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PECVD等離子體增強氣相沉積的設備特點和技術的基本要求
PECVD等離子體增強氣相沉積是利用氣象中發(fā)生的物理、化學過程，改變工件表面成分，在表面形成具有特殊性能的金屬或者化合物涂層的新技術。
PECVD等離子體增強氣相沉積的設備特點：
1、高真空系統(tǒng)由雙級旋片真空泵和分子泵組成；
2、可配合壓強控制儀控制氣體壓力，實現(xiàn)負壓的控制；
3、數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng)是由多路質(zhì)量流量計，流量顯示儀等組成，實現(xiàn)氣體的流量的測量和控制；
4、每條氣體管路均配備高壓逆止閥，保證系統(tǒng)的安全性和連續(xù)均勻性；
5、采用KF快速法蘭密封，裝卸方便快捷；
6、管路采用卡套連接，不漏氣；
7、超溫、過壓時，自動切斷加熱電源及流量計進氣；
8、PECVD借助射頻等使含有薄膜組成原子的氣體，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，更容易發(fā)生反應。
PECVD等離子體增強氣相沉積技術的基本要求：
使用CVD技術沉積目標產(chǎn)物時，其目標產(chǎn)物、原材料及反應類型的選擇通常要遵循以下3項原則：
?。?）原材料在較低溫度下應具有較高的蒸氣壓且易于揮發(fā)成蒸汽并具有很高的純度，簡而言之原材料揮發(fā)成氣態(tài)的溫度不宜過高。
?。?）通過反應類型和原材料的選擇盡量避免副產(chǎn)物的生成，若有副產(chǎn)物的存在，在反應溫度下副產(chǎn)物應易揮發(fā)為氣態(tài)，這樣易于排出或分離。
?。?）盡量選擇沉積溫度低的反應沉積目標產(chǎn)物，因大多數(shù)基體材料無法承受CVD的高溫。
?。?）反應過程盡量簡單易于控制。