nanoSAQLA 納米粒徑儀
- 公司名稱 大塚電子(蘇州)有限公司
- 品牌 OTSUKA/日本大冢
- 型號(hào) nanoSAQLA
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2020/6/12 9:39:52
- 訪問次數(shù) 1669
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zeta電位?粒徑?分子量測(cè)量系統(tǒng),晶圓在線測(cè)厚系統(tǒng),線掃描膜厚儀,顯微分光膜厚儀,線掃描膜厚儀,分光干涉式晶圓膜厚儀,相位差膜?光學(xué)材料檢測(cè)設(shè)備,非接觸光學(xué)膜厚儀,小角激光散射儀,多檢體納米粒徑量測(cè)系統(tǒng),量子效率測(cè)量系統(tǒng)
產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 分散方式 | 濕法分散 |
---|---|---|---|
價(jià)格區(qū)間 | 20萬-30萬 | 儀器種類 | 動(dòng)態(tài)光散射 |
應(yīng)用領(lǐng)域 | 食品,電子,制藥 |
nanoSAQLA納米粒徑儀利用動(dòng)態(tài)光散射法(DLS法)的粒徑測(cè)量(粒徑0.6nm~10μm)儀器。
追求更高品質(zhì)管理的需求,搭載了各種功能。
可對(duì)應(yīng)檢體范圍廣,低濃度~高濃度類,新光學(xué)系,輕便•小型,實(shí)驗(yàn)室標(biāo)配。實(shí)現(xiàn)標(biāo)準(zhǔn)1分鐘高速測(cè)量。
新產(chǎn)品,非浸泡型,不受夾雜物的影響,無自動(dòng)取樣器,“5檢體連續(xù)測(cè)量”的標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備。
特點(diǎn)
- 只需一臺(tái),輕松實(shí)現(xiàn)5檢體連續(xù)測(cè)量
- 低濃度到高濃度都可對(duì)應(yīng)
- 高速測(cè)量,標(biāo)準(zhǔn)時(shí)間1分鐘
- 搭載了簡(jiǎn)單的測(cè)量功能 (1鍵測(cè)量)
- 內(nèi)置非浸泡型的cell block,無分注夾雜物
- 搭載溫度梯度功能
測(cè)量范圍(理論值)
- 粒徑 0.6nm~10μm
- 濃度范圍 0.00001~40%
- 溫度范圍 0~90℃*
式樣
型號(hào) | 納米粒徑儀 |
---|---|
測(cè)量原理 | 動(dòng)態(tài)光散射法 |
光源 | 高出力半導(dǎo)體激光*1 |
檢出器 | 高感光度APD |
連續(xù)測(cè)量 | 5檢體 |
測(cè)量范圍 | 0.6nm ~ 10μm |
對(duì)應(yīng)濃度 | 0.00001 ~ 40% *2 |
溫度 | 0 ~ 90℃ (有溫度梯度功能) *3 |
規(guī)格 | 遵照 ISO 22412:2017 |
遵照J(rèn)IS Z 8828:2013 | |
遵照J(rèn)IS Z 8826:2005 | |
尺寸 | W240 X D480 X H375 mm |
重量 | 約18 kg |
軟件 | 平均粒徑解析 (累積法解析) |
粒度分布解析 | |
(Marquardt法/NNLS/Contin法/Unimodal法) 粒度分布疊寫 逆相關(guān)函數(shù)?殘差plot 粒徑monitor 粒徑顯示范圍 (0.1 ~ 106 nm) 分子量計(jì)算功能 |
*1 根據(jù)激光安全基準(zhǔn) (JIS C6802)級(jí)別區(qū)分,本儀器的安全級(jí)別為1級(jí)。
*2 Latex120nm:0.00001 ~ 10%、牛黃膽酸:~40%
*3 標(biāo)準(zhǔn)glass cell的批量測(cè)量的情況。
一次性cell或連續(xù)測(cè)量時(shí), 15 ~ 40℃ (不對(duì)應(yīng)溫度梯度)
測(cè)量范例