SC181 碳化硅清洗劑
參考價(jià) | ¥ 30 | ¥ 25 | ¥ 20 |
訂貨量 | 25-999Kg | 1000-4999Kg | ≥5000Kg |
- 公司名稱(chēng) 深圳華億科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) SC181
- 產(chǎn)地 廣東
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2023/12/5 10:40:21
- 訪問(wèn)次數(shù) 98
聯(lián)系我們時(shí)請(qǐng)說(shuō)明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!
等離子拋光機(jī),等離子電漿拋光鹽,混凝土脫模劑,建筑模板脫模劑,模板漆,金屬切削液,微乳化切削液,半合成切削液,超聲波清洗劑,脫脂除油劑,防銹劑,金屬抗氧化劑,光學(xué)玻璃清洗劑
產(chǎn)地類(lèi)別 | 國(guó)產(chǎn) | 外觀 | 無(wú)色透明液體 |
---|---|---|---|
比重 | 1.0±0.02 | PH | 6.0~7.0 |
安全性 | 不可燃、無(wú)腐蝕 |
碳化硅清洗劑 碳化硅晶片清洗劑 碳化硅襯底清洗劑 碳化硅拋光片清洗劑 半導(dǎo)體硅片清洗劑
產(chǎn)品概述:
碳化硅拋光片清洗劑SC181是我司專(zhuān)為碳化硅晶片超精密加工研發(fā)的水基清洗劑,可以清除碳化硅晶片表面的微塵、細(xì)微顆粒物、有機(jī)物、金屬離子、金屬氧化物、殘留拋光液等污染物。
利用化學(xué)剝離的原理有效將鍵入在硅片表面的各種污染物去除,清洗劑中的活性物質(zhì)可以吸附在硅片表面,使其長(zhǎng)期處于易清洗的物理吸附狀態(tài)(>120h),而不像難清洗的化學(xué)吸附狀態(tài)轉(zhuǎn)化,并在表面形成保護(hù)層,防止顆粒的二次吸附,實(shí)現(xiàn)了把有害吸附轉(zhuǎn)化為無(wú)害吸附,有效提高外延或擴(kuò)散工序的成品率。主要應(yīng)用于各種硅片切割與研磨拋光后的清洗。
應(yīng)用領(lǐng)域:
碳化硅清洗劑SC181用于半導(dǎo)體芯片、硅片、元器件、薄膜技術(shù)中的玻璃和金屬表面浸漬、噴淋、超聲波的清洗。
產(chǎn)品特點(diǎn):
1.能快速清洗產(chǎn)品表面的硅粉、細(xì)小顆粒物,清除金屬離子、氧化物、拋光液殘留;
2.清洗后產(chǎn)品良率可達(dá)99.8%;
3.對(duì)工件表面無(wú)腐蝕,無(wú)殘留,不變色,無(wú)斑白點(diǎn),潔凈度高;
4.不影響導(dǎo)電性能,不損傷電路及芯片鍍膜層;
5.滲透、去污力強(qiáng),適合于形狀復(fù)雜電子零部件及深孔部件;
6.污垢殘留物經(jīng)清洗、剝離后沉底,增強(qiáng)了循環(huán)使用的壽命;
7.無(wú)毒,無(wú)閃點(diǎn),不燃不爆,使用安全;
8.水基環(huán)保,可生物降解,符合 ROHS 指令。
物性參數(shù):
碳化硅清洗劑SC181 | |
外觀 | 無(wú)色至微黃色液體 |
比重 | 1.02±0.02 |
水溶性 | 易溶解 |
PH | 6.0-7.0 |
安全性 | 不可燃、無(wú)腐蝕 |
操作工藝:
清洗殘留顆粒物:碳化硅清洗劑SC181原液1:5-10兌水稀釋使用,需加溫40-60℃,超聲波清洗5-10分鐘;
清洗殘留研磨液:超聲波清洗設(shè)備超聲振動(dòng),根據(jù)臟污情況原液使用,或兌水稀釋5-10倍使用;
適用于多晶硅、單晶硅、硅片及相關(guān)的硅片及延伸產(chǎn)品浸漬、噴淋清洗處理。超聲波效果更佳。
注意事項(xiàng):
清洗后的碳化硅晶片應(yīng)儲(chǔ)存在防塵的容器中,避免再次受到污染。
產(chǎn)品包裝、貯存和運(yùn)輸:
塑料桶包裝: 25KG/桶,非危險(xiǎn)品易于儲(chǔ)存和運(yùn)輸;
貯存期兩年,不能露天存放,防止日曬雨淋;
未使用完的清洗劑須將桶蓋擰緊,避免水分及雜質(zhì)混入。