產(chǎn)品分類品牌分類
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IT-M3600系列 回饋式源載系統(tǒng) IT-M3200系列 高精度可編程直流電源 IT-M3900B系列 回饋式源載系統(tǒng) IT6000C系列 雙向可編程直流電源 IT-N6900系列 可編程直流電源 IT-M3140高功率密度可編程直流電源 IT-M3100系列 靈巧型寬量程直流電源 IT-N2100 系列太陽能陣列模擬器 IT6000PV太陽能陣列模擬器 IT6600C系列 雙向可編程直流電源 IT6600D系列 大功率可編程直流電源 IT6600PV系列 太陽能陣列模擬器 IT2700多通道源載模組系統(tǒng) IT8600系列 交/直流電子負載 IT2800系列高精密源測量單元 IT9120 系列功率表 IT8912E LED測試可編程直流電子負載 IT8500+系列 可編程直流電子負載 IT8500系列 可編程直流電子負載 IT8200系列 回饋式交/直流電子負載 IT-M7700系列 IT7300系列 IT6900A系列 寬范圍可編程直流電源 IT6500系列 寬范圍大功率可編程直流電源 IT6300系列 高性能三路可編程直流電源
產(chǎn)品簡介
全新RTC系列超級標準干體爐共有三個型號-A型、B型和C型:
RTC-A標準干體爐
RTC-B標準干體爐帶參考探頭、DLC探頭和信號測試接口
RTC-C標準干體爐帶參考探頭和DLC探頭
詳細介紹
阿美特克RTC-156C|RTC-156C干體爐的詳細說明:
JOFRA RTC 系列超級標準干體爐 | |
阿美特克一直不斷研發(fā)新技術(shù)來改善JOFRA干體爐的性能、精度、易用性和功能性,這使我們一直保持著在干式溫度校準領(lǐng)域的。
我們很榮幸地發(fā)布全新的RTC型超級標準干體爐——一臺比任何其他產(chǎn)品都更*的干體爐,一臺迄今為止的干體爐。
全新RTC系列超級標準干體爐共有三個型號-A型、B型和C型:阿美特克RTC-156A.B.C
RTC的特點
高精度 RTC-156B157精度高達0.04℃,RTC-700精度達0.11℃(配外接標準探頭時)
的穩(wěn)定性: 0.005°C(RTC-156/157) 0.008°C(RTC-700)
更好的溫度*性 *的雙區(qū)/三區(qū)(僅RTC-700)加熱井確保了的溫度*性
DLC動態(tài)負載補償功能 申請中! 即使校準大尺寸傳感器或者多支傳感器時,也能保證套管內(nèi)的溫場均勻*(僅B型和C型)
溫度*性顯示 當使用DLC技術(shù)時,可以在屏幕上顯示套管內(nèi)溫度*性的狀況(僅B型和C型)
智能參考探頭 JOFRA參考探頭配備了智能接頭,內(nèi)置芯片保存了校準數(shù)據(jù)(溫度修正參數(shù))等信息。這是一個真正的即插即用校準系統(tǒng)
阿美特克RTC-156C|RTC-156C干體爐USB通訊 所有RTC型干體爐都可以通過USB接口和計算機進行連接通訊
效率提升 可快速加熱/制冷,有效提升工作效率,RTC-700更具備的快速冷卻技術(shù),大大改善傳統(tǒng)高溫干體爐降溫速度慢的弊病。
EURAMET 根據(jù)歐洲國家計量協(xié)會的EURAMET/cg-13/v.01規(guī)范,RTC是現(xiàn)有干式爐中性能的。
阿美特克RTC-156C|RTC-156C干體爐*的溫度性能 RTC 系列干體爐可以對各種型號和類型的溫度探頭進行精密校準.這得益于它所采用的創(chuàng)新的雙區(qū)加熱技術(shù).
所有的JOFRA RTC 系列干體爐都具有雙區(qū)加熱功能(RTC-700具備三區(qū)加熱功能). 每個加熱區(qū)都可以單獨控制進行精確的溫度測量.在加熱塊底部的溫度*性非常接近于實驗室液體槽的指標.下面的加熱區(qū)域保證整個加熱塊合適的熱量消耗,上面的加熱區(qū)域補償加熱體上部和被測傳感器的熱量損失.這種設(shè)計無需隔熱被測探頭,可以校準充液式或其他機械式的探頭。
申請中!! DLC – 動態(tài)負載補償技術(shù) 為了配合雙區(qū)加熱技術(shù)實現(xiàn)更好的溫場*性,我們研發(fā)了DLC(動態(tài)負載補償)技術(shù),目前該正在申請中。
在此新技術(shù)下,校準系統(tǒng)的精度將不會受到傳感器負載的影響,特別是在校準多支或者大型傳感器時。為實現(xiàn)此功能,我們研發(fā)了一種新的DLC探頭來動態(tài)補償負載的影響。
RTC干體爐配備的動態(tài)雙區(qū)加熱技術(shù)可使套管頂部和底部的溫度保持*,使二者之間的溫差zui小化。
而DLC技術(shù)則不僅僅控制加熱井的溫場*性,也控制著套管內(nèi)的溫場*性。DLC探頭監(jiān)控著套管內(nèi)溫場的細微變化,并且將數(shù)據(jù)反饋至雙區(qū)加熱系統(tǒng),由后者對溫場進行動態(tài)補償。這樣,DLC技術(shù)可使溫場*性不受負載多少的影響。
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