說(shuō)起中芯長(zhǎng)電與高通之間的協(xié)作，就不得不提下我國(guó)半導(dǎo)體的企業(yè)中芯世界，它zui初成立于2000年，并于2014年臨危受命于我國(guó)政府，獲得了高達(dá)300億的半導(dǎo)體工業(yè)基金支撐，企圖用錢(qián)砸出具有我國(guó)自己技能產(chǎn)權(quán)的半導(dǎo)體工藝技能，不過(guò)因?yàn)榍捌诩寄芏鸭?，技能要落后于臺(tái)積電等世界*企業(yè)。

  中芯長(zhǎng)電敞開(kāi)了出產(chǎn)代工晶圓之路，是選用集成電路前段芯片制作系統(tǒng)和標(biāo)準(zhǔn)，選用獨(dú)立專(zhuān)業(yè)代工形式效勞客戶的中段硅片制作企業(yè)。以先進(jìn)的12英寸凸塊和再布線加工起步，主要供給中段硅片制作和測(cè)試效勞，并進(jìn)一步開(kāi)展先進(jìn)的三維系統(tǒng)集成芯片業(yè)務(wù)。

<p font-size:14px;text-align:justify;"="" style="word-wrap: break-word; margin: 5px 0px; font-family: &quot;sans serif&quot;, tahoma, verdana, helvetica; font-size: 12px;">  10nm工藝我們就聽(tīng)得到多了，就是從晶圓上刻畫(huà)出電路的時(shí)運(yùn)用的光刻光源波長(zhǎng)，而這個(gè)10nm晶圓凸塊封裝技能又是什么呢?本來(lái)晶圓從晶圓廠中刻畫(huà)好電路后，變成了一個(gè)個(gè)Die，這些Die還需要進(jìn)一步加工，利用薄膜、光刻、電鍍及蝕刻工序在Die上制作引腳，這種工藝技能稱之為Bumping(凸塊)，一般常見(jiàn)于BGA封裝IC上，此技能可大幅縮小IC的體積，并具有密度大、低感應(yīng)、低成本、散熱才能佳等長(zhǎng)處。