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          產(chǎn)品展廳

          產(chǎn)品求購企業(yè)資訊會展

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          化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>光學儀器及設(shè)備>光學實驗設(shè)備>其它光學實驗設(shè)備> 校準標樣

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          校準標樣

          具體成交價以合同協(xié)議為準

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          八帆儀器設(shè)備(上海)有限公司是創(chuàng)建于2017年,是集測試測量、研發(fā)、生產(chǎn)、銷售、服務(wù)為一體的高科技公司,亞太區(qū)總部位于中國上海。并在北京設(shè)立辦事處。八帆儀器設(shè)備(上海)有限公司致力于代理和應(yīng)用*成熟的測試測量儀器及技術(shù),應(yīng)用于材料,物理,光學,化學,生物等領(lǐng)域。同時與國內(nèi)外研發(fā)機構(gòu)合作研究開發(fā)高精密測試測量技術(shù)及設(shè)備定制。有各*機構(gòu)的技術(shù)支持,匯集有行業(yè)的精英技術(shù)團隊,負責產(chǎn)品及方案設(shè)計、生產(chǎn)制造、售前售后服務(wù)。

          原子力顯微鏡,原子力拉曼,有機合成質(zhì)譜儀,制備色譜,納米紅外光譜儀,掃描近場光學顯微鏡,電鏡下原子力,微米級3D打印機,

          應(yīng)用領(lǐng)域 綜合

          高分辨率校準標樣:綜述

          Applied Nanotools為高分辨率應(yīng)用提供X射線,EUV和可見光顯微鏡的校準標準。 這些高質(zhì)量的光學元件包括各種校準元件,可在以下SEM圖像中看到:

          ANT Design

          ANT校準標準設(shè)計用于具有納米級特征的X射線成像系統(tǒng)的高分辨率要求。適用于軟X射線和硬X射線機制以及光學設(shè)置。

          Nested Ls

          嵌套的Ls或彎頭允許高分辨率測量,保證間距和效率。在高分辨率標準下低至15 nm半間距。

          Siemen star

          該圖案允許校準和準確比較X射線與其他成像方法的光學分辨率。

          NanoUSAF 1951

          Applied Nanotool的定制設(shè)計NanoUSAF 1951基于USAF 1951設(shè)計,但具有納米而非微米的特征

          校準標樣價格列表

          DeviceBase Price
           Ultra-High Resolution Soft X-Ray Calibration Standard (70 nm Au)

          (15 nm half pitch)

          USD $5000
           Soft X-Ray Calibration Standard (200 nm Au)

          (20 nm half pitch or better)

          USD $4500
           Hard X-Ray Calibration Standard (>600 nm Au)

          (25 nm half-pitch or better)

          USD $6000
          Features Include:

               • Nested L’s

               • Siemen star patterns (large and small)

               • Varying pitch gratings and meshe

               • Nano USAF 1951

           
            CustomizationExtra Fee
               • Custom Logo (Max 50 µm 2 area)$1000
               • Low stress 50 nm silicon nitride membrane$2000
               • Low stress 100 nm silicon carbide membrane$2500
               • Fused Silica Substrate (~500 um thick)

          Chrome metal on glass (positive tone-only)

          $2500

          Negative polarity (features transparent)

               • 30 nm minimum feature size (soft X-ray)

               • 50 nm minimum feature size (hard X-ray)

          $1250
               • Custom chip sizesContact us

          定制膜/基材

          校準標準在標準的5 mm x 5 mm框架上于堅固的低應(yīng)力氮化硅膜上制造。 熔融石英基板可用于具有鉻特征的光學顯微鏡。

           校準標準在標準的5 mm x 5 mm框架上于堅固的低應(yīng)力氮化硅膜上制造。
           熔融石英基板可用于具有鉻特征的光學顯微鏡

          定制設(shè)計

          定制設(shè)計可添加具有高分辨率功能的設(shè)施徽標(建議小元件尺寸為50 nm)。 必須以GDSII,EPS或矢量格式提供圖形以獲得佳分辨率。如果您需要有關(guān)徽標提交的幫助,請與我們聯(lián)系。
           高分辨率ANT徽標,20納米特征,電鍍至200納米

          總體布局

           注:終設(shè)計可能不*如圖所示。

          該廠商的其他產(chǎn)品



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