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          Unitemp真空快速退火爐RTP-100,RTP-150

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          昱臣半導(dǎo)體技術(shù)(香港)有限公司是專(zhuān)業(yè)的半導(dǎo)體及微電子領(lǐng)域儀器設(shè)備供應(yīng)商,昱臣半導(dǎo)體技術(shù)(香港)有限公司所代理的儀器設(shè)備廣泛用于高校、研究所、半導(dǎo)體企業(yè)。

          昱臣半導(dǎo)體技術(shù)(香港)有限公司目前代理的主要產(chǎn)品包括:

          - 霍爾效應(yīng)測(cè)試儀(Hall Effect Measurement System);

          - 快速退火爐(RTP);

          - 回流焊爐,真空燒結(jié)爐(Reflow Solder System);

          - 探針臺(tái)(Probe Station),低溫探針臺(tái)(Cryogenic Probe Station);

          - 貼片機(jī)(Die Bonder),劃片機(jī)(Scriber),球焊機(jī)/鍥焊機(jī)(Wire Bonder);

          - 原子層沉積系統(tǒng)(ALD),等離子增強(qiáng)原子層沉積設(shè)備(PEALD);

          - 磁控濺射鍍膜機(jī)(Sputter),電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)(E-beam Evaporator),熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)(Thermal Evaporator),脈沖激光沉積系統(tǒng)(PLD) ;

          - 低壓化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(LPCVD),等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PECVD),快速熱化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(RTCVD);

          - 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)(RIE),ICP刻蝕機(jī),等離子體刻蝕機(jī);

          - 致冷機(jī)/低溫恒溫器(Cryostat/Cryocooler);

          - 加熱臺(tái)、熱板、烤膠臺(tái) (Hot Chuck / Hot Plate);

          - 掃描開(kāi)爾文探針系統(tǒng)(Kelvin Probe),光反射膜厚儀(Reflectometer);

          - 高溫超導(dǎo)磁體(HTS Magnet),快速場(chǎng)循環(huán)核磁共振弛豫測(cè)試儀(FFC Reflexometer);






          原子層沉積系統(tǒng),快速退火爐,PECVD,刻蝕機(jī)

          RTP-100/150快速退火爐為德國(guó)優(yōu)尼坦公司生產(chǎn),分為RTP-100, RTP-150, RSO-200,VPO-300共四個(gè)型號(hào),分別對(duì)應(yīng)4英寸、6英寸、8英寸、12英寸的真空快速退火爐產(chǎn)品。

          點(diǎn)擊查閱詳細(xì)信息

          技術(shù)規(guī)格:

          - 溫度:1200攝氏度;

          - 升溫速率:150攝氏度/秒;

          - 降溫速度:200攝氏度/分鐘 (1000攝氏度-->400攝氏度);

          - 溫控均勻性:≤ 1.5%設(shè)定溫度;

          - 加熱方式:紅外鹵素?zé)簦敳考暗撞考訜幔?/p>

          - 燈管數(shù)量及功率:18支/20千瓦(RTP-100),24支/21千瓦(RTP-150);

          - 腔體冷卻:水冷方式;

          - 襯底冷卻:氮?dú)獯祾撸?/p>

          - 工藝氣路:MFC控制,最多4路 (氮?dú)?、氬氣、氧氣、氫氮混合氣?;

          - 主機(jī)尺寸及重量:505mm x 504mm x 420mm (W x D x H),約55Kg;

           

          儀器特點(diǎn):

          - 真空快速退火爐,有低真空型號(hào)(10-3 hPa)、高真空型號(hào)(10-6 hPa);

          - 可在不同氣氛環(huán)境下使用,如惰性氣體、氧氣、氫氮混合氣等;

          - 控制方式:SIMATIC, SPS人機(jī)界面控制,7英寸觸摸屏;

          - 可存儲(chǔ)50個(gè)程序,每個(gè)程序最多分為50段控制;

          - 全自動(dòng)智能控制,包括溫度、時(shí)間、氣體流量、真空度、循環(huán)水均可自動(dòng)設(shè)置;

          - 優(yōu)異的溫控均勻性,良好的工藝重現(xiàn)性;

          - 小尺寸臺(tái)式設(shè)計(jì);

           

          應(yīng)用領(lǐng)域:

          - 離子注入/接觸退火;

          - 快速熱處理(RTP),快速退火(RTA),快速熱氧化(RTO),快速熱氮化(RTN);

          - 可在真空、惰性氣氛、氧氣、氫氣、混合氣等不同環(huán)境下使用;

          - SiAu, SiAl, SiMo合金化;

          - 低介電材料;

          - 晶體化,致密化;

          - 太陽(yáng)能電池片鍵合;

          等等...


          參考客戶:

          西安交通大學(xué)、西安電子科技大學(xué)、中國(guó)科技大學(xué)、江漢大學(xué)、中科院上海技術(shù)物理所、中科院蘇州納米所、北京航天儀器研究所、京東方、武漢光迅、能華微電子等。

           


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