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          LH-RTA-C 4寸快速退火爐

          具體成交價以合同協(xié)議為準

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          量伙半導體設備(上海)有限公司成立于2018年,位于上海市浦東新區(qū)。公司專注于半導體芯片設備的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售,為半導體芯片制造行業(yè)提供可靠的設備和高質(zhì)量的服務、

          公司在安徽合肥設有研發(fā)、生產(chǎn)基地,在北京、西安設有辦事處。

          公司自主研發(fā)的快速退火爐RTP具有出色的技術(shù)水平,已在Fab廠、研究所、高校等芯片生產(chǎn)單位得到廣泛應用。


          Larcomse Equipment (Shanghai) Co., Ltd. was established in 2018 and is located in Pudong New Area, Shanghai. The company focuses on the R & D, production and sales of semiconductor chip equipment, providing high-end equipment and high-quality services for the semiconductor chip manufacturing industry


          The company has R & D and production bases in Hefei, Anhui Province, and offices in Beijing and Xi'an.


          The rapid annealing furnace RTP independently developed by the company has the leading technical level in China and has been widely used in fab factories, research institutes, universities and other chip production units.


          快速退火爐

          設備規(guī)格:


          1.手動操作模式;


          2. 適應于 2英寸-4英寸 晶圓或者支持 (100mmx100mm)樣品;


          3.退火溫度范圍 300℃-1000℃;


          4.升溫速率 ≦100℃/sec(裸片);


          5.溫度均勻性 ≦±1%(>500 ℃);


          6.常壓腔體(可選配真空腔體);


          7.冷卻方式包括水冷和氮氣吹掃;


          8.MFC控制,1-4路制程氣體。

          設備規(guī)格:


          1.手動操作模式;


          2. 適應于 2英寸-4英寸 晶圓或者支持 (100mmx100mm)樣品;


          3.退火溫度范圍 300℃-1000℃;


          4.升溫速率 ≦100℃/sec(裸片);


          5.溫度均勻性 ≦±1%(>500 ℃);


          6.常壓腔體(可選配真空腔體);


          7.冷卻方式包括水冷和氮氣吹掃;


          8.MFC控制,1-4路制程氣體。


          Larcomse Equipment (Shanghai) Co., Ltd. was established in 2018 and is located in Pudong New Area, Shanghai. The company focuses on the R & D, production and sales of semiconductor chip equipment, providing high-end equipment and high-quality services for the semiconductor chip manufacturing industry



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