當前位置:上海添時科學儀器有限公司>>CVD氣相沉積>>等離子體增強CVD管爐>> OTF-1200X-II-PEC41200℃等離子增強HPCVD回轉爐系統(tǒng)
設備名稱
1200℃等離子增強HPCVD回轉爐系統(tǒng)—OTF-1200X-II-PEC4
產品提示
1、多種配件可選提示 2、特殊設備尺寸設備 3、科晶實驗室邀請?zhí)崾?nbsp; 4、配件妥善保管提示
產品特點
? 爐體可在0 ~ 25°內傾斜有利于粉末樣品的裝入和取出
? 射頻電源可實現等離子增強從而顯著降低實驗溫度
? 齒輪驅動管式爐旋轉可有效地提高復合粉末熱處理的均勻性
? 4通道質子流量計控制系統(tǒng)可以對氣體的輸送進行精確的調控
? 集成在前端的帶鎢絲加熱的坩堝舟可以對前驅體進行蒸發(fā)用于后續(xù)的混合物理化學氣相沉積階段。
加熱爐參數
? 最高溫度:1200oC(<30min),連續(xù)工作溫度:1100℃;
? 兩個PID溫度控制器及30段可編程溫控系統(tǒng);
? 輸入功率:208-240V,單相,最大功率:2.5KW;
? 高純氧化鋁纖維保溫層可以最大限度降低能耗;
? 回轉爐旋轉速度:2-10rpm;
? 爐體開啟式設計,以達到對樣品快速降溫,方便更換爐管。
蒸發(fā)舟參數
? 0.7mL氧化鋁坩堝(由鎢絲加熱圈包圍);
? S型熱電偶插入坩堝中實現對蒸發(fā)物料的精確測溫;
? 最高溫度可達1300℃(<1h),長期使用溫度:1200℃(當管內溫度達800℃時,蒸發(fā)舟溫度可達1500℃)。
射頻電源
真空系統(tǒng)
? 采用TRP-12的雙旋真空泵;
? KF25卡箍及波紋管用于連接管式爐與真空泵;
? 真空度可達10-2Torr。
供氣系統(tǒng)
? 四通道質子流量計控制系統(tǒng)可實現氣體流量的精確控制(精確度:±0.02%);
? 流量范圍:一路 0-100 sccm二路 0-200 sccm三路 0-200 sccm四路 0-500 sccm
? 電壓:208-240V, AC, 50/60Hz;
? 氣體進出口配件:6mm OD的聚四氟管或不銹鋼管;
? 不銹鋼針閥用于手動控制氣體進出;
? PLC觸摸屏可以簡便地進行氣體流量設置。
產品尺寸和重量
? 爐體尺寸:2800mm L ′ 800mm W ′1700mm H;
? 混氣系統(tǒng)尺寸:600mmL′850mm W′700mm
? 凈重:180kg
承諾
? 一年質保期,終身維護(不包括爐管、硅膠密封圈和加熱元件)
? 因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內。