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更新時(shí)間：2024-11-07 11:26:45
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這款激光等離子體EUV光源是采用激光誘導(dǎo)等離子體LPP技術(shù)制造的LPP-EUV光刻光源,具有超高亮度和超低碎屑debris*優(yōu)勢(shì),非常適合取代Cymer公司LPP-EUV極紫外光源用于光刻。
這款
激光等離子體EUV光源采用快速旋轉(zhuǎn)液體金屬靶材，這種創(chuàng)新型的LPP靶材配備碎屑減緩技術(shù)（debris mitigation techniques）從而產(chǎn)生了清潔的光子EUV光源。
激光等離子體EUV光源采用快速旋轉(zhuǎn)靶材技術(shù)，具有如下特點(diǎn)：
-將液滴碎片重定向到遠(yuǎn)離輸入（激光）和輸出（EUV）窗口的位置
-高重復(fù)率激光系統(tǒng)（高達(dá)1MHZ）的無(wú)干擾靶面
-目標(biāo)連續(xù)時(shí)所需的最小同步
-優(yōu)良的固有源空間穩(wěn)定性
高轉(zhuǎn)速使得液滴角速度分布發(fā)生劇烈變化，初始速度與目標(biāo)線速度相當(dāng)
激光等離子體EUV光源型號(hào)S規(guī)格參數(shù)
| 型號(hào) | EUV收集角 sr | 激光平均 功率, W | 激光 脈寬, ns | 激光重復(fù) 頻率, kHz | 等離子體 尺寸, µm | 亮度*, W/mm 2sr | EUV 功率** mW | 收集器壽命***, % |
| s100 | 0.05 | 100 | 1.5 | 25 | 60 | 110 | 5 | >1年 |
| s200 | 0.05 | 200 | 1.5 | 50 | 60 | 220 | 10 | >0.5年 |
| s400 | 0.05 | 400 | 1.5 | 100 | 60 | 450 | 20 | >0.5年 |
| 型號(hào) | EUV收集角 sr | 激光平均 功率, W | 激光 脈寬, ns | 激光重復(fù) 頻率, kHz | 等離子體 尺寸, µm | 亮度* W/mm 2sr | EUV功率** mW | 收集器壽命***, % |
| M100 | 0.15 | 100 | 1.5 | 25 | 60 | 110 | 15 | >1year |
| M200 | 0.15 | 200 | 1.5 | 50 | 60 | 220 | 30 | >0.5year |
| M400 | 0.15 | 400 | 1.5 | 100 | 60 | 450 | 60 | >0.5year |
說(shuō)明：所有參數(shù)均適用于帶內(nèi)（13.5 nm±1%）輻射。帶內(nèi)輻射的轉(zhuǎn)換效率為2%@2π。對(duì)于全波段（13.5nm±2%）的轉(zhuǎn)換效率為4%@2π，允許雙倍亮度和收集的EUV功率加倍。
通過(guò)使用可更換的膜，可以防止任何顆粒到達(dá)包含十字線、膜和任何敏感元件的腔室
*-在30-60um不同光源尺寸的等離子體中（亮度越高，光斑尺寸越?。?/p>
**-收集后鏡像。
***-反射率損失10%的時(shí)間
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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