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          目錄:孚光精儀(中國)有限公司>>光學(xué)精密儀器>> FPULT-RSS晶圓去膠剝離機(jī),光刻膠清洗機(jī)適合光膠bo離

          晶圓去膠剝離機(jī),光刻膠清洗機(jī)適合光膠bo離
          • 晶圓去膠剝離機(jī),光刻膠清洗機(jī)適合光膠bo離
          參考價(jià) 面議
          具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
          參考價(jià) 面議
          具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
          • 品牌 其他品牌
          • 型號(hào) FPULT-RSS
          • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
          • 所在地 上海市
          屬性

          應(yīng)用領(lǐng)域:能源,電子,綜合

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          更新時(shí)間:2022-08-25 09:23:19瀏覽次數(shù):603評價(jià)

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          晶圓去膠剝離機(jī)RSSx124,126,128,133系列是ULTRA光刻膠清洗機(jī)器,適合晶片、光掩模和基板清洗去膠剝離工藝需求。晶圓去膠剝離機(jī)RSSx 124、126、128或133專門配置用于晶片、光掩模和基板的基于負(fù)和正光致抗蝕劑的工藝。

          晶圓去膠剝離機(jī)RSS系列是ULTRA光刻膠清洗機(jī)器,適合晶片、光掩模和基板清洗去膠剝離工藝需求。晶圓去膠剝離機(jī)RSSx 124、126、128或133專門配置用于晶片、光掩模和基板的基于負(fù)和正光致抗蝕劑的工藝。
          晶圓去膠剝離機(jī)非??煽壳医?jīng)濟(jì)高效,采用了經(jīng)過驗(yàn)證的各種光刻膠剝離和清潔技術(shù)。晶圓去膠剝離機(jī)RSSx可配置有多個(gè)清潔選項(xiàng),包括硫酸過氧化物、表面活性劑和/或DI-H2O的刷子;用于DI-H2O或化學(xué)制品的Megasonic噴嘴;用于化學(xué)配藥的低壓噴嘴;化學(xué)和DI-H2O加熱器;還有更多??焖儆行У母稍锛夹g(shù)結(jié)合了可變的旋轉(zhuǎn)速度;可選加熱的DI-H2O;和氮輔助。該晶圓去膠剝離機(jī)系統(tǒng)非常安全,具有“沖洗至pH"功能,可在接觸基質(zhì)之前去除腔室內(nèi)的任何化學(xué)物質(zhì)。
          晶圓去膠剝離機(jī)特點(diǎn)
          •設(shè)計(jì)用于重要控制和安全的系統(tǒng)
          •可調(diào)式卡盤,可安裝4x4"至9x9"半自動(dòng)變速箱帶腔室基板的標(biāo)準(zhǔn)光掩模,適合高達(dá)300mm直徑晶圓
          •能夠?qū)崿F(xiàn)65nm節(jié)點(diǎn)和更好的處理。
          •帶伺服電機(jī)的主軸組件。
          •帶可編程自動(dòng)變速器的擺動(dòng)電刷組件用于化學(xué)和加熱的雙氧水分配的上/下和自清潔。
          •振蕩加熱的DI-H2O低壓分配臂。
          •背面加熱的DI-H2O,用于剝離和干燥輔助。
          •全密封和徑向排氣室,用于:來自蓋子的N2進(jìn)料的最大層流。
          •安全沖洗至整個(gè)工藝區(qū)域和基底的pH值禁止進(jìn)入工藝和排水分流器的聯(lián)鎖裝置用于化學(xué)和沖洗DI-H2O的閥門
          •采用聚四氟乙烯涂層不銹鋼的聚偏氟乙烯工藝室鋼表面和獨(dú)立聚丙烯機(jī)柜。
          •帶液位傳感和數(shù)字傳感器的化學(xué)用于Nano Strip®或Pure Strip®罐的流量計(jì)。
          •具有三十(30)種配方的微處理器控制,具有:觸摸屏圖形用戶,每個(gè)步驟三十(30)步可調(diào)節(jié)臂速度和行程的界面(GUI)位置、屏幕錯(cuò)誤報(bào)告。
          •帶按鈕打開/關(guān)閉的平蓋
          •RSSx124型:29.5英寸寬X 35.25英寸深,最多兩個(gè)處理臂
          •RSSx126型:34.5英寸寬X 35.25英寸深,最多四個(gè)工藝臂
          •設(shè)計(jì)符合SEMI S2/S8指南


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