氧氮氫分析系統(tǒng)是用電爐式加熱裝置將約100g~1kg的鋁樣品片在真空中加熱，使鋁溶解，測量并計算出此時產(chǎn)生的煤氣量(mL/100g)的鋁中總煤氣量測定裝置。本裝置在熔解爐上安裝鋁制樣品片后，開始進行真空排氣動作，兼作預(yù)備排氣。當?shù)蕉ㄕ婵斩葧r，指示開始測定時，讀取封入時壓力，開始計時器自動運行。氧氮氫分析系統(tǒng)）經(jīng)過溶解時間后，讀取產(chǎn)生的氣體壓力，通過數(shù)據(jù)處理裝置輸入各種參數(shù)(樣品重量，etc)，計算出鋁中總氣體的量。

將樣品置于石墨坩堝中，坩堝保持在脈沖爐的上電極和下電極之間。大電流通過坩堝產(chǎn)生高溫。

樣品中的氧化物與石墨坩堝反應(yīng)，生成一氧化碳（CO），并隨載氣到達檢測器。釋放的一氧化碳氣體在經(jīng)過粉塵過濾后可直接進行分析，也可以根據(jù)氧的濃度，采用非色散紅檢測方法（NDIR）檢測CO或檢測CO通過氧化劑（氧化銅）氧化后生成的CO2。

氫的檢測通過非色散紅外檢測器測量H2O實現(xiàn)，H2O是由樣品在脈沖電極爐中加熱釋放的H2通過氧化劑（CuO）氧化而來。

氮元素在石墨坩堝加熱過程中以氮氣形式釋放，經(jīng)過粉塵過濾，去除CO2和水分后的檢測是通過通過熱導率檢測器檢測。

高性能

寬檢測范圍和高檢測精度

*檢測范圍: 氧: 0-5%, 氮: 0-3%，氫：0-0.25%

*氧和氮檢測精度： 標準樣品：σn-1≦0.3ppm 或 CV≦1.0%

                            參比氣體：σn-1≦0.02ppm or CV≦0.5%

*氫檢測精度: 參比氣體：σn-1≦0.04ppm或RSD≦2.0%

氧的檢測采用雙檢測器（CO和CO2），用于氮檢測的TCD檢測器為長池型并經(jīng)過優(yōu)化設(shè)計。因此無論氧和氮，均能得到極寬的檢測范圍。

與傳統(tǒng)類型相比，信號處理的優(yōu)化將電噪聲降低一半。