Hitachi日立高新離子研磨裝置IM4000
- 公司名稱 柜谷科技發(fā)展(上海)有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2020/8/19 14:42:15
- 訪問次數(shù) 661
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產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,生物產(chǎn)業(yè),石油 |
Hitachi日立高新離子研磨裝置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000 )具有斷面加工和平面研磨功能的混合儀器!
日立高新離子研磨裝置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000 )的混合模式帶有兩種研磨配置:
斷面加工:將樣品斷面研磨光滑,便于表面以下結(jié)構(gòu)高分辨成像。
平面研磨:將樣品表面均勻研磨5平方毫米,從不同角度有選擇地研磨,以便突出樣品的表面特性。
日立高新離子研磨裝置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000 )的高通量能提高加工效率:與之前的E-3500型相比,采用新型離子槍設(shè)計(jì),減少了橫截面研磨時(shí)間。(大加工率:硅元素為300微米/小時(shí)--加工時(shí)間減少了66%。
日立高新離子研磨裝置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000 )的可拆卸樣品臺(tái)裝置:為便于樣品設(shè)置和定義研磨邊緣,可將樣品臺(tái)裝置拆卸。
Hitachi日立高新離子研磨裝置IM4000?特點(diǎn)
混合模式:兩種研磨配置
斷面加工:將樣品斷面研磨光滑,便于表面高分辨觀察
平面研磨:不同角度有選擇地,大面積,均勻地研磨5 mm的平面,以突顯樣品的表面特性
高效:提高加工效率,與之前的E-3500型相比,采用新型離子槍設(shè)計(jì),減少了橫截面研磨時(shí)間(大加工速度:硅材質(zhì)為300 μm/h - 加工時(shí)間減少了66%)
可拆卸式樣品臺(tái):為便于樣品設(shè)置和邊緣研磨,樣品臺(tái)設(shè)計(jì)為可拆卸型
規(guī)格
項(xiàng)目 | 描述 | |
斷面加工臺(tái) | 平面研磨臺(tái) | |
氣源 | 氬氣(Ar) | |
加速電壓 | 0-6Kv | |
大研磨速率﹡¹﹡²(硅材質(zhì)) | 約300μm/h﹡¹﹡² | 約20μm/h﹡³(點(diǎn)) 約2μm/h﹡?(面) |
大樣品尺寸 | 20(W)×12(D)×7(H)mm | Φ50×25(H)mm |
樣品移動(dòng)范圍 | X±7mm,Y0-+3mm | X0-+5mm |
旋轉(zhuǎn)角度 | - | 1r/m,25r/m |
擺動(dòng)角度 | ±15°,±30°,±40° | ±60°,±90° |
傾斜 | - | 0-90° |
氣體流量控制系統(tǒng) | 流量調(diào)節(jié)器 | |
排氣系統(tǒng) | 渦輪分子泵(33L/S)+機(jī)械泵(50Hz時(shí),135L/min,60Hz時(shí),162L/min) | |
儀器外觀尺寸 | 616(W)×705(D)×312(H)mm | |
儀器重量 | 主機(jī)48kg+機(jī)械泵28Kg | |
可選附件 | 光學(xué)顯微鏡(用于觀測(cè)研磨中的樣品) | |
﹡¹:此研磨速率是對(duì)研磨板邊緣處的硅材質(zhì)的材料研磨至100μm粒度時(shí)所獲得的大深度值 ﹡²:此研磨速率是對(duì)硅材質(zhì)的材料進(jìn)行研磨兩小時(shí)后獲得的平均值 ﹡³:照射角度60°偏心值4mm ﹡?:照射角度0°偏心值0mm
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