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02-28薄膜沉積設(shè)備解析——PECVD設(shè)備的原理和應(yīng)用
薄膜沉積是在半導(dǎo)體的主要襯底材料上鍍一層膜。這層膜可以有各種各樣的材料,比如絕緣化合物二氧化硅,半導(dǎo)體多晶硅、金屬銅等。用來鍍膜的這個設(shè)備就叫薄膜沉積設(shè)備。從半導(dǎo)體芯片制作工藝流程來說,位于前道工藝中...2023
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