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透明晶圓缺陷掃描Lumina AT2-EFEM
| 參考價(jià) | ￥ 1000000 |
| 訂貨量 | ≥1件 |
- 公司名稱 北京伊微視科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 其他
- 更新時(shí)間 2024/3/19 14:42:51
- 訪問(wèn)次數(shù) 112
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簡(jiǎn)介：
透明晶圓缺陷掃描LuminaAT2-EFEM可以在2分鐘內(nèi)完成300毫米晶圓的掃描，對(duì)于基底上下表面的顆粒、凸起、凹陷、劃痕、內(nèi)含物等缺陷均可一次性成像。在透明基底，如玻璃，化合物半導(dǎo)體如氮化鎵、砷化鎵、碳化硅等樣品上有的優(yōu)勢(shì)。也可用于薄膜涂層的成像厚度變化的全表面掃描。
樣品300 x 300 mm。
廠商簡(jiǎn)介
Lumina Instruments，總部位于美國(guó)加利福尼亞州圣何塞，公司創(chuàng)始人在透明、半透明和不透明基板全表面缺陷檢測(cè)創(chuàng)新了更快速準(zhǔn)確的方法，因此創(chuàng)建了革命性的儀器品牌lumina.
技術(shù)創(chuàng)新
將樣片放入系統(tǒng)中，3~5分鐘即可完成掃描。
收集的數(shù)據(jù)將被分析，圖像和缺陷圖將由LuminaSoft軟件生成。
感興趣的缺陷可在掃描電子顯微鏡（SEM）、橢偏儀、顯微鏡等上進(jìn)行進(jìn)一步分析。
將樣品放入系統(tǒng)
直徑為30微米的綠色激光以50毫米的直線運(yùn)動(dòng)，反射光和散射光由四個(gè)探測(cè)器捕獲。
四通道檢測(cè)
AT2-EFEM有四個(gè)檢測(cè)通道。它們同時(shí)運(yùn)行以生成四個(gè)獨(dú)立的圖像。每個(gè)通道有助于檢測(cè)和分類某些缺陷。
極化：薄膜缺陷、污漬
反射率：劃痕、內(nèi)應(yīng)力*、玻璃內(nèi)的條紋*
坡度：劃痕、凹坑、凸起、表面形貌
暗場(chǎng)：納米顆粒、包裹體
透明晶圓缺陷掃描Lumina AT2-EFEM:采取的樣品尺寸為300mm；光斑的大小在60μm也可以選擇30或10μm；靈敏度在300nm理想；掃描時(shí)間在40/50/120s。
AT2應(yīng)用案例：
l 內(nèi)部缺陷：在融化階段，玻璃內(nèi)含有污染物
l 內(nèi)應(yīng)力：生產(chǎn)過(guò)程中玻璃內(nèi)部形成的張力或折射率內(nèi)部變化。
l 污漬：由于薄膜殘留或清洗過(guò)程導(dǎo)致表面變色。
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