TESCAN GAIA3電鏡系統(tǒng)完美的集成了超高分辨率的電子光學(xué)系統(tǒng)和高性能的離子束系統(tǒng)，二者配置于同一樣品室上。GAIA3電鏡以MAIA3場發(fā)射掃描電鏡為平臺，在保留MAIA3*性能的基礎(chǔ)上，增加了使用聚焦離子束進行樣品表面處理的功能。GAIA3具有創(chuàng)新性的場發(fā)射電鏡設(shè)計，低電壓下仍具有出色的分辨率，大大提高了其成像能力。與一般電鏡的電磁物鏡相比，GAIA3具有較窄小的電磁物鏡，同時InBeam-SE探頭和InBeam-BSE探頭的位置都位于透鏡內(nèi)，這些設(shè)計都為FIB及其他分析設(shè)備提供了充足空間，使之能夠在樣品表面完成多項工作。

GAIA3的突出特點

·單極60°電磁物鏡設(shè)計，的SEM分辨率

·的多種成像模式—大視場模式，分辨率模式以及景深模式—這些功能都基于TESCAN*的大視場光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計

·馬達控制的精準(zhǔn)樣品臺，可進行精確的移動或傾轉(zhuǎn)操作

·Field-free模式下可對磁性樣品進行有效觀察

·高達200nA的束流強度

·停留時間低至20ns的快速電子束刻蝕速度

·FIB的Cobra光學(xué)系統(tǒng)，確保聚焦離子束*的分辨率和優(yōu)異的性能，離子束流為1pA到50nA

·強大的DrawBeam軟件包，包含許多可編程設(shè)計模塊（基礎(chǔ)版和高級版）來實現(xiàn)掃描及制樣等過程中可調(diào)參數(shù)的多樣化

·不僅具有對樣品表面進行修飾和觀察的多種功能，完美的空間設(shè)計還能夠使電鏡通過接口兼容多種探測設(shè)備與技術(shù)手段，且還能保持一致的較佳分析工作距離

GAIA3-- 場發(fā)射掃描電鏡的功能特點

對納米尺度物質(zhì)的成像分析及控制，是當(dāng)今順利開展研究工作的關(guān)鍵，這要求前沿的技術(shù)手段具有分辨率、準(zhǔn)確度、可重復(fù)性、穩(wěn)定性以及靈活性等多方面的優(yōu)異性能。

在前幾代電鏡系統(tǒng)的成功基礎(chǔ)上，TESCAN推出了GAIA3新一代電鏡系統(tǒng)。它保持了SEM的納米級分辨率特征，同時還集成了*的COBRA-FIB聚焦離子束功能，使新一代GAIA3電鏡擁有更加多元化的分析設(shè)備兼容性，提高了分析范圍和分析能力。

GAIA3-- 場發(fā)射掃描電鏡的一個突出優(yōu)點在于它低電壓下的掃描電子成像功能，分辨率很高。這對于研究電子敏感材料或是導(dǎo)電性差的樣品極為重要，低電壓可以降低電子與材料相互作用，從而保證好的分辨率同時還能獲得好的低電壓襯度。

COBRA-FIB聚焦離子束系統(tǒng)是一項l較好技術(shù)，不論成像拍照還是樣品微觀加工，都能保持很高的尺寸分辨率，是納米工程領(lǐng)域較佳的FIB設(shè)備。