當(dāng)前位置:上海添時科學(xué)儀器有限公司>>CVD氣相沉積>>ALD管式爐系統(tǒng)>> ALD-1200X-4雙通道ALD管式爐系統(tǒng)
控制面板
· 蒸汽壓力、ALD以及氣體流量參數(shù)均可通過一6英寸接觸屏由PLC進(jìn)行控制
· 兩個ALD進(jìn)氣閥
· 請點擊下圖查看控制面板(點擊圖片查看詳細(xì)資料)
ALD進(jìn)氣閥
兩個ALD脈沖電磁閥(最小可在10ms完成閥門的開啟或關(guān)閉)
精密液體氣相發(fā)生器
精密液體氣相發(fā)生器包含在本系統(tǒng)中并且連接到ALD進(jìn)氣閥
雙溫區(qū)管式爐
· 連續(xù)工作的最高溫度為1100℃
· 兩個溫區(qū)由兩個獨立的溫控系統(tǒng)來控制,而且都為PID30段程序化控溫
· 每個加熱區(qū)長度為200mm,加熱區(qū)總長度為400mm
· 爐管兩端放置管堵時兩溫區(qū)的最大溫度差為500℃
· 輸入電壓:208-240V AC,單向最大功率為4KW
防腐型數(shù)顯真空計
· 測量范圍:3.8x10-5 -1125 Torr
· 耐腐蝕
· 對于氣體的壓力檢測具有較高的精確度和重復(fù)性
· 可實現(xiàn)快速的氣體監(jiān)測,響應(yīng)時間較短易于更換插頭及傳感元件
真空泵(選配)
· 管內(nèi)真空度可達(dá)10-2Torr 真空泵不包含在本系統(tǒng)內(nèi),如您進(jìn)行CVD實驗可點擊下圖選購無油渦旋真空泵
混氣系統(tǒng)
· 可選購氣液混合裝置,用于CVD系統(tǒng)
· 可選購恒溫控制模塊
更新觀念
· 您可采用ALD設(shè)備搭建等離子增強原子層沉積+化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PE-ALD+CVD)和等離子增強原子層沉積+物理氣相沉積+化學(xué)氣相沉積ALD+PVD+CVD),用于生長各類材料
質(zhì)保期
一年保質(zhì)期,終身維護(hù)(不包含爐管,加熱元件和密封圈)
質(zhì)量認(rèn)證
· 如您另付費用,我們可保證單臺儀器通過TUV(UL61010)或CSA認(rèn)證
注意事項
· 爐管內(nèi)氣壓不可高于0.02MPa· 由于氣瓶內(nèi)部氣壓較高,所以向爐管內(nèi)通入氣體時,氣瓶上必須安裝減壓閥,建議在本公司選購減壓閥,本公司減壓閥量程為0.01MPa 會更加精確安全· 當(dāng)爐體溫度高于1000℃時,爐管內(nèi)不可處于真空狀態(tài),爐管內(nèi)的氣壓需和大氣壓相當(dāng),保持在常壓狀態(tài)· 進(jìn)入爐管的氣體流量需小于200SCCM,以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊· 點擊此處了解如何選擇本公司石英/陶瓷管以及管式爐真空法蘭本公司有權(quán)隨時修改PE-CVD系統(tǒng)的設(shè)計不再另行通知,但我們保證修改之后的儀器質(zhì)量可以達(dá)到和超過上述標(biāo)準(zhǔn)