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          產(chǎn)品展廳

          產(chǎn)品求購(gòu)企業(yè)資訊會(huì)展

          發(fā)布詢價(jià)單
          飛馳(北京)科學(xué)儀器有限公司

          化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>物理特性分析儀器>粒度儀>激光粒度儀>NANOTRAC WAVE II Zeta電位及納米粒度分析儀

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          NANOTRAC WAVE II Zeta電位及納米粒度分析儀

          具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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          深圳市錫成科學(xué)儀器有限公司自成立以來(lái),一直秉承誠(chéng)信經(jīng)營(yíng)的理念,充分考慮客戶的技術(shù)需求及資金預(yù)算,為廣大客戶推薦合適的產(chǎn)品及服務(wù)。

           

          我們自研及代理的國(guó)內(nèi)外多種儀器設(shè)備,廣泛應(yīng)用于材料、電子、新能源、建筑、環(huán)保及化工等領(lǐng)域,用戶涵蓋各類高校、研究所、企業(yè)實(shí)驗(yàn)室和質(zhì)檢部門(mén)等。在樣品制備、分析測(cè)試、材料及器件的性能表征等方面,深受用戶認(rèn)可。

           

          我們將一如既往,努力為客戶提供完善的實(shí)驗(yàn)室一站式服務(wù)。

          臺(tái)階儀,光學(xué)輪廓儀,電化學(xué)工作站,納米壓痕儀,力電聯(lián)測(cè)材料試驗(yàn)機(jī),介電溫譜測(cè)量系統(tǒng),電阻測(cè)試儀,原子力顯微鏡,光學(xué)顯微鏡

          產(chǎn)地類別 進(jìn)口 分散方式 干濕法分散
          價(jià)格區(qū)間 50萬(wàn)-60萬(wàn) 儀器種類 動(dòng)態(tài)光散射
          應(yīng)用領(lǐng)域 綜合

          NANOTRAC WAVE II Zeta電位及納米粒度分析儀采用先進(jìn)的“Y”型光纖探針光路設(shè)計(jì),配置膜電極產(chǎn)生微電場(chǎng),操作簡(jiǎn)單,測(cè)量迅速。

          無(wú)需精確定位由于電泳和電滲等效應(yīng)導(dǎo)致的靜止層,無(wú)需外加大功率電場(chǎng),無(wú)需更換分別用于測(cè)量粒度和Zeta電位的樣品池,消除由于空間位阻(不同光學(xué)元器件間的傳輸損失,比色皿器壁的折射和污染,比色皿位置的差異,分散介質(zhì)的影響,顆粒間多重散射等)帶來(lái)的光學(xué)信號(hào)的損失,結(jié)果準(zhǔn)確可靠,重現(xiàn)性好。

           

          Zeta電位及納米粒度分析儀技術(shù)參數(shù)

          測(cè)量原理:動(dòng)態(tài)光散射法

          Zeta電位測(cè)量:膜電極設(shè)計(jì)與“Y”型探頭形成微電場(chǎng)測(cè)量電泳遷移率

          分子量測(cè)量:水力直徑或德拜曲線

          測(cè)量范圍:0.3 nm - 10 µm

          檢測(cè)角度:180°

          重復(fù)性:±1%

          Zeta電位范圍:-200mV~+200mV

          Zeta粒徑范圍:10nm~20μm

          電泳遷移范圍:0 - 15 (µm/s) / (V/cm)

          電導(dǎo)率范圍:0 - 10 mS / cm

          分子量范圍:<300 da="" -="">20 x 106 Da

          控溫范圍:+4°C ~ +90°C

          溫度精度:±0.1℃

          Zeta測(cè)量重復(fù)性:±3%

           

          Nanotrac Flex:180°動(dòng)態(tài)光背散射

          Nanotrac Wave II:動(dòng)態(tài)光背散射

           

          粒徑與粒形分析方法

          方法名稱

          激光衍射

          動(dòng)態(tài)光散射

          動(dòng)態(tài)圖像分析

          靜態(tài)圖像分析

          測(cè)量范圍

          10nm-4000μm

          1nm-6500nm

          0.8μm-135mm

          0.5μm-1500mm

          尺寸計(jì)算方法

          間接/來(lái)自光散射圖案

          間接/來(lái)自布朗運(yùn)動(dòng)

          直接/來(lái)自顆粒圖像

          單個(gè)粒徑分析

          無(wú)

          無(wú)

          測(cè)量速度

          10-60秒

          30-180秒

          2-5分鐘

          10-60分鐘

          粒形分析

          √(SYNC型除外)

          ×

          濕性分析

          干性分析

          ×

          Zeta電位&分子量

          ×

          ×

          ×

          優(yōu)勢(shì)

          效率、樣品多樣性、重復(fù)性

          納米材料分析,濃度范圍寬

          效率、樣品多樣性、重復(fù)性、高精度、高分辨、參數(shù)多樣性

          精度的形貌測(cè)量

           

           



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