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          幾種除濕方式比較

          閱讀:2238      發(fā)布時(shí)間:2015-3-10
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          3-1 冷卻除濕方式 

             將空氣冷卻至露點(diǎn)溫度以下,空氣中的水氣即凝結(jié)成水。將凝結(jié)水排除再加熱即可獲得低濕度的空氣。空氣的冷卻來(lái)源可使用冷凍機(jī)的冷媒、冰水或鹵水。 

          ( 特性 ) 
          (1) 若冷卻盤管的表面溫度在 0℃ 以下,凝結(jié)水即在盤管表面凍結(jié),使冷卻效率降低除濕效果也降低,因此無(wú)法獲得穩(wěn)定濕度。 
          (2) 一般使用上,冷卻除濕的界限是在露點(diǎn)溫度 0℃ 以上。 
          (3) 如設(shè)備大型化,即增大耗電量,提高運(yùn)轉(zhuǎn)費(fèi)。

          3-2 壓縮除濕方式 

             將空氣壓縮再冷卻,空氣中的水氣即凝結(jié)成水。將凝結(jié)的水排除再加熱即可獲得低濕度的空氣。空氣中的水份以下列公式表示 
          X=0 . 622XPs/(P 一 Ps) 
          X :濕度 Kg/Kg 
          P :壓縮空氣的壓力 Kg/cm2abs . 
          Ps :蒸氣分壓 Kg/cm2abs .

            上列公式表示提高空氣的壓縮力 P,即減少濕度X,可獲得較低的濕度。 
          (特性) 
             (1) 適合小風(fēng)量,低露點(diǎn)除濕。 
             (2) 壓縮動(dòng)力費(fèi)較大。 
             (3) 適合儀表、控制等需要高壓少量除濕空氣者用。

          3-3 化學(xué)除濕方式

              3-3-1 吸附劑間歇型 ( 塔式 )

                 將固體吸附劑 ( 如矽膠、分于篩、活性氣化鋁、沸石等 ) 作為固定層,填 充于塔 ( 筒 )內(nèi),使用二塔以上的塔,一塔用于吸附空氣水份,另一塔再生, 經(jīng)過(guò)一定時(shí)間後將塔轉(zhuǎn)換并改變空氣回路使吸濕與再生作用互換,如此可產(chǎn)生 
          間歇性的除濕空氣。

                吸附劑的表面為多孔性的結(jié)構(gòu),空氣中的水份因毛細(xì)管作用而吸附于表面, 因此有吸濕作用。(圖 -2 

          特性 )

             (1) 使用固體吸附劑,可獲得低露點(diǎn)除濕空氣。

             (2) 以固定時(shí)間轉(zhuǎn)換除濕、再生,因此不能連續(xù)獲得穩(wěn)定的除濕空氣。

             (3) 需要定時(shí)更換吸附劑。

             (4) 裝置的壓力損失大。

             (5) 再生溫度高。

             (6) 氣體流動(dòng)之回路為全密閉式,因此可用於非空氣之氣體除濕。

          3-3-2 液體型吸收劑

                使用氯化鋰溶液為吸收劑,由除濕器、再生器及循環(huán)泵構(gòu)成主要系統(tǒng),當(dāng)空氣在除濕器內(nèi)與噴撒的吸收液接觸時(shí),空氣中的水份被溶液吸收而除濕,再由冷卻盤管冷卻因吸收作用產(chǎn)生的凝結(jié)吸收熱。已吸收水份的溶液,由溶液循環(huán)泵送到再生器,和由加熱盤管加熱的再生空氣接觸,溶液中的水份蒸發(fā)并伴隨再生空氣排出室外,因此再生器內(nèi)溶液的濃度提高,再度由循環(huán)泵送入除濕器。 (圖 -3 )

          特性 )

              (1) 連續(xù)除濕、再生動(dòng)作,可獲得穩(wěn)定的除濕空氣。

            (2) 由于溶液是以霧狀與空氣接處,需防止溶液帶出或飛散。

              (3) 因氯化鋰在不同的液體濃度和溫度下會(huì)產(chǎn)生不同點(diǎn)的析離或結(jié)晶,因此 需要針對(duì)溶液特性控制溶液濃度,否則易造成循環(huán)泵毀損或噴嘴堵塞。

