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[供應(yīng)]Inspire HILIC(new) 返回列表頁
貨物所在地:上海上海
產(chǎn)地:品牌:Platisil
更新時間:2024-09-22 21:00:05
有效期:2024年9月22日 -- 2025年3月22日
已獲點擊:325
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產(chǎn)地:品牌:Platisil
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Inspire HILIC填料規(guī)格
抗病毒藥
Column: Inspire 5 µm Hilic, 150 × 4.6 mm Phase: MeCN:10 mM ammonium formate (pH 3.0) = 80:20 Flow Rate: 1.0 ml/min Temperature: Ambient Detection: UV 254 nm Sample: 1. Acyclovir 2. Ganciclovir | |
Column: Inspire 5 µm C18, 150 × 4.6 mm Phase: MeCN:10 mM ammonium formate (pH 3.0) = 5:95 Flow Rate: 1.0 ml/min Temperature: Ambient Detection: UV 254 nm Sample: 1. Acyclovir 2. Ganciclovir |
Inspire HILIC柱與其他商品柱對比
β-受體阻滯劑
色譜柱 如圖所示 規(guī)格 150 × 4.6 mm, 5 µm 流動相 乙腈/10 mM 甲酸銨(pH=3.0) = 85/15 流速 1.0 ml/min 溫度 室溫 檢測器 UV 220 nm 樣品 1. 普萘洛爾 2. 吲哚洛爾 3. 美托洛爾 4. 醋丁洛爾 5. 納多洛爾 |
色譜柱 如圖所示 規(guī)格 150 × 4.6 mm, 5 µm 流動相 乙腈/10mM甲酸銨(pH=3.0) = 95/5 流速 1.0 ml/min 溫度 室溫 檢測器 UV 254 nm 樣品 1. 茶堿 2. 3-甲基黃嘌呤 3. 7-甲基黃嘌呤 4. 1,3-二甲基尿酸 |
Inpire HILIC柱在HILIC模式下對極性化合物的保留變化
Column: Dikma Inspire HILIC
Dimension: 150×4.6 mm, 5 μm
Phase: A: MeCN B: 20 mM CH3COONH4 (pH 5.6)
Flow Rate: 1.0 ml/min
Temperature: Ambient
Detection: UV 215 nm
Sample: 1. 去甲替林 (Nortriptyline)
上圖為乙腈濃度對去甲替林保留時間的影響,當(dāng)流動相中有機(jī)相濃度增加時,去甲替林的保留時間逐漸減小,表現(xiàn)出反相色譜保留機(jī)理;隨著流動相中有機(jī)相濃度繼續(xù)增加,去甲替林保留時間減小到一極值點后開始逐漸增加,此時表現(xiàn)出正相色譜保留機(jī)理。該實驗表明Inspire HILIC色譜柱同時具有正相和反相色譜分離的能力,能夠同時分析分離不同極性化合物的混合物。
產(chǎn)品信息;
貨號 | 規(guī)格 | 價格(元) |
81430 | Inspire Hilic 3 μm 30 x 2.1 mm | 4190 |
81404 | Inspire Hilic 3 μm 50 x 2.1 mm | 4300 |
81412 | Inspire Hilic 3 μm 100 x 2.1 mm | 4410 |
81413 | Inspire Hilic 3 μm 150 x 2.1 mm | 4520 |
81415 | Inspire Hilic 3 μm 250 x 2.1 mm | 4630 |
81429 | Inspire Hilic 3 μm 30 x 3.0 mm | 4190 |
81421 | Inspire Hilic 3 μm 50 x 3.0 mm | 4300 |
81422 | Inspire Hilic 3 μm 100 x 3.0 mm | 4410 |
81423 | Inspire Hilic 3 μm 150 x 3.0 mm | 4520 |
81424 | Inspire Hilic 3 μm 250 x 3.0 mm | 4630 |
81431 | Inspire Hilic 3 μm 30 x 4.6 mm | 4190 |
81416 | Inspire Hilic 3 μm 50 x 4.6 mm | 4300 |
81417 | Inspire Hilic 3 μm 100 x 4.6 mm | 4410 |
81418 | Inspire Hilic 3 μm 150 x 4.6 mm | 4520 |
81420 | Inspire Hilic 3 μm 250 x 4.6 mm | 4630 |
81433 | Inspire Hilic 5 μm 30 x 2.1 mm | 4080 |
81403 | Inspire Hilic 5 μm 50 x 2.1 mm | 4190 |
81407 | Inspire Hilic 5 μm 100 x 2.1 mm | 4300 |
81402 | Inspire Hilic 5 μm 150 x 2.1 mm | 4410 |
81409 | Inspire Hilic 5 μm 250 x 2.1 mm | 4520 |
81432 | Inspire Hilic 5 μm 30 x 3.0 mm | 4080 |
81425 | Inspire Hilic 5 μm 50 x 3.0 mm | 4190 |
81426 | Inspire Hilic 5 μm 100 x 3.0 mm | 4300 |
81427 | Inspire Hilic 5 μm 150 x 3.0 mm | 4410 |
81428 | Inspire Hilic 5 μm 250 x 3.0 mm | 4520 |
81434 | Inspire Hilic 5 μm 30 x 4.6 mm | 4080 |
81410 | Inspire Hilic 5 μm 50 x 4.6 mm | 4190 |
81411 | Inspire Hilic 5 μm 100 x 4.6 mm | 4300 |
81401 | Inspire Hilic 5 μm 150 x 4.6 mm | 4410 |
81406 | Inspire Hilic 5 μm 250 x 4.6 mm | 4520 |
5 μm & 10 μm 半制備柱 | ||
81438 | Inspire Hilic 5 μm 250 x 10.0 mm | |
81445 | Inspire Hilic 5 μm 150 x 21.2 mm | |
81439 | Inspire Hilic 5 μm 250 x 21.2 mm | |
81435 | Inspire Hilic 10 μm 250 x 4.6 mm | |
81436 | Inspire Hilic 10 μm 250 x 10.0 mm | |
81446 | Inspire Hilic10 μm 150 x 21.2 mm | |
81437 | Inspire Hilic 10 μm 250 x 21.2 mm |
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