目錄:弗爾德（上海）儀器設(shè)備有限公司>>QATM（奧德鎂）金相制樣設(shè)備>>QATM手動/自動磨拋機(jī)>> QATM Saphir 550 自動單盤磨拋機(jī)
| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 尺寸（L*W*D） | 560 x 550 - 650 x 660 mm |
|---|---|---|---|
| 價(jià)格區(qū)間 | 面議 | 磨盤尺寸 | 直徑200-300 mmmm |
| 磨盤個數(shù) | 1個 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子,交通,冶金,航天,汽車 |
| 轉(zhuǎn)速 | 50-600 rpmrpm |
QATM Saphir 550 自動單盤磨拋機(jī)磨拋頭：
Rubin 520磨拋頭的單點(diǎn)力加載方式可實(shí)現(xiàn)同時對不同直徑和材料的樣品進(jìn)行制備。它還附帶記憶功能，用于設(shè)置左右移動位置和上下移動位置。Rubin 520通過設(shè)計(jì)清晰的觸摸屏進(jìn)行操作，可在此進(jìn)行程序編輯及存儲。磨拋夾具更換起來快速方便，并可沿順時針和逆時針方向旋轉(zhuǎn)。
可變轉(zhuǎn)速：
磨拋機(jī)上的顯示屏通過數(shù)字形式顯示轉(zhuǎn)速。工作盤轉(zhuǎn)速可在50-600 rpm間無級調(diào)節(jié)。磨拋頭轉(zhuǎn)速可在 30-150 rpm 間單獨(dú)進(jìn)行調(diào)節(jié)。上述轉(zhuǎn)速均可以在磨拋過程中實(shí)時調(diào)整。
材料去除量控制功能：
材料去除量可以在制樣前通過程序預(yù)設(shè)，并在制樣過程中全自動控制。在達(dá)到程序預(yù)設(shè)的材料去除量時，制樣過程會自動停止。
QATM Saphir 550 自動單盤磨拋機(jī)特色：
磨拋頭可順時針/逆時針轉(zhuǎn)動
電子控制的觸摸屏顯示器，操作簡便
可編程并存儲上萬種制樣方法
側(cè)邊和高度調(diào)整的記憶功能
自動防護(hù)罩
工作區(qū)域節(jié)電LED照明
帶清潔和冷卻功能的集成注水系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)底盤冷卻
自動給水
帶防濺環(huán)和蓋
鋁制機(jī)架，粉末涂層
磨削量可控：10μm精度
自動加液系統(tǒng)，帶6個泵，單獨(dú)氧化拋光系統(tǒng)
QATM Saphir 550 自動單盤磨拋機(jī)主要參數(shù)：
| 功率： | 3.2 kVA |
| 電源： | 230 V/50 Hz (1/N/PE) |
| Saphir 550 | |
| 底盤直徑： | ?200-300 mm |
| 轉(zhuǎn)速可調(diào)： | 50-600 rpm |
| Rubin 520 | |
| 單點(diǎn)加壓： | 1-6個試樣，直徑50 mm |
| 中心加壓： | 根據(jù)試樣選擇磨拋夾具，可定制 |
| 轉(zhuǎn)速可調(diào)： | 30-150 rpm |
| 壓力： | 可調(diào) |
| 單點(diǎn)加壓： | 5-100 N |
| 中心加壓： | 20 - 400 N |
| 寬 x 高 x 深： | 約560 x 550 - 650 x 660 mm |
| 重量： | 約 85 kg |
(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)
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