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MAIA3掃描電子顯微鏡多功能探測器及高空間分辨率，使 MAIA3 型超高分辨掃描電鏡能觀察到樣品精細的表面細節(jié)。這對于納米材料的綜合表征，半導體工業(yè)中對電子束敏感樣品及未鍍膜的生物樣品等非導電樣品的成像都非常適合。

MAIA3掃描電子顯微鏡

突出特點

Triglav™- 新型超高分辨率(UHR) 電子光學鏡筒

• TriLens™ 物鏡系統(tǒng)：*的電子束無交叉模式與三物鏡相結(jié)合；
• 具有多個 SE 及 BSE 探測器的探測系統(tǒng)；
  • TriSE™+TriBE™
• Triglav™ - 低加速電壓下的超高分辨率: 1 nm ( 1 keV ), 0.7 nm ( 15 keV )；
• EquiPower™技術進一步提高電子束的穩(wěn)定性；
• 電子束流高達 400 nA，并能實現(xiàn)電子束能量的快速改變；
• 優(yōu)化的鏡筒幾何設計大可容納8”晶圓
• 實時電子束追蹤技術（In-Flight Beam Tracing™)可對電子束實時優(yōu)化；
• 擴展的低真空模式，樣品室氣壓能達到 500 Pa，實現(xiàn)不導電樣品的觀測；

• TriBE™具有三個 BSE 探測器，可以選擇不同立體角的信號進行采集。位于鏡筒內(nèi)部的 Mid-Angle BSE 和 In-Beam LE-BSE 探測器，分別用于檢測中角及軸向的高角背散射電子，而樣品室的 BSE 探測器用于探測低角背散射電子。三個探測器可以提供不同襯度的圖像，并且能探測到低于 200 eV 的低能背散射信號；
• TriSE™具有三個 SE 探測器，所有工作模式下二次電子信號的采集都進行了優(yōu)化。位于鏡筒內(nèi)部的 In-Beam SE 探測器能在短工作距離下采集二次電子，SE ( BDM ) 探測器用于電子束減速模式下的超高分辨成像。In-Chamber SE 探測器能提供形貌襯度和立體感；
• 電子束減速技術（BDT）可在低至 50 eV 的低電子束能量下實現(xiàn)出色的分辨率（選配）。

MAIA3