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Monowave 400R&Cora 5001 微波合成和拉曼光譜聯(lián)用
- 公司名稱 安東帕（上海）商貿(mào)有限公司
- 品牌 Anton Paar/安東帕
- 型號(hào) Monowave 400R&Cora 5001
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2024/1/2 15:15:29
- 訪問(wèn)次數(shù) 510
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| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,電子,綜合 |
微波合成和拉曼光譜聯(lián)用將 Monowave 400 R 與 Cora 5001 拉曼光譜儀結(jié)合使用，可以從以前的黑匣子中接收光譜信息。安東帕結(jié)合了兩種強(qiáng)大的合成化學(xué)技術(shù) – 微波反應(yīng)器 Monowave 400 R 提供了高速化學(xué)反應(yīng)，而拉曼分析儀 Cora 5001 則通過(guò)分子光譜對(duì)其進(jìn)行表征。
微波合成和拉曼光譜聯(lián)用通過(guò)將精確的溫度曲線與有關(guān)反應(yīng)混合物化學(xué)組成的實(shí)時(shí)信息結(jié)合起來(lái)，可以更好地了解反應(yīng)機(jī)理和動(dòng)力學(xué)?；诟羁痰囊?jiàn)解來(lái)優(yōu)化反應(yīng)條件，例如參數(shù)的影響，不同試劑的作用或理想反應(yīng)終點(diǎn)的檢測(cè)。
在高溫高壓的反應(yīng)條件下研究化學(xué)反應(yīng)
Monowave 400 R 提供了高達(dá) 300°C 的溫度和高達(dá) 30 bar 壓力的全部操作參數(shù)。Cora 5001 拉曼分析儀可在反應(yīng)過(guò)程中直接在反應(yīng)瓶?jī)?nèi)進(jìn)行時(shí)間序列測(cè)量，時(shí)間間隔和曝光時(shí)間可調(diào)。微波反應(yīng)器與拉曼光譜儀通過(guò)特殊的光纖拉曼探針連接。
實(shí)時(shí)原位反應(yīng)監(jiān)測(cè)，可更深入地了解反應(yīng)機(jī)理
拉曼光譜法可直接鑒定官能團(tuán)，并提供反應(yīng)混合物組成的定量信息。通過(guò)時(shí)間分辨測(cè)量來(lái)檢測(cè)不可分離的中間體或短壽命過(guò)渡態(tài)，更深入地了解反應(yīng)機(jī)理。
應(yīng)用包括：
- 鑒定活性中間體
- 闡明反應(yīng)機(jī)理
- 研究反應(yīng)動(dòng)力學(xué)
- 監(jiān)測(cè)副產(chǎn)物形成
- 優(yōu)化反應(yīng)條件
就像每次使用非接觸式測(cè)量的新探頭一樣
拉曼探針采用散射法，因此可以透過(guò)硼硅酸鹽玻璃小瓶壁進(jìn)行操作，直接監(jiān)測(cè)加壓反應(yīng)的化學(xué)成分。您可以研究從 2 mL 到 20 mL 的各種刻度，因?yàn)榭梢葬槍?duì) Monowave 400 R 可用的兩種尺寸的反應(yīng)容器最佳地定位激光束的焦點(diǎn)。有了非接觸式測(cè)量，就不會(huì)出現(xiàn)交叉污染，您可以自由選擇反應(yīng)物，且實(shí)驗(yàn)之間無(wú)需清潔。
精確的溫度控制，確保反應(yīng)過(guò)程具有更佳的可重復(fù)性
使用微波進(jìn)行加熱有許多優(yōu)點(diǎn)：它們可以直接加熱反應(yīng)瓶中的反應(yīng)混合物，而無(wú)需加熱周圍環(huán)境。與傳統(tǒng)加熱源不同，可以即刻打開(kāi)和關(guān)閉微波加熱，從而更好控制加熱。Monowave 400 R 利用這些優(yōu)勢(shì)，以更好的速度為任何溶劑提供任何規(guī)模的高效加熱。儀器的軟件控制器不僅可以防止溫度過(guò)沖，而且還可以通過(guò)與所需的溫度程序更好匹配來(lái)促進(jìn)更清潔的轉(zhuǎn)換。這樣可以加快化學(xué)反應(yīng)的速度，并使反應(yīng)溫度遠(yuǎn)高于所用溶劑的沸點(diǎn)。
操作安全可靠
Monowave 400 R 配備有多個(gè)聯(lián)鎖系統(tǒng)，因此用戶可以免受微波和激光輻射的傷害。只有關(guān)閉 Monowave 400 R 的旋轉(zhuǎn)蓋，才能激活兩個(gè)設(shè)備。 組合設(shè)置滿足激光 1 級(jí)可達(dá)到的曝光極限 (AEL)。
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