因?yàn)槭欠瞧茐男缘目焖?、直接測(cè)量，X射線(xiàn)熒光（XRF）成為一種廣泛使用的鍍層厚度和成分測(cè)量技術(shù)。為測(cè)量小型化的鍍層，傳統(tǒng)XRF分析儀使用機(jī)械準(zhǔn)直裝置將X射線(xiàn)管的光束尺寸減小到幾分之一毫米。這一過(guò)程通過(guò)在X射線(xiàn)管前方放置一塊鉆有小孔的金屬塊實(shí)現(xiàn)，僅允許與孔對(duì)準(zhǔn)的X射線(xiàn)穿過(guò)并到達(dá)樣品。絕大多數(shù)X射線(xiàn)輸出不能用于分析，因?yàn)樗粶?zhǔn)直器塊阻擋。

較為新型的精細(xì)特征測(cè)量方法是使用毛細(xì)聚焦管光學(xué)元件。這是一個(gè)聚焦光學(xué)元件，由一組彎曲為錐形的細(xì)小玻璃管組成。X射線(xiàn)通過(guò)反射引導(dǎo)穿過(guò)管道，類(lèi)似于光纖技術(shù)中的光引導(dǎo)方式。毛細(xì)聚焦管光學(xué)元件與微束X射線(xiàn)管匹配以收集更多的X射線(xiàn)管輸出。其焦斑小區(qū)域上的X射線(xiàn)強(qiáng)度比機(jī)械準(zhǔn)直系統(tǒng)高出幾個(gè)數(shù)量級(jí)。XRF鍍層測(cè)厚儀中的毛細(xì)聚焦管光學(xué)元件具有以下幾個(gè)優(yōu)點(diǎn)：

1、更小的特征測(cè)量

毛細(xì)聚焦管光學(xué)元件的光束尺寸小于20μm，因此可以測(cè)量微電子設(shè)備、電路板、連接器、引腳框架和晶片的超精細(xì)特征。它可以測(cè)量機(jī)械準(zhǔn)直器無(wú)法測(cè)量的區(qū)域。

2、更薄的鍍層測(cè)量

XRF分析儀裝有毛細(xì)聚焦管，能將更多的X射線(xiàn)管輸出聚焦到樣品上，從而測(cè)量納米級(jí)的鍍層。

3、更高的測(cè)試量和更高的置信度

光學(xué)器件產(chǎn)生的更大強(qiáng)度帶來(lái)更高的計(jì)數(shù)率。在XRF中，更高的計(jì)數(shù)率意味著更高的精度和更快的結(jié)果。這可以在任何給定時(shí)間段內(nèi)進(jìn)行更多的測(cè)量且得到置信度更高的結(jié)果，從而實(shí)現(xiàn)更好的質(zhì)量控制和更緊密的生產(chǎn)。

4、更容易符合指標(biāo)

XRF在確定和控制飾面處理厚度過(guò)程中的使用可通過(guò)用于ENIG（化學(xué)鍍鎳/浸金）和ENEPIG（化學(xué)鍍鎳/化學(xué)鍍鈀/浸金）分析的性能指標(biāo)IPC-4556來(lái)實(shí)現(xiàn)，這些測(cè)試必須證明在確定公差范圍內(nèi)的性能水平。使用毛細(xì)聚焦管更易實(shí)現(xiàn)這一性能水平。

日立分析儀器的FT150系列鍍層測(cè)厚儀將毛細(xì)聚焦管與高分辨率Vortex®檢測(cè)器、高精度載物臺(tái)、高清攝像頭和智能軟件相結(jié)合，以對(duì)超精細(xì)特征的超精細(xì)鍍層進(jìn)行元素分析。

 
日立分析儀器擁有40年的鍍層分析專(zhuān)業(yè)知識(shí)，已成功開(kāi)發(fā)了1,000多種應(yīng)用和產(chǎn)品，其中包括：微焦斑、臺(tái)式和手持式XRF光譜儀，以及臺(tái)式和手持式磁感應(yīng)電渦流測(cè)厚儀。