PICOSUN™P-300B 原子層沉積系統(tǒng)
- 公司名稱 上海磊微科學(xué)儀器有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號 PICOSUN™P-300B
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時間 2022/12/13 14:06:38
- 訪問次數(shù) 875
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價格區(qū)間 | 面議 | 儀器種類 | TOF |
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,能源 |
PICOSUN™P-300B原子層沉積系統(tǒng)已經(jīng)成為高產(chǎn)能ALD 制造業(yè)的新標準。擁有熱壁、* 獨立的前驅(qū)體管路和特殊的載氣設(shè)計, 確 保我們可以生產(chǎn)出具有優(yōu)異的成品率、低 顆粒水平和電學(xué)和光學(xué)性能的高質(zhì) 量ALD薄膜。高效緊湊的設(shè)計使得維護更 加方便、快捷, 最大限度的減少了系統(tǒng)的 維護停工期和使用成本。擁有技術(shù)的 Picoflow™使得在超高深寬比結(jié)構(gòu)上沉積 保形性薄膜更高效, 并已在生產(chǎn)線上得到 驗證。
PICOSUN™P-300B原子層沉積系統(tǒng)襯底尺寸和類型
• 200mm晶圓 25片/批次(標準間距)
• 150mm 晶圓 50片/批次(標準間距)
• 100mm 晶圓 75片/批次(標準間距)
• 非標準晶圓類基底(使用定制夾具)
• 高深寬比基底(最大深寬比1:2500)
工藝溫度
• 50 – 500°C
標準工藝
• 批量生產(chǎn)的平均工藝時間小于10秒/循環(huán)*
• Al2O3, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, TiO2, ZrO2,AlN, TiN以及各種金屬
• 同一批次薄膜不均勻性<1% 1σ
(Al2O3, WIW, WTW, B2B, 49pts, 5mm EE)**
基片加載
• 氣動升降, 手動裝載
• 線性半自動裝載
前驅(qū)體
• 液態(tài), 固態(tài), 氣態(tài), 臭氧源
• 源瓶余量傳感器, 提供清洗和裝源服務(wù)
• 4根獨立的源管線,最多加載8個前驅(qū)體源