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          DM200-SE 全封閉式桌面顯影機(jī)

          具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
          • 公司名稱 江蘇雷博科學(xué)儀器有限公司
          • 品牌 LEBO/雷博
          • 型號(hào) DM200-SE
          • 產(chǎn)地
          • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
          • 更新時(shí)間 2024/10/16 18:07:18
          • 訪問次數(shù) 4741
          產(chǎn)品標(biāo)簽

          顯影機(jī)自動(dòng)顯影機(jī)

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                 江蘇雷博科學(xué)儀器有限公司2013年9月成立于江蘇江陰,是一家初期以高檔專業(yè)的實(shí)驗(yàn)室儀器開發(fā)為目標(biāo)的海歸創(chuàng)業(yè)企業(yè)。2020年8月,江蘇雷博科儀通過資源整合,將雷博科儀中發(fā)展起來的的工業(yè)半導(dǎo)體設(shè)備業(yè)務(wù)分拆出來成立了江蘇雷博微電子設(shè)備有限公司。兩家公司使用同一品牌 ,獨(dú)立經(jīng)營不同系列產(chǎn)品。公司主營高檔實(shí)驗(yàn)室儀器及半導(dǎo)體設(shè)備開發(fā)業(yè)務(wù)。公司技術(shù)力量雄厚,人才濟(jì)濟(jì),憑借雄厚的技術(shù)實(shí)力不斷進(jìn)行新產(chǎn)品開發(fā)和創(chuàng)新實(shí)現(xiàn),在納米薄膜制備類儀器領(lǐng)域取得了顯著的市場(chǎng)地位。公司生產(chǎn)的高精度高可靠性勻膠機(jī)榮獲江蘇省高新技術(shù)產(chǎn)品,是國內(nèi)勻膠機(jī)全系列、多功能、定制化服務(wù)的供應(yīng)商。
                 公司生產(chǎn)和銷售不同領(lǐng)域的高檔科研儀器和工業(yè)半導(dǎo)體設(shè)備:Schwan technology®是我們的納米薄膜制備類設(shè)備品牌,主要有勻膠機(jī)、顯影機(jī)、烤膠機(jī)、提拉機(jī)、噴膠機(jī)、涂膜機(jī)、狹縫涂布機(jī)等相關(guān)產(chǎn)品;LEBO science®是我們的工業(yè)半導(dǎo)體設(shè)備品牌,主要有勻膠機(jī)、顯影機(jī)、蝕刻機(jī)、去膠機(jī)、清洗機(jī)等獨(dú)立柜式機(jī)臺(tái)及工業(yè)全自動(dòng)機(jī)臺(tái)。
                 公司產(chǎn)品被廣泛應(yīng)用于納米薄膜制備需求的鈣鈦礦薄膜太陽能、有機(jī)光電、MEMS、聲表、光通訊、化合物半導(dǎo)體及先進(jìn)封裝等領(lǐng)域,具有核心技術(shù)可靠、高性價(jià)比、定制化服務(wù)的競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)。 

                 公司目前團(tuán)隊(duì)人數(shù)80多人,業(yè)績(jī)和規(guī)模處于快速擴(kuò)展期,2013年起年銷售額一直保持快速增長(zhǎng),目前正準(zhǔn)備二輪融資擴(kuò)產(chǎn)。公司生產(chǎn)廠房設(shè)有裝配潔凈車間及黃光試驗(yàn)區(qū),其中生產(chǎn)區(qū)域約1500平方米,辦公及倉儲(chǔ)區(qū)域約1000平方米。

          勻膠機(jī),烤膠機(jī),涂膜機(jī),狹縫涂布機(jī),紫外清洗機(jī),電解雙噴儀

          產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,能源,電子
          產(chǎn)品尺寸 550mm (W) x600mm (D) x405mm (H)

          產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)

          ·全封閉式顯影,避免霧氣擴(kuò)散到外部,污染環(huán)境。

          ·外殼噴塑,耐腐蝕,易清洗。

          ·內(nèi)腔不銹鋼材質(zhì),鏡面拋光處理,光滑,耐腐蝕,易清洗。

          ·內(nèi)置真空過濾器,防止液體吸入真空泵。

          ·真空壓力可調(diào),壓力值實(shí)時(shí)顯示。

          ·液體流量可調(diào),回吸可調(diào)。


          產(chǎn)品參數(shù)

          支持wafer尺寸:碎片至200mm(8”圓晶)

          ·轉(zhuǎn)速分辨率:±1 RPM

          ·旋涂速度:20-3000rpm(空載)

          ·旋涂加速度:20-10,000rpm/sec(空載)

          ·工藝時(shí)間設(shè)定: 0-3,000sec/step,時(shí)間設(shè)置精度: 0.1sec

          ·該機(jī)型適用于標(biāo)準(zhǔn)3路顯影機(jī)(1路顯影液,1路純水,1路氮?dú)猓?/p>

          ·單步工藝及多步工藝可選,內(nèi)置100組可編輯程序

          ·可根據(jù)客戶需求定制四管路顯影機(jī)或更大基片的顯影機(jī)。




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