ML3 Durham Microwriter ML3 無掩膜光刻機

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公司名稱 深圳市藍星宇電子科技有限公司
品牌
型號 ML3
產(chǎn)地英國
廠商性質(zhì) 代理商
更新時間 2019/7/21 18:39:16
訪問次數(shù) 609

產(chǎn)品標簽

光刻機無掩膜光刻系統(tǒng)Durham Microwriter M

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公司介紹 主營產(chǎn)品

藍星宇科技專業(yè)研發(fā)設計組裝：紫外臭氧清洗機（UV清洗機），準分子清洗機，等離子清洗機等儀器設備。引進日本，德國，韓國*技術(shù)，設備已獲得眾多院校，研究所，高科技企業(yè)等客戶*認可。

同時我們專注進口科學儀器設備及材料，主要代理有：德國 Heidelberg 海德堡光刻機，美國 OAI 光刻機，德國 Raith 電子束光刻機，英國 Durtham 無掩膜光刻機，美國 Trion 刻蝕機.沉積機，德國 Sentech 刻蝕機.沉積機，德國 Optosol 吸收率發(fā)射率檢測儀，日本 SEN UV清洗機.UV清洗燈，美國Jelight UV清洗機，美國 Nano-master 晶圓清洗機，美國 Arradiance 原子層沉積機，德國 WL 微波離子沉積機，德國 Iplas 微波離子沉積機，美國量子科學 Quantum 綜合物性測量系統(tǒng)，德國 Diener 等離子清洗機等*技術(shù)產(chǎn)品；并可依據(jù)客戶需求，研發(fā)定制相關(guān)儀器及材料。

展開

光刻機，鍍膜沉積機，刻蝕機，UV清洗機，實驗檢測儀器，UV燈

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產(chǎn)地類別	進口	應用領域	電子

Durham Microwriter ML3 無掩膜光刻機

詳細介紹

小型臺式無掩膜光刻系統(tǒng)

小型臺式無掩膜光刻系統(tǒng)是英國Durham Magneto Optics公司專為實驗室設計開發(fā)，為微流控、SAW、半導體、自旋電子學等研究領域提供方便高效的微加工方案。

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傳統(tǒng)的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩膜板需要由專業(yè)供應商提供，但是在研發(fā)環(huán)境中，掩膜板的設計通常需要經(jīng)常改變。無掩膜光刻技術(shù)通過以軟件設計電子掩膜板的方法，克服了這一問題。與通過物理掩膜板進行光照的傳統(tǒng)工藝不同，激光直寫是通過電腦控制一系列激光脈沖的開關(guān)，在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。

Microwriter ML 3 是一款多功能激光直寫光刻系統(tǒng)，具有結(jié)構(gòu)小巧緊湊(70cm X 70cm X 70cm)，無掩膜直寫系統(tǒng)的靈活性，還擁有高直寫速度，高分辨率的特點。采用集成化設計，全自動控制，可靠性高，操作簡便。適用于各種實驗室桌面。

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產(chǎn)品特點

Focus Lock自動對焦功能

Focus lock技術(shù)是利用自動對焦功能對樣品表面高度進行探測，并通過Z向調(diào)整和補償，以保證曝光分辨率。

光學輪廓儀

Microwriter ML3 配備光學輪廓探測工具，用于勻膠后沉積層，蝕刻層，MEMS等前道結(jié)構(gòu)的形貌探測與套刻。Z向高精度100 nm，方便快捷。

標記物自動識別

點擊“Bulls-Eye”按鈕，系統(tǒng)自動在顯微鏡圖像中識別光刻標記。標記物被識別后，將自動將其移動到顯微鏡中心位置。

別直寫前預檢查

軟件可以實時顯微觀測基體表面，并顯示預直寫圖形位置。通過實時調(diào)整位置、角度，直到設計圖形按要求與已有結(jié)構(gòu)重合，保證直寫準確。

簡單的直寫軟件

MicroWriter 由一個簡單直觀的Windows界面軟件控制。工具欄會引導使用者進行簡單的布局設計、基片對準和曝光的基本操作。該軟件在Windows10系統(tǒng)下運行。

Clewin 掩模圖形設計軟件

•可以讀取多種圖形設計文件（DXF, CIF, GDSII, 等）

•可以直接讀取TIFF, BMP 等圖片格式

•書寫范圍只由基片尺寸決定

產(chǎn)品參數(shù)

Microwriter ML3	基本型	增強型	旗艦型
大樣品尺寸	155×155×7mm	155×155×7mm	230×230×15mm
大直寫面積	149mm x 149mm	149mm x 149mm	195mm x 195mm
曝光光源	405 nm LED 1.5W	405 nm LED 1.5W	385 nm LED 適用于SU-8 （365+405nm雙光源可選）
直寫分辨率	1μm	1μm and 5 μm	0.6μm, 1μm, 2μm, 5μm
直寫速度	20mm²/min @ 1μm	20mm²/min @ 1μm 120mm²/min @ 5μm	25mm²/min @ 0.6μm 50mm²/min @ 1μm 100mm²/min @ 2μm 180mm²/min @ 5μm
對準顯微鏡鏡頭	x10	x3 and x10 自動切換	x3, x5, x10, x20 自動切換
多層套刻精度	±1μm	±1μm	±0.5μm
小柵格精度	200nm	200nm	100nm
樣品臺小步長	100nm	100nm	50nm
光學輪廓Z分辨率	無(可升級)	300nm	100nm
樣品表面自動對焦	是	是	是
灰度直寫(255級)	是	是	是
自動晶片檢查工具	無(可升級)	有	有
溫控樣品腔室	無 (可升級)	無 (可升級)	有
虛擬模板校準工具	無(可升級)	無(可升級)	有
氣動減震光學平臺	無(可升級)	無(可升級)	有