東方、富士康、比亞迪、藍(lán)思、伯恩、兆馳、三安光電、清華大學(xué)、北京大學(xué)、復(fù)旦大學(xué)等企業(yè)及科研院校長(zhǎng)期合作伙伴。

          企業(yè)愿景:致力于為用戶提供專業(yè)的表面處理與檢測(cè)整體解決方案!

          企業(yè)價(jià)值觀:誠(chéng)信 感恩 創(chuàng)新 專業(yè) 擔(dān)當(dāng) 成長(zhǎng) 同心 拼搏






          接觸角測(cè)量?jī)x,等離子清洗機(jī),半導(dǎo)體快速退火爐、USC干式超聲波,靜電消除器

          產(chǎn)地類別 國(guó)產(chǎn) 應(yīng)用領(lǐng)域 生物產(chǎn)業(yè),印刷包裝,航天,汽車,電氣

          等離子體清洗機(jī),真空腔體用于在用于結(jié)合的非常薄的金屬堆疊的良好封裝上的堅(jiān)固和可靠的結(jié)合,以及在晶片變薄或切割之后的附著力提高。

          導(dǎo)管-等離子體聚合物沉積使用烯丙基胺單體醫(yī)療導(dǎo)管的創(chuàng)建一個(gè)光滑的涂層,可以抵御嚴(yán)酷的多周期而不失其色領(lǐng)帶層性能的應(yīng)用。plasma清洗機(jī)等離子清洗

          橡膠,彈性體和硅材料-等離子體沉積材料表面,傳統(tǒng)上粘性或俗氣的性質(zhì),可以使光滑和光滑(色)。這是通常需要的醫(yī)療設(shè)備,使用硅橡膠,所以他們不堅(jiān)持彼此,另一種材料,甚至病人。減少工業(yè)應(yīng)用中使用的O形環(huán)和其他密封圈的粘性也很有用,因?yàn)樗鼈儾荒苁共考舜苏吃谝黄稹S靡环N硅氧烷液體作為聚合單體和沉積的結(jié)果使終的增強(qiáng)性能的前體的應(yīng)用如,減少插入力,降低摩擦力,提高切割和分離處理。

          等離子體沉積系列

          達(dá)因特真空等離子清洗機(jī)系列采用等離子體聚合沉積材料在精密制造工藝,采用蒸氣加熱,或液體單體蒸汽輸送系統(tǒng)沉積涂層可以減少在某些情況下,消除粘性,提供一個(gè)連接層,作為藥物的抑制或增強(qiáng)劑在生命科學(xué)中的應(yīng)用和變化所需的表面疏水性變?yōu)橛H水性,反之亦然。與濕式化學(xué)分配相比,等離子體聚合物沉積可以減少浪費(fèi)。plasma清洗機(jī)等離子清洗

          等離子體對(duì)包裝的制造過程以及包裝的組裝都是有用的。優(yōu)化的等離子體清洗處理使三維包裝技術(shù)既有用又可靠。等離子體清洗機(jī)對(duì)于倒裝芯片封裝也是有利的,用于在引線鍵合之前的預(yù)處理,用于在用于結(jié)合的非常薄的金屬堆疊的良好封裝上的堅(jiān)固和可靠的結(jié)合,以及在晶片變薄或切割之后的附著力提高。





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