| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,能源,電子 |
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GaAs/GaN用快速退火爐
北京朗銘潤德光電科技有限公司是一家在半導(dǎo)體微電子、高精密光學(xué)鍍膜領(lǐng)域，光伏、光熱、鋰電池等新能源領(lǐng)域以及窗膜、汽車膜、柔性電路板等行業(yè)提供專業(yè)相關(guān)工藝設(shè)備的代理公司。
從2006年起與德國著名微電子設(shè)備專業(yè)廠家FHR公司開始合作，并于2008年成為其中國區(qū)的代理機(jī)構(gòu)。通過我們的合作，使 FHR的產(chǎn)品逐漸進(jìn)入中國，并成為國內(nèi)鍍膜設(shè)備的供貨商。
我們于 2010 年在北京石景山中關(guān)村高科技園區(qū)成立了專業(yè)代理國外微電子半導(dǎo)體及相關(guān)設(shè)備的北京朗銘潤德光電科技有限公司，并與*技術(shù)供貨商建立合作關(guān)系，為公司全面化運轉(zhuǎn)及操作奠定了良好開
1、設(shè)備尺寸詳情：
AS-0NE100：530*800*1425mm
AS-0NE150：530*800*1425mm
2、型號介紹：
不銹鋼水冷壁腔室壁真空快速退火爐(快速熱處理爐)，具有4英寸(100 mm) 和 6英寸 (150 mm) 兩種版本
3、性能和特征：
可處理4-inch 及以下和 6-inch 及以下的晶圓，可適用大范圍類型的基片：硅和化合物半導(dǎo)體晶圓，GaN /藍(lán)寶石和碳化硅晶圓，多晶硅晶圓，玻璃，金屬，高分子聚合物，石墨和碳化硅托盤等等。
設(shè)備應(yīng)用具有：硒化、硫化、接觸退火，注入退火，RTO (快速熱氧化) ，RTN (快速熱氮化) ，硅平滑，擴(kuò)散，致密化和結(jié)晶化，石墨烯CVD，碳納米管等。
不銹鋼水冷腔壁技術(shù)，高工藝復(fù)現(xiàn)性，超潔凈及無污染環(huán)境
高冷卻速率，低記憶效應(yīng)
具有真空能力，可選配分子泵
溫度控制：高溫計和熱電偶控制+快速數(shù)字PID溫度控制器
邊緣高溫計視口，確保用于化合物半導(dǎo)體和小型樣品
基片托的溫度控制
GaAs/GaN用快速退火爐
AS-0NE100：530*800*1425mm
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