半導(dǎo)體濕法腐蝕清洗設(shè)備,wet bench,晶圓清洗機(jī),RCA清洗機(jī),重腐蝕機(jī),刻蝕機(jī),wet ETCHing,供液裝置,桶清洗設(shè)備,灌裝,鈮酸鋰/鉭酸鋰清洗機(jī),氧化鉀清洗機(jī),lift-off,去膠,去蠟,刷洗機(jī),基板清洗機(jī),掩膜版清洗機(jī),mask
鈮酸鋰/鉭酸鋰拋光后清洗機(jī)
產(chǎn)品尺寸:4/6/8/12英寸圓片
處理能力:25片/50片 每槽
清洗技術(shù):超聲、加熱、拋動(dòng)、噴淋、溢流、鼓泡、快排
是否包含local cds:是
是否自動(dòng)機(jī)臺(tái):是
鈮酸鋰/鉭酸鋰拋光后清洗機(jī)詳細(xì)介紹
1、臺(tái)面布局
2、功能介紹
上料:50片/批次;自動(dòng)抓??;手動(dòng)透明安全門(mén);
1#(加熱超聲槽):拋動(dòng)、循環(huán);超聲;不銹鋼加熱器60±5℃;時(shí)間可設(shè)定;重力直排;
2#(加熱超聲槽):拋動(dòng)、循環(huán)過(guò)濾;超聲;不銹鋼加熱器60±5℃;時(shí)間可設(shè)定;重力直排;
4#(加熱超聲槽):拋動(dòng)、循環(huán)過(guò)濾;超聲;不銹鋼加熱器60±5℃;時(shí)間可設(shè)定;重力直排;
3#、5#(熱水溢流槽):預(yù)熱箱預(yù)熱供給50℃熱水;慢溢流,溢流時(shí)間可設(shè);
6#(QDR槽):廠務(wù)供水;常溫;噴淋;溢流;氮?dú)夤呐?;快排;工藝時(shí)間可設(shè)定;
下料:濕出;50片/批次;手動(dòng)取出;自動(dòng)透明安全門(mén);(下料時(shí)若無(wú)人員按鈕確認(rèn)產(chǎn)品一直在6號(hào)槽慢溢流保護(hù))
3、動(dòng)力條件
買方提供設(shè)備的用電、氣、水等公用廠務(wù)的接口以實(shí)際設(shè)計(jì)為準(zhǔn)
序號(hào) | 種類 | 規(guī)格 | 材質(zhì) | 方式 |
1 | 電源 | 380V 三相五線 50Hz 35KW | ||
2 | 去離子水 | 0.2~0.3MPa,4 m3/h(間斷用), 進(jìn)水管:DN25(外徑32mm)。 | CPVC或PFA | 活接 |
3 | 高壓空氣 | 0.6MPa,一般為6m3/h, 進(jìn)氣口徑 ≥φ10mm。 | PP或TPU軟管 | 內(nèi)螺紋 |
4 | 氮?dú)?/span> | 0.4~0.6MPa,一般為3 m3/h,進(jìn)氣口徑 ≥φ10mm。 | PP或TPU軟管 | 內(nèi)螺紋 |
5 | 排 風(fēng) 量 | 6000 m3/h,2*DN200。 | SUS304材質(zhì) | 法蘭 |
6 | 廢水排放 | 4.3 m3/h,英制D2”*2 或DN40(外徑50mm) | PP | 活接 |