              (4) 需要定期補(bǔ)充,更換溶液。

              (5) 可殺菌并洗滌空氣。

          (6) 設(shè)置費(fèi)高,維護(hù)費(fèi)高。

          3-3-3 回轉(zhuǎn)型干式蜂巢狀轉(zhuǎn)盤

                以蜂巢結(jié)構(gòu)組成圓筒狀轉(zhuǎn)盤,再由特殊結(jié)晶加工法附著吸濕劑 ( 氯化鋰,矽膠、沸石等 ) 原料制成除濕轉(zhuǎn)盤。此除濕轉(zhuǎn)盤在隔成除濕區(qū)和再生區(qū)的箱體內(nèi)回轉(zhuǎn)。除濕用的空氣通過(guò)除濕區(qū),由轉(zhuǎn)盤吸收空氣中的水份,而得到干燥空氣。吸收水份后的除濕區(qū)依轉(zhuǎn)盤回轉(zhuǎn)移動(dòng)至再生區(qū),由再生加熱空氣帶出轉(zhuǎn)盤內(nèi)水份排出至室外,轉(zhuǎn)盤在再生區(qū)放出水份后回轉(zhuǎn)至除濕區(qū),如此除濕及再生同時(shí)連續(xù)進(jìn)行,可獲得穩(wěn)定的除濕空氣。(圖 -4 )

           ( 特性 )

              (1) 可獲得穩(wěn)定狀態(tài)的除濕空氣。

              (2) 濕度控制容易。

              (3) 依轉(zhuǎn)盤直徑大小,可制成各種不同風(fēng)量的機(jī)型。

              (4) 維護(hù)容易。

          吸濕的特性 )

          (1) 氯化鋰轉(zhuǎn)盤

               (a) 在中國(guó)臺(tái)灣潮濕氣候條件下,轉(zhuǎn)盤容易有過(guò)飽和現(xiàn)象致吸濕劑流出,或吸水不平衡致轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)產(chǎn)生擺動(dòng)。

               (b) 在相對(duì)濕度超過(guò) 75% 時(shí),需在除濕機(jī)入口處增設(shè)加熱器,降低入口空氣的相對(duì)濕度以避免吸濕劑過(guò)飽合。

              ( c )轉(zhuǎn)盤吸濕性能不佳時(shí)可重新加吸濕劑再生。

          (2) 矽膠轉(zhuǎn)盤 ( 蜂巢 SG 轉(zhuǎn)盤 )

                (a) 由于是吸附除濕,因此沒有轉(zhuǎn)盤的過(guò)飽和現(xiàn)象。

                (b) 不需要控制除濕入口空氣的相對(duì)濕度。

                (c) 可獲得低露點(diǎn)除濕 ( 一 60 度 Cdp) 空氣。

                (d) 轉(zhuǎn)盤可清洗。

          (3) 沸石轉(zhuǎn)盤 ( 蜂巢 Ms 轉(zhuǎn)盤 )

                (a) 可依吸附特性,用于高溫空氣的除濕。

                (b) 可獲得低露點(diǎn)除濕空氣。

                (c) 再生空氣溫度高。

                (d) 轉(zhuǎn)盤可清洗。

          3-3-4 除濕方式和露點(diǎn)溫度

          出口露點(diǎn)溫度以一般入風(fēng)規(guī)格為基準(zhǔn)

          除濕方式

          出口露點(diǎn)溫度

          特        征

          冷卻式   冰水 5 ℃

          1O ℃ DP

          設(shè)備費(fèi)小、運(yùn)轉(zhuǎn)費(fèi)大、控制容易,不適合低露點(diǎn)

          冷卻式   鹽水 3 ℃

          5 ℃   DP

          設(shè)備費(fèi)小、運(yùn)轉(zhuǎn)費(fèi)大、控制容易,不適臺(tái)低露點(diǎn)

          冷卻式   直膨

          5 ℃   DP

          設(shè)備費(fèi)小、控制容易,不適合低露點(diǎn)

          壓縮式

          -2O ℃   DP

          運(yùn)轉(zhuǎn)費(fèi)大、不適合大容量

          液體式

          -30 ℃    DP

          具有殺菌效果,適合大容量,維護(hù)費(fèi)大

          塔式     間歇性

          -60 ℃    DP

          設(shè)備及運(yùn)轉(zhuǎn)費(fèi)大,濕度不穩(wěn),可用于低露點(diǎn)

          干式


          構(gòu)造簡(jiǎn)單,系統(tǒng)化容易,控制容易

          LICL 轉(zhuǎn)盤

          -60 ℃    DP

          可用于連續(xù)低露點(diǎn),維護(hù)容易,不可清洗

          矽膠轉(zhuǎn)盤

          -60 ℃    DP

          可用于連續(xù)低露點(diǎn),維護(hù)容易,可清洗

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