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          產(chǎn)品展廳

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          化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>光學(xué)儀器及設(shè)備>電子顯微鏡>電鏡制樣設(shè)備> Hitachi日立高新離子研磨裝置IM4000

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          Hitachi日立高新離子研磨裝置IM4000

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          柜谷科技發(fā)展(上海)有限公司專注于為科研工作者和質(zhì)量控制人員提供一站式實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品與配套服務(wù),致力于成為科學(xué)服務(wù)領(lǐng)域的變革者。公司通過自主研發(fā)、品牌運(yùn)營(yíng)、品牌代理、實(shí)驗(yàn)室設(shè)計(jì)規(guī)劃方案等方式為生物醫(yī)藥、新材料、新能源、化工化學(xué)、精細(xì)化工、食品日化、分析檢測(cè)等領(lǐng)域的實(shí)驗(yàn)室提供的綜合服務(wù),覆蓋客戶的研發(fā)準(zhǔn)備、研發(fā)過程、研發(fā)后期、生產(chǎn)質(zhì)控等各個(gè)階段,提供“一站式”有競(jìng)爭(zhēng)力的產(chǎn)品和服務(wù),是國(guó)內(nèi)的科學(xué)服務(wù)提供商。

           

          為什么選擇我們?

          • 我們的服務(wù)是什么?
          我們建立“安枕無憂”的售前、售后服務(wù)體系,提供信息咨詢、技術(shù)支持和維保服務(wù),為您的實(shí)驗(yàn)室運(yùn)營(yíng)保駕護(hù)航。

          • 我們的優(yōu)勢(shì)是什么?
          我們整合一體化背景下的資源優(yōu)勢(shì),為您提供專業(yè)、綜合、合理的采購(gòu)供應(yīng)計(jì)劃,節(jié)省運(yùn)營(yíng)成本。產(chǎn)品資源豐富,擁有眾多代理權(quán),如: Thermo Fisher、HAAKE、WIGGENS、Hitachi、Binder、Rigaku、Picarro等。

          • 我們的目標(biāo)是什么?
          創(chuàng)新技術(shù)解決方案,創(chuàng)新供應(yīng)鏈整合,創(chuàng)新售后保障。我們銷售的,不僅僅是產(chǎn)品,更多的是服務(wù)。創(chuàng)新服務(wù),讓我們做的比昨天更好!

          我們的市場(chǎng)


          高校  研究院

          新能源 膠粘劑 石化 油漆涂料

          制藥 生命科學(xué)

          流變儀,粘度計(jì),擠出機(jī),質(zhì)構(gòu)儀,紫外分光光度計(jì),X射線衍射儀,熒光光譜儀

          產(chǎn)地類別 進(jìn)口 價(jià)格區(qū)間 面議
          應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,生物產(chǎn)業(yè),石油

          Hitachi日立高新離子研磨裝置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000  )具有斷面加工和平面研磨功能的混合儀器!

          日立高新離子研磨裝置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000  )的混合模式帶有兩種研磨配置:
          斷面加工:將樣品斷面研磨光滑,便于表面以下結(jié)構(gòu)高分辨成像。
          平面研磨:將樣品表面均勻研磨5平方毫米,從不同角度有選擇地研磨,以便突出樣品的表面特性。

          日立高新離子研磨裝置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000  )的高通量能提高加工效率:與之前的E-3500型相比,采用新型離子槍設(shè)計(jì),減少了橫截面研磨時(shí)間。(大加工率:硅元素為300微米/小時(shí)--加工時(shí)間減少了66%。

          日立高新離子研磨裝置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000  )的可拆卸樣品臺(tái)裝置:為便于樣品設(shè)置和定義研磨邊緣,可將樣品臺(tái)裝置拆卸。
           

          Hitachi日立高新離子研磨裝置IM4000?特點(diǎn)

          混合模式:兩種研磨配置
          斷面加工:將樣品斷面研磨光滑,便于表面高分辨觀察
          平面研磨:不同角度有選擇地,大面積,均勻地研磨5 mm的平面,以突顯樣品的表面特性

          高效:提高加工效率,與之前的E-3500型相比,采用新型離子槍設(shè)計(jì),減少了橫截面研磨時(shí)間(大加工速度:硅材質(zhì)為300 μm/h - 加工時(shí)間減少了66%)

          可拆卸式樣品臺(tái):為便于樣品設(shè)置和邊緣研磨,樣品臺(tái)設(shè)計(jì)為可拆卸型

          規(guī)格

          項(xiàng)目描述
          斷面加工臺(tái)平面研磨臺(tái)
          氣源氬氣(Ar)
          加速電壓0-6Kv
          大研磨速率﹡¹﹡²(硅材質(zhì))約300μm/h﹡¹﹡²

          約20μm/h﹡³(點(diǎn))

          約2μm/h﹡?(面)

          大樣品尺寸20(W)×12(D)×7(H)mmΦ50×25(H)mm
          樣品移動(dòng)范圍X±7mm,Y0-+3mmX0-+5mm
          旋轉(zhuǎn)角度-1r/m,25r/m
          擺動(dòng)角度±15°,±30°,±40°±60°,±90°
          傾斜-0-90°
          氣體流量控制系統(tǒng)流量調(diào)節(jié)器
          排氣系統(tǒng)渦輪分子泵(33L/S)+機(jī)械泵(50Hz時(shí),135L/min,60Hz時(shí),162L/min)
          儀器外觀尺寸616(W)×705(D)×312(H)mm
          儀器重量主機(jī)48kg+機(jī)械泵28Kg
          可選附件光學(xué)顯微鏡(用于觀測(cè)研磨中的樣品)

          ﹡¹:此研磨速率是對(duì)研磨板邊緣處的硅材質(zhì)的材料研磨至100μm粒度時(shí)所獲得的大深度值

          ﹡²:此研磨速率是對(duì)硅材質(zhì)的材料進(jìn)行研磨兩小時(shí)后獲得的平均值

          ﹡³:照射角度60°偏心值4mm

          ﹡?:照射角度0°偏心值0mm

           



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