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          化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>生命科學(xué)儀器>培養(yǎng)箱設(shè)備>霉菌培養(yǎng)箱>CYSQ-80-III 恒溫殺菌三氣培養(yǎng)箱細(xì)胞培養(yǎng)裝置

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          CYSQ-80-III 恒溫殺菌三氣培養(yǎng)箱細(xì)胞培養(yǎng)裝置

          具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
          產(chǎn)品標(biāo)簽

          恒溫殺菌三氣細(xì)胞培養(yǎng)

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          杭州川一實(shí)驗(yàn)儀器有限公司是一家集生產(chǎn)、研發(fā)、銷售及售后為一體的專業(yè)實(shí)驗(yàn)儀器設(shè)備企業(yè)。主要生產(chǎn)有:低溫恒溫儀器、超聲波儀器、箱體類儀器、樣品處理前儀器、制冰制冷儀器、實(shí)驗(yàn)室用配套用儀器等產(chǎn)品。銷售網(wǎng)絡(luò)遍及全國(guó)各地,深受廣大客戶的青睞和*,是科研院校優(yōu)選配套生產(chǎn)基地。公司擁有專業(yè)的生產(chǎn)與技術(shù)團(tuán)隊(duì),一貫以快速回應(yīng)客戶的咨詢及提供優(yōu)質(zhì)的交貨服務(wù)為基礎(chǔ),為客戶提供與應(yīng)用需求緊密結(jié)合的解決方案,從而降低客戶的開發(fā)與應(yīng)用成本。在此基礎(chǔ)之上,川一人更以精益求精的理念,更*的品質(zhì),優(yōu)惠的價(jià)格,來繼續(xù)完善儀器的國(guó)產(chǎn)化工作。公司成立至今,致力于為客戶提供優(yōu)質(zhì)化的服務(wù)和高品質(zhì)的產(chǎn)品,技術(shù)到銷售都是由行業(yè)內(nèi)精英組成,有著豐富年的行業(yè)經(jīng)驗(yàn)。為產(chǎn)品的質(zhì)量售后服務(wù)提供堅(jiān)強(qiáng)后盾。

          川一儀器制造基地坐落于舉世聞名的錢塘江下游北岸,杭州經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū),是一家多元化產(chǎn)權(quán)結(jié)構(gòu)創(chuàng)建的技術(shù)企業(yè),為立足于市場(chǎng),樹立屬于自己的品牌,公司不斷深入于產(chǎn)品的技術(shù)開發(fā)和研究,*執(zhí)行ISO9001質(zhì)量管理體系,高標(biāo)準(zhǔn),高要求,整合客戶結(jié)構(gòu),擴(kuò)大生產(chǎn)規(guī)模,使我們的管理水平、質(zhì)量水平達(dá)到一個(gè)高水準(zhǔn),持續(xù)超越客戶期望,更好的為客戶提供生產(chǎn)和服務(wù),逐步走上品牌之路!

          川一將始終堅(jiān)持對(duì)自己負(fù)責(zé)、對(duì)企業(yè)負(fù)責(zé)、對(duì)客戶負(fù)責(zé)的經(jīng)營(yíng)態(tài)度,嚴(yán)格執(zhí)行客戶*,質(zhì)量為上的質(zhì)量方針期待與您雙贏的合作,川一人將以優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品,真誠(chéng)的態(tài)度竭誠(chéng)為您服務(wù)!










          氮吹儀、噴霧干燥機(jī),光化學(xué)反應(yīng)儀,一體化蒸餾儀,固相萃取儀,液液萃取儀,分子蒸餾儀,三氣培養(yǎng)箱等

          價(jià)格區(qū)間 5千-1萬 控溫范圍 室溫-60℃
          容量規(guī)格 80升 溫度均勻性 0.3℃
          應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,制藥,綜合

          恒溫殺菌三氣培養(yǎng)箱細(xì)胞培養(yǎng)裝置?∣主要特征:

          1.CO2氣體濃度檢測(cè)采用*的IR紅外傳感器,計(jì)算出CO2氣體濃度。工作時(shí),傳感器無機(jī)械磨損,響應(yīng)速度快,可靠性能高,穩(wěn)定性能好,且使用壽命長(zhǎng)?! ?/span>

