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          納米激光直寫(xiě)

          具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
          • 公司名稱(chēng) 蘇州華維納納米科技有限公司
          • 品牌 其他品牌
          • 型號(hào)
          • 產(chǎn)地
          • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
          • 更新時(shí)間 2024/9/25 16:41:57
          • 訪問(wèn)次數(shù) 1160

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          公司簡(jiǎn)介:

             蘇州華維納納米科技有限公司是在"蘇州工業(yè)園區(qū)創(chuàng)業(yè)人才項(xiàng)目"的支持下,于2011年注冊(cè)成立的高科技創(chuàng)新型公司,公司由歸國(guó)和國(guó)內(nèi)的高層次人才組成,公司設(shè)有博士后流動(dòng)站。公司曾先后獲得國(guó)家科技部(國(guó)家重大大科學(xué)儀器設(shè)備開(kāi)發(fā)專(zhuān)項(xiàng))和姑蘇、江蘇省雙創(chuàng)人才、以及蘇州x-nano大科學(xué)裝置等項(xiàng)目支持,并于20126月 完成首輪風(fēng)險(xiǎn)融資,成功研發(fā)出擁有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的三大系列新型納米激光光刻系統(tǒng),2015年被認(rèn)定為高新技術(shù)企業(yè)。

          公司近年來(lái),不斷加大研發(fā)力度,已經(jīng)定型了LDW-P LDW-L兩大系列新型激光直寫(xiě)設(shè)備,實(shí)現(xiàn)了激光直寫(xiě)設(shè)備的更新?lián)Q代。該新型激光直寫(xiě)采用全新的技術(shù)路徑提高加工分辨率,一舉突破突衍射極限的限制,成功實(shí)現(xiàn)納米尺度加工;突破了目前激光直寫(xiě)僅能用于有機(jī)光刻膠的現(xiàn)狀,可以廣泛應(yīng)用于各種受體材料,極大地?cái)U(kuò)展了激光直寫(xiě)設(shè)備的應(yīng)用范圍。





          無(wú)掩模納米光刻系統(tǒng),激光直寫(xiě)設(shè)備

          應(yīng)用領(lǐng)域 化工 激光波長(zhǎng) 405nm
          特征尺寸 100nm 激光功率 120mW至300mW(可選)
          芯片尺寸 8英寸 刻寫(xiě)范圍 50mm×50mm至100mm×100mm(可選)

          納米激光直寫(xiě)擅長(zhǎng)wafer尺寸的研究開(kāi)發(fā)和小批量生產(chǎn)

          納米激光直寫(xiě)是一款大面積、高精度、可套刻、超衍射極限加工的激光直寫(xiě)系統(tǒng),可用于晶圓尺寸的大面積微納加工,適用于各種微納結(jié)構(gòu)和器件制造、小批量微納器件生產(chǎn)等。該系列包括L50、L100等不同型號(hào),具有功能強(qiáng)大、維護(hù)簡(jiǎn)單、加工分辨率高、支持多種刻寫(xiě)模式、支持多種受體材料等特征。另外,本系統(tǒng)在設(shè)計(jì)之初保留了充足的物理空間和硬件資源,以滿(mǎn)足后續(xù)功能升級(jí)換代的需求,使產(chǎn)品具有更長(zhǎng)的生命周期。

          蘇州華維納納米科技有限公司于2011年注冊(cè)成立的高科技創(chuàng)新型公司,主要從事新型納米光刻技術(shù)和無(wú)掩模納米光刻機(jī)的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化工作。





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