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Beneq C2R--空間原子層沉積ALD
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱(chēng) 深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
- 品牌 Beneq
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷(xiāo)商
- 更新時(shí)間 2024/9/5 14:56:52
- 訪問(wèn)次數(shù) 163
產(chǎn)品標(biāo)簽
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| 價(jià)格區(qū)間 | 面議 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 能源,電子,電氣,綜合 |
|---|
1.產(chǎn)品概述：
Beneq C2R 將等離子體增強(qiáng)原子層沉積 （PEALD） 工藝提升到一個(gè)全新的水平 – PEALD 可用于大批量生產(chǎn)。由于采用等離子體增強(qiáng)旋轉(zhuǎn)原子層沉積工藝，Beneq C2R 是厚原子層沉積膜的理想選擇，甚至可達(dá)幾微米。
2.產(chǎn)品配置:
Beneq C2R 具有基于 Brooks Automation 值得信賴(lài)的 MX400 傳輸模塊的自動(dòng)化選項(xiàng)。
自動(dòng)化服務(wù)包括：
Brooks MX400 基于集群的模塊
雙臂掃地機(jī)器人
樣品對(duì)準(zhǔn)器
可選預(yù)熱和冷卻
3.產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：
超高沉積速率，高達(dá)每小時(shí)幾微米
批量 PEALD 工藝，適用于多達(dá) 7 個(gè) 200 mm 晶圓
適用于厚度達(dá) 30 mm 的鏡頭和其他 3D 基板
膜厚均勻性高，適用于要求苛刻的光學(xué)鍍膜應(yīng)用
可配備負(fù)載鎖或晶圓自動(dòng)化
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