納米薄膜研發(fā)領(lǐng)域的多入射角激光橢偏儀，用于納米薄膜的厚度、折射率n、消光系數(shù)k等參數(shù)的測(cè)量。適用于光面或絨面納米薄膜測(cè)量、塊狀固體參數(shù)測(cè)量、快速變化的納米薄膜實(shí)時(shí)測(cè)量等不同的應(yīng)用場(chǎng)合。采用量拓科技多項(xiàng)技術(shù)，儀器操作具有個(gè)性化定制功能，方便使用。

應(yīng)用領(lǐng)域：

• EM01-RD 多入射角激光橢偏儀可對(duì)納米薄膜層構(gòu)樣品的薄膜厚度、折射率n及消光系數(shù)k進(jìn)行快速、高精度、高準(zhǔn)確度的測(cè)量，尤其適合于科研和工業(yè)產(chǎn)品環(huán)境中的新品研發(fā)
• EM01-RD 多入射角激光橢偏儀可用于表征單層納米薄膜、多層納米層構(gòu)膜系，以及塊狀材料（基底）。
• 應(yīng)用領(lǐng)域涉及納米薄膜的幾乎所有領(lǐng)域，如微電子、半導(dǎo)體、集成電路、顯示技術(shù)、太陽電池、光學(xué)薄膜、生命科學(xué)、電化學(xué)、磁介質(zhì)存儲(chǔ)、聚合物及金屬表面處理等。