          2. CO2氣體濃度檢測(cè)采用進(jìn)口電化學(xué)氧氣傳感器,具有線性度好,檢測(cè)準(zhǔn)確等特點(diǎn),壽命長(zhǎng),能充分滿足用戶需要?! ?/span>

          3.溫度檢測(cè)全部采用進(jìn)口PT100電阻溫度傳感器,性能穩(wěn)定,線性度好。獨(dú)立套溫和門溫控制,由五個(gè)面的套溫和一個(gè)面的門溫合成工作室溫度,準(zhǔn)確度高。  

          4.O2氣體濃度小于19.8%時(shí),采用高純N2氣體和CO2氣體,保證CO2氣體濃度和O2濃度的準(zhǔn)確性?! ?/span>

          5.O2氣體濃度大于23%時(shí),采用高純O2氣體和CO2氣體,保證CO2氣體濃度和O2濃度的準(zhǔn)確性?!?/span>

          6.箱內(nèi)采用微風(fēng)循環(huán)方式,使空氣循環(huán)接近自然界空氣對(duì)流,縮短溫度、濕度、O2濃度和CO2濃度的恢復(fù)時(shí)間,確保溫度、濕度、O2濃度和CO2濃度的均衡性。  

          7.箱門打開時(shí),電磁閥自動(dòng)關(guān)閉微風(fēng)循環(huán)自動(dòng)停止,減少氣體損失節(jié)約氣源,減少外界空氣進(jìn)入箱內(nèi)而造成的污染?! ?/span>

          8.單獨(dú)的門溫控制系統(tǒng),使箱內(nèi)恒溫控制極少受到環(huán)境溫度變化的影響?! ?/span>

          9.溫度、氣體濃度,均采用數(shù)字顯示,直觀、清晰、準(zhǔn)確?! ?/span>

          10.具有多種保護(hù)功能,當(dāng)顯示溫度超過預(yù)置溫度時(shí),可自動(dòng)切斷全部加熱電源。具有獨(dú)立的超溫繼電保護(hù)功能,保證溫度不超過預(yù)置值。  

          11.水盤自然蒸發(fā)加濕,濕度達(dá)到95%,304不銹鋼材質(zhì),圓弧,易清潔?! ?/span>

          12.滅菌系統(tǒng): 紫外燈滅菌,靈活可控,操作時(shí)間短。

          4.png

          恒溫殺菌三氣培養(yǎng)箱細(xì)胞培養(yǎng)裝置?∣技術(shù)參數(shù):

          型號(hào)

          CHSQ-50-III

          CHSQ-80-III

          CHSQ-100-III

          CHSQ-160-III

          CHSQ-200-III

          顯示屏

          5.0寸觸摸屏

          公稱容積(L

          50

          80

          100

          160

          200

          溫度控制范圍(

          Rt+3-60

          溫度波動(dòng)度(℃)

          ±0.2(@37)

          溫度均勻性(℃)

          ±0.3(@37)

          C02濃度控制范圍(VOL%

          0-20

          C02濃度控制誤差(%

          ±0.1

          02濃度控制范圍(VOL%

          1-95

          02濃度控制誤差(%

          ±0.3

          環(huán)境溫度(℃)

          5-30,建議25±2

          功率

          400

          400

          450

          550

          650

          工作室尺寸(mm)長(zhǎng)**高)

          340*340*450

          400*400*500

          410*410*600

          500*500*650

          500*530*750

          外形尺寸(mm)長(zhǎng)**高)

          480*450*740

          540*520*790

          550*530*890

          640*620*940

          640*650*1040

          定時(shí)范圍(h

          0-999或連續(xù)

          電源電壓(V

                                AC220±22V 50±1HZ

          隔板數(shù)

