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          SENTECH SLI 激光干涉儀

          具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
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          SLI

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          深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

          致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測試儀表及相關(guān)儀器裝備維護(hù)、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實(shí)驗(yàn)室整體服務(wù)。

          公司目前已授實(shí)用新型權(quán)利 29 項(xiàng),軟件著作權(quán) 14 項(xiàng),是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。

           

           

           

           

           

           

           

           

          冷熱臺,快速退火爐,光刻機(jī),納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

          產(chǎn)地類別 進(jìn)口 價(jià)格區(qū)間 面議
          應(yīng)用領(lǐng)域 化工,電子,電氣

          1. 產(chǎn)品概述

          用于SENTECH Instruments等離子系統(tǒng)的SENTECH SLI激光干涉儀端點(diǎn)監(jiān)測器與聚焦的相干激光束一起工作。激光束穿過等離子系統(tǒng)的頂部視口,并被樣品反射。反射光照射到檢測器上并測量強(qiáng)度。

          2. 主要功能與優(yōu)勢

          用于蝕刻和沉積工藝的自動激光終點(diǎn)檢測

          使用SENTECH SLI激光干涉儀進(jìn)行原位測量特別適用于監(jiān)測透明層的終點(diǎn)檢測、透明層界面的終點(diǎn)檢測以及蝕刻不透明薄膜和在界面上停留的終點(diǎn)檢測。

          多層模式順序端點(diǎn)配方

          多終點(diǎn)配方包括 EPD 的多個條件,這些條件按順序執(zhí)行,從而可以在多層蝕刻過程中根據(jù)單個薄膜特性更改等離子體工藝參數(shù)。

          SENTECH操作軟件SIA集成的終點(diǎn)檢測

          SENTECH SLI激光干涉儀可以與SENTECH操作軟件SIA集成,用于特定的終點(diǎn)檢測配方,通過使用簡單的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)命令行直接參數(shù)化終點(diǎn)監(jiān)測。

          3. 靈活性和模塊化

          SENTECH SLI 激光干涉儀原位光學(xué)計(jì)量終點(diǎn)監(jiān)測儀可與整個系列的 SENTECH 等離子蝕刻和沉積處理系統(tǒng)一起使用,它與穿過等離子系統(tǒng)頂部視口的聚焦相干激光束一起工作,然后被樣品反射以準(zhǔn)確測量強(qiáng)度。

          單獨(dú)的照明 LED) 和 CCD 攝像頭用于觀察樣品和調(diào)整激光光斑。整個終點(diǎn)監(jiān)視器由自動 x y 載物臺移動,允許使用 SENTECH SIA 操作軟件系統(tǒng)輕松進(jìn)行點(diǎn)調(diào)整。

          使用 SENTECH SLI 激光干涉儀進(jìn)行自動原位測量非常適合在蝕刻或生長透明層或?qū)訝罱Y(jié)構(gòu)時(shí)監(jiān)測層厚度。




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