產(chǎn)品簡介：
研究開發(fā)向NLD干法刻蝕設(shè)備NLD-570，是搭載了愛發(fā)科開創(chuàng)的磁性中性線（NLD- neutral loop discharge）等離子源的裝置，此NLD技術(shù)可實(shí)現(xiàn)產(chǎn)生低壓、低電子溫度、高密度的等離子。。                                     

產(chǎn)品特性：
NLD用于與ICP方式相比更低壓、高密度、更低電子溫度等離子體的石英、玻璃、水晶、LN/LT基板的加工

•   高硬玻璃、硼硅酸玻璃等不純物的多種玻璃加工，在形狀或表面平滑性方面有優(yōu)異的刻蝕性能

•   石英及玻璃作為厚膜resist mask時(shí)的也可實(shí)現(xiàn)深度刻蝕（100μ m以上）

•   可實(shí)現(xiàn)高速刻蝕（石英＞1μ m/min、Pyrex＞0.8μ m/min）

•   可追加cassette室

產(chǎn)品應(yīng)用：
• 光學(xué)器件（光衍射格子、変調(diào)器、光開關(guān)等等）、凹凸型微透鏡    

• 流體路徑作成或光子學(xué)結(jié)晶