          2

          CO2控制方式

          IR紅外傳感器

          O2控制方式

          電化學(xué)傳感器

          相對(duì)溫度

          90%RH%,該參數(shù)顯示不控制

          滅菌方式

          紫外滅菌

          三氣培養(yǎng)箱的耗氣量到底有多少呢?平常,儀器的介紹,很少涉及到這個(gè)問題,有的會(huì)主動(dòng)給您介紹,有的,您不問,不會(huì)給您提及這個(gè)問題,今天,我們來聊一聊。
          市面上的三氣培養(yǎng)箱容積,綜合起來,型號(hào)大致30L、50L、 100L、200L、80L、160L、240L、(應(yīng)該來講,不說涵蓋了全部,90%的還是涵蓋了)。
          所謂的耗氣,通常主要是指:
          低氧實(shí)驗(yàn)下,降氧過程中 + 維持低氧環(huán)境下,N2的消耗;
          CO2的消耗相對(duì)于氮?dú)夂脱鯕?,就可以忽略了?0升培養(yǎng)箱一般一罐CO2至少能用3個(gè)月。

          所采用的鋼瓶,不到一人高,基本容積為40L,氣體如果是滿罐氣體,大約12~13MPa,折合來,就是4800L~5200L。
          例如:50L儀器,低氧實(shí)驗(yàn),
          加入50升N2,攪拌均勻后排出50L氣體,此時(shí)箱內(nèi)O2含量約為10.4%;
          再加入50升N2,攪拌均勻后排出50L氣體,此時(shí)箱內(nèi)O2含量約為5.2%;
          再加入50升N2,攪拌均勻后排出50L氣體,此時(shí)箱內(nèi)O2含量約為2.6%;
          再加入50升N2,攪拌均勻后排出50L氣體,此時(shí)箱內(nèi)O2含量約為1.3%,
          所以從空氣濃度降氧,大致5%氧氣濃度時(shí)需2倍箱體容積N2,1%氧氣濃度時(shí)需4倍箱體容積N2。
          耗氣是克服箱體的正常泄露,維持低氧環(huán)境所需消耗的氮?dú)猓话?天需要的氮?dú)饬繛檫M(jìn)氣量的兩倍。耗氣量的消耗,還與儀器的氣密性、鋼瓶的氣密性、減壓閥的氣密性有關(guān)。
          我們按1天開關(guān)兩次門計(jì)算,降氧,N2耗氣量大致消耗量如下:
          1天耗氣量 = 一次進(jìn)氣量×2+維持氣量
          三氣培養(yǎng)箱的耗氣量到底有多少呢?平常,儀器的介紹,很少涉及到這個(gè)問題,有的會(huì)主動(dòng)給您介紹,有的,您不問,不會(huì)給您提及這個(gè)問題,今天,我們來聊一聊。
          市面上的三氣培養(yǎng)箱容積,綜合起來,型號(hào)大致30L、50L、 100L、200L、80L、160L、240L、(應(yīng)該來講,不說涵蓋了全部,90%的還是涵蓋了)。
          所謂的耗氣,通常主要是指:
          低氧實(shí)驗(yàn)下,降氧過程中 + 維持低氧環(huán)境下,N2的消耗;
          CO2的消耗相對(duì)于氮?dú)夂脱鯕?,就可以忽略了?0升培養(yǎng)箱一般一罐CO2至少能用3個(gè)月。
          所采用的鋼瓶,不到一人高,基本容積為40L,氣體如果是滿罐氣體,大約12~13MPa,折合來,就是4800L~5200L。
          例如:50L儀器,低氧實(shí)驗(yàn),
          加入50升N2,攪拌均勻后排出50L氣體,此時(shí)箱內(nèi)O2含量約為10.4%;
          再加入50升N2,攪拌均勻后排出50L氣體,此時(shí)箱內(nèi)O2含量約為5.2%;
          再加入50升N2,攪拌均勻后排出50L氣體,此時(shí)箱內(nèi)O2含量約為2.6%;
          再加入50升N2,攪拌均勻后排出50L氣體,此時(shí)箱內(nèi)O2含量約為1.3%,
          所以從空氣濃度降氧,大致5%氧氣濃度時(shí)需2倍箱體容積N2,1%氧氣濃度時(shí)需4倍箱體容積N2。
          耗氣是克服箱體的正常泄露,維持低氧環(huán)境所需消耗的氮?dú)?,一?天需要的氮?dú)饬繛檫M(jìn)氣量的兩倍。耗氣量的消耗,還與儀器的氣密性、鋼瓶的氣密性、減壓閥的氣密性有關(guān)。
          我們1天開關(guān)兩次門計(jì)算,降氧,N2耗氣量大致消耗量如下:
          1天耗氣量 = 一次進(jìn)氣量×2+維持氣